摘要
利用激光诱导化学镀技术,首次在硅片上沉积出金属镍。研究了沉积速率与各实验参量的关系,并对积沉斑的形状进行了分析和讨论。
Deposition of metallic nickel on silicon substrate by laser-enhanced electroless plating technique is reported for the first time. The dependence of deposition rate on other experimental parameters is studied and the firgures of deposited spots are analyzed and discussed.
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第10期627-629,共3页
Chinese Journal of Lasers
基金
国家自然科学基金资助项目
