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纳米硅薄膜中量子点的库仑阻塞效应 被引量:1

Columb Blockade Effect of Quantum Dots in the nc-Si: H Film
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摘要 用纳米硅薄膜制成了共振隧穿量子点二极管,在77K温度下对其I-V特性进行了测量,得到了具有共振隧穿特征的实验结果。对实验结果分析表明,纳米尺寸晶粒构成的量子点具有库仑阻塞效应。 The quantum dot diode is fabricated by using nc-Si:H film. The I-V characteristic is measured, and resonant tunneling phenomenon is observed. The results show that the quantum dots in nanocrystalline silicon result in Columb blockade effect.
出处 《西安理工大学学报》 CAS 1997年第2期118-122,共5页 Journal of Xi'an University of Technology
基金 机械工业部科技基金 西安理工大学博士科研启动基金
关键词 纳米硅 量子点 库仓阻塞效应 薄膜 nanocrystalline silicon quantum dot Columb blockade effect
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