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辉光放电等离子体源离子注入的蒙特卡罗模拟

A MONTE CARLO SIMULATION FOR IONS BOMBARDING THE TARGET IN A GLOW DISCHARGE PLASMA SOURCE
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摘要 用蒙特卡罗方法,模拟计算了辉光放电等离子体源离子注入平面靶表面的能量分布和入射角分布。研究了靶室不同气压和不同温度下能量分布和入射角分布的变化。 A Monte Carlo method is described for studying the energy and angle distributions of N + and N + 2 ions which are in the ion sheath of a glow discharge and are accelerated by a pulsed voltage when arriving at the cathode surface of the target. The changes of the ion energy and angle distributions under different gas pressures and temperatures in the target chamber are given.
作者 李百贵
机构地区 河北大学物理系
出处 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 1997年第4期12-18,共7页 Nuclear Fusion and Plasma Physics
基金 河北省教委科学研究计划基金
关键词 辉光放电 离子注入 蒙特卡罗方法 等离子体源 Glow discharge Ion implantation Monte Carlo method
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Wang Dezhen,J Appl Phys,1993年,73卷,9期,4171页
  • 2傅慈海,物理电子技术原理,1991年,146页
  • 3胡志强,气体电子学,1985年,88页

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