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热壁LPCVD多晶硅膜的质量分析
被引量：
5
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摘要
对就热壁ＬＰＣＶＤ多晶硅的基本原理、典型淀积条件、掺杂、均匀性，引起多晶硅膜层表面“发乌”、“发雾”的原因和提高多晶硅膜质量的工艺措施作了分析和研究。
作者
程开富
机构地区
重庆光电技术研究所
出处
《电子工业专用设备》
1998年第4期37-41,44,共6页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
热壁LPCVD
多晶硅膜
质量分析
制造工艺
IC
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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