期刊文献+

表面电荷效应对场限环优化设计的影响

Surface Charge Effect on the Optimum Design of the Floating Field Limiting Ring Structure
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 本文利用计及表面电荷的柱面结电场分布表达式,并根据场限环优化条件,首次建立了单场限环表面电荷效应优化模型,得到了考虑表面电荷效应后,优化单场限环洁构击穿电压以及优化环间距的归一化计算公式。分析了表面电荷密度对场限环结构耐压和优化环间距的影响,计算结果与文献中的数值模拟结果相符合,推得的公式可应用于场限环结构的实际设计。 In this paper, the normalized expressions of breakdown voltage and optimum ring spacing of single floating field limiting ring (FFLR) structure are derived by use of the formu1a of electric field including the surface charge in the cylindrical P+ - N junction.The accuracies of the analytical expressions are verified by comparison with the mumerical simulation results in the published paper. This approach can be used directly and conviently in the optimum desing for FFLR's structures.
出处 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 1997年第4期1-4,共4页 Microelectronics & Computer
基金 国家自然科学基金
关键词 场限环 表面电荷 电荷效应 功率器件 Field liming ring, Surface charge,Breakdown voltage, Ring spacing
  • 相关文献

参考文献2

  • 1陈星弼,功率MOSFET与高压集成电路,1990年
  • 2陈星弼,电子学报,1988年,16卷,5期,14页

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部