阴极弧源
-
1周细应,陈凯旋.外加磁场对多弧离子镀阴极弧源镀膜性能的影响[J].国外金属加工,1993(4):58-62.
-
2周兴灵,彭卫珍,周书助.(Cr_(0.72),Al_(0.28))N涂层的微观组织结构及力学性能研究[J].硬质合金,2008,25(2):82-84. 被引量：5
-
3张际先.反应阴极弧镀过程中N_2流量与弧电流强度对TiN镀层的影响[J].江苏理工大学学报（自然科学版）,1995,16(6):6-10.
-
4马民.用阴极弧等离子体沉积合成的（TiAl）N薄膜的高温耐磨性[J].等离子体应用技术快报,1998(2):19-20. 被引量：1
-
5康卫红.阴极弧等离子体沉积的CrN涂层的高温和腐蚀性能[J].等离子体应用技术快报,1995(5):18-19.
-
6刘敏,解宇,孔凡让.磁过滤真空阴极弧沉积技术制备及在刀具上的实验[J].制造技术与机床,2012(12):133-135. 被引量：1
-
7魏永强,巩春志,田修波,杨士勤.阴极弧径向不同位置膜层性能分布规律[J].稀有金属材料与工程,2009,38(5):788-793. 被引量：4
-
8胡志杰,李争显,王宝云,严鹏.工艺参数对Ti合金表面电弧离子镀TiAlN涂层的性能影响[J].热加工工艺,2008,37(12):109-112. 被引量：12
-
9郎文昌,赵彦辉,肖金泉,宫骏,孙超,于宝海,闻立时.旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响[J].真空科学与技术学报,2015,35(3):316-322. 被引量：3
-
10何静,张志奎.厚膜TiN组织及性能的研究[J].导航与控制,2003,10(1):55-58. 被引量：1
;
