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低温等离子复合技术淀积Al2O3膜的研究
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摘要
利用真空技术,低能离子束刻蚀技术和射频磁控溅射相结合组成的低温等离子复合技术,在软磁材料表面获得了性能优良,且满足工业生产要求的Al2O3绝缘膜,本文介绍了复合技术成膜装置特点及该Al2O3膜的特点,利用的扫描电子显微镜,透射电镜及X射线光电子能谱仪对该膜进行了分析,试验结果认为该膜的物理特性,电学特性及机械特性是优异的,对于该膜的半工业性试验也进行了研究。
作者
林锡刚
师勉恭
机构地区
四川联合大学原子核科学技术研究所
出处
《四川真空》
1998年第2期11-16,共6页
关键词
低温等离子复合
软磁材料
薄膜沉积
氧化铝
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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四川真空
1998年 第2期
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