摘要
针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法，并获得了满意的实验结果。
In view of the features of the optical proximity effect in laser direct writing,a fast effective method for correcting optical proximity effect through data compensation in advance in laser direct writing is put forward,and the satisfactory results are obtained.
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1998年第6期51-54,共4页
Opto-Electronic Engineering
基金
国家自然科学基金
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助
关键词
激光直写
邻近效应
激光光刻
Laser direct write,Proximity effect,Exposure,Laser photoetching
