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铝合金氧化膜阻抗谱图的研究 被引量:1

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摘要 本实验分别测定了由硫酸氧化法制备的铝合金氧化膜封闭前后在K_2SO_4溶液中的交流阻抗谱(Bode图),由阻抗谱分析获得了有关阻挡层的几何尺寸、阻挡层和多孔层以及封闭产物的电学性质、时效对氧化膜的影响等信息。这些结果与迄今为止的对氧化膜构造的认识是一致的,交流阻抗谱技术在氧化膜结构、封闭机理和质量的研究中,有理论和应用两方面的价值。
作者 刘钧泉 简初
机构地区 华南理工大学
出处 《轻合金加工技术》 CAS 北大核心 1990年第11期30-34,共5页 Light Alloy Fabrication Technology
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