期刊文献+

化学镀铜新工艺 被引量:15

Study on Electroless Copper Plating
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 优化了以甲醛为还原剂,EDTA为络合剂的碱性化学镀铜的基本配方。探讨了铅、锰、镍、锌、钙、锶等金属离子及铵离子对镀速和镀层耐磨损性能、耐剥离性能的影响。结果表明,铅离子的加入在基本不影响镀速的情况下,大大提高了镀层的耐磨损性能和耐剥离性能。还研究了在不同温度条件的热处理对化学镀铜层抗氧化能力和耐磨损性能的影响。 This work optimized the recipe of alkaline electroless copper plating with formaldehyde(37%) as reducing agent and EDTA as complexing agent.The effects of metal ions additives,such as Pb 2+ ,Mn 2+ ,Ni 2+ ,NH + 4,Zn 2+ ,Ca 2+ ,Sr 2+ ,etc.on plating rate,anti wear property and anti stripping property were studied.It was showed that the addition of Pb 2+ raised the anti wear property and the anti stripping property of the film greatly without remarkable negative effect on the plating rate.In addition,the effect of heat treatment temperature of on anti oxidizing property and anti wearing property was studied.The best temperature of heat treatment is 90°C.
出处 《华东理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第3期367-371,共5页 Journal of East China University of Science and Technology
关键词 化学镀 镀铜 添加离子 耐磨损性能 耐剥离性 electroless plating copper plating metal ion additives heat treatment anti wear property anti stripping property
  • 相关文献

参考文献4

  • 1吴宜勇,李桂芝,姚枚,胡信国.多元化学镀镍[J].电镀与环保,1993,13(1):10-13. 被引量:11
  • 2洪懿华,电镀与环保,1990年,10卷,2期,32页
  • 3伍学高,化学镀技术,1985年,7页
  • 4牛长山,试验设计法(译),1985年,234页

二级参考文献1

共引文献10

同被引文献137

引证文献15

二级引证文献84

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部