摘要
介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等，并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。
The operating mode,basic constitution,main performances and application range of the first imported laser direct write system of the State Key Laboratory of Optical Technology for Microfabrication are introduced.Some mask patterns made by the equipment are given.
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期27-31,共5页
Opto-Electronic Engineering
基金
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室基金
关键词
激光直写
掩模
二元光学
激光光刻机
Laser direct write,Masks,Binary optics,Laser photoetching machines.
