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Teflon AF/非线性光学聚合物驻极体双层膜的极化稳定性 被引量:2

THE POLING STABILITY OF TEFLON AF/NON\|LINEAR OPTICAL POLYMER ELECTRET DOUBLE\|LAYER FILM 
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摘要 提出制备 Teflon A F/ 非线性光学聚合物驻极体双层膜系统来提高主客体掺杂型非线性光学聚合物驻极体中偶极分子的有序取向稳定性的设想.样品用恒压电晕充电法极化,通过测量电光效应的等温衰减监测偶极子有序取向稳定性,用开路热刺激放电、等温表面电位衰减测量等手段分析了材料的电荷动态特性.结果表明双层膜系统中偶极分子有序取向稳定性明显优于单层非线性光学聚合物驻极体,其松弛规律可用 K W W 扩展指数函数来描述. The Teflon AF/NLO polymer electret double\|layer system was presented in order to improve the stability of preferential dipole orientation in the NLO polymer electret layer. The polarization stability of the samples poled by constant voltage corona charging was investigated by means of measuring the open\|circuit thermally stimulated discharge current\|temperature spectrum, the electro\| optical coefficient and the isothermal surface potential decay. The results indicated that the stability of preferential dipole orientation of the NLO polymer layer could be improved in the double\|layer film system, and the orientational relaxation rule could be described by the Kohlrausch\|Williams\|Watts stretched exponential function. PACC: 4270; 7730; 7220J
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第9期1676-1681,共6页 Acta Physica Sinica
基金 国家自然科学基金
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参考文献5

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  • 5Teng C C,Appl Phys Lett,1990年,56卷,1734页

同被引文献8

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  • 4Teng C C,Appl Phys Lett,1990年,56卷,1734页
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  • 8Teng C C,Appl Phys Lett,1990年,56卷,18期,1734页

引证文献2

二级引证文献3

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