真空电子用纯铜制品表面处理工艺研究被引量：1

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摘要 1 引言真空电子用纯铜制品需要具有精蜜的尺寸和十分清洁的表面,这就对机加工后的表面处理工艺提出了很高的要求。传统的工艺多采用铬酸—硫酸型与硝酸—硫酸—盐酸型化学抛光及铬酐溶液钝化法处理铜制品。

作者徐俊陈洪冰

机构地区江苏省冶金研究所

出处《江苏冶金》 1998年第1期26-27,31,共3页 Jiangsu Metallurgy

关键词真空电子纯铜制品表面处理化学抛光

分类号 TG178 [金属学及工艺—金属表面处理] TN104.1 [电子电信—物理电子学]

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