摘要
借助XRD、SEM、纳米压痕和划痕仪研究了采用磁控溅射在硬质合金基体上沉积的TiN单层和TiN/Ti(C,N)多层涂层的组织结构和力学性能。研究表明:TiN与TiN/Ti(C,N)多层涂层的晶粒形貌均呈柱状晶结构,而TiN/Ti(C,N)多层涂层形成了TiN、Ti(C,N)交替的调制结构。由于界面强化作用,TiN/Ti(C,N)多层涂层表现出比TiN更高的硬度及与基体更好的结合力。
Magnetron sputtered TiN single layer and TiN/Ti（C,N） multilayer coatings grown on cemented carbide substrates have been characterized by using X-ray diffraction （XRD）, scanning electron spectroscopy （SEM） and nanoindentation, scratcher. Results show that TiN single layer and TiN/Ti （C,N） multilayer coatings exhibit columnar structure. The modulation structure comprised of TiN and Ti （C,N） layers has been formed in the TiN/Ti （C,N） multilayer coating. Compared to TiN coating, TiN/Ti （C,N） coating behaves higher hardness and better cohesive strength due to the interficial strength.
出处
《硬质合金》
CAS
北大核心
2010年第1期5-8,共4页
Cemented Carbides
