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掺硼金刚石薄膜电极在检测抗坏血酸中的应用

B-doped diamond film electrodes in the application of ascorbic acid
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摘要 采用掺硼的金刚石薄膜电极作为工作电极,对底液为1.0 mol/L的KCl溶液中的抗坏血酸进行了循环伏安以及阳极溶出法进行了检测.得到检测限为6.4×10-6mol/L,线性范围为8.0×10-6mol/L^3.1×10-4mol/L,相关系数为0.978.实验结果表明应用掺硼金刚石薄膜电极与其他电极的检测结果相差不大,且在电极再生性方面存在巨大的优势,使电极寿命更长,具有极好的应用前景. In this paper, we use the boron-doped diamond thin film electrode as a working electrode, at the solution of the 1.0 mol/L KCI. We test ascorbic acid with cyclic voltammetry and anodized scanning, having gotten get the detection limit of 6.4 ×10^-6mol/L, the linear range of 8.0 ×10^-6mol/L - 3.1 ×10^-4mol/L, a correlation coefficient of 0. 978. The results show that application of boron-doped diamond thin film electrode has little different with the other electrode, and in terms of electrode renewable there is a huge advantage. Also, the longer electrode life and excellent prospects have abtained.
出处 《天津理工大学学报》 2008年第3期11-13,共3页 Journal of Tianjin University of Technology
基金 天津市重大科技攻关项目(06YFGZGX00300) 天津市薄膜电子与通信器件重点实验室资助(06TXTJK14700)
关键词 阳极化扫描 循环伏安法 抗坏血酸 金刚石电极 anodized scanning cyclic voltammetry ascorbic acid diamond electrode
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