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直流电弧等离子体喷射法制备金刚石薄膜
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摘要
金刚石是一种性能非常优异的功能材料。近年来在低压下由气相沉积合成金刚石薄膜的研究引起了很多国家和科学技术工作者的兴趣。 我们设计的低压直流电弧等离子体喷射装置制备出的金刚石薄膜有较高的沉积速度,结构良好。
作者
阎震
李荣志
朱鹤孙
机构地区
北京理工大学材料科学研究中心
出处
《北京理工大学学报》
EI
CAS
CSCD
1989年第3期18-18,共1页
Transactions of Beijing Institute of Technology
关键词
金刚石薄膜
电弧等离子体
喷射法
分类号
O635.1 [理学—高分子化学]
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1989年 第3期
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