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多弧离子沉积(TiFeCr)N多元膜 被引量:24

(TiFeCr)N Films Deposited by Multi arc Ion Plating
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摘要 研究了多弧离子沉积(TiFeCr)N多元膜的性能,并与同一设备下沉积TiN膜的性能进行比较。结果表明,(TiFeCr)N多元膜的力学性能和耐蚀性能均优于TiN膜。定量金相分析结果表明,(TiFeCr)N多元膜的孔隙度比TiN膜低得多。文中对多元膜的强化机理进行了讨论,认为孔隙度降低是使多元膜性能大幅度提高的主要原因。 TiFeCr)N films are deposited by multi arc ion plating and the properties are studied.The results show that the mechanical properties and the corrosion resistance of (TiFeCr)N films are significantly higher than those of TiN films,that the porosity of (TiFeCr)N is much lower than that of TiN.The reasons of improvement on properties of the multi component films are also discussed.The lower porosity is thought to be one of the main reasons
出处 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期3-5,共3页 Heat Treatment of Metals
关键词 多弧离子镀 多元膜 高速钢基体 氮化物 薄膜 multi arc ion plating,(TiFeCr)N films,high speed steel substrate
  • 相关文献

参考文献3

  • 1罗广南,金属热处理,1996年,5期,3页
  • 2Yu Zhiming,Sci Technol A,1995年,13卷,5期,2303页
  • 3遇衍澄,薄膜科学与技术,1995年,8卷,3期,241页

同被引文献143

引证文献24

二级引证文献117

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