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光学多层膜减小电场强度的一种新设计方法 被引量:6

A New Design Method for Reducing Electric Field Intensity in Optical Multi Layer Film
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摘要 制作高损伤阈值光学薄膜不仅需要沉积工艺有所突破,而且需要膜系设计也有所改进,用于减少强激光对薄膜的损伤因素。本文提出了一种计算机算法用于改善光学多层膜内驻波场分布,削弱电场强度对薄膜的损伤。其物理概念清晰,理论推导、算法编程实现简单。 In manufacturing of high damage threshold optical thin film,not only a breakthrough is needed in depositing technology,but also some improvements in films design for reducing the damage factors of high energy laser on thin film are needed.A computer algorithm used for improving the distribution of station wave field and reducing the damage of electric field on optical multi layer film is put forward in the paper.Its physical concept is clear,theoretical derivation and the implementation of algorithm programming are simple.
作者 孔明东
出处 《光电工程》 CAS CSCD 1999年第1期55-59,共5页 Opto-Electronic Engineering
关键词 电场强度 抗激光薄膜 激光损伤 薄膜 设计 Electric field strength,Antilaser films,Laser damage.
  • 相关文献

参考文献2

  • 1李丹,硕士学位论文,1997年
  • 2唐晋发,应用薄膜光学,1984年,205页

同被引文献86

引证文献6

二级引证文献14

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