期刊文献+

工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响 被引量:3

Effect of stage moving linear error on exposure in mask moving technique
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型。通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数。利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟了沿理想直线移动、不同幅值和不同移动距离的曲线移动时,所获得元件的面形,并分析了面形误差的影响因素和"竹节"误差产生的原因。最后得出结论:通过控制移动距离为一倍的掩模图形重复周期,并减小工件台移动直线性误差,对控制元件的面形精度和"竹节"误差最为有利。 In view of the moving linear error caused by the manufacturing and assembling of stage in the mask moving exposure technique, a mathematical model of relationships among exposure flux, moving curve and moving distance was built when mask moved along the curve, According to the real test result of linear error of stage, approximate function of stage moving curve was obtained. By use of numeric simulation with Matlab, the simulation of surface topography of exposed elements was carried out based on the following situation: mask moving along ideal beeline, along curve of different amplitude and different moving distance. The factors of surface shape accuracy and 'bamboo' shape variation error were analyzed. Results show that the surface shape errors of element can be controlled by reducing the stage moving linear error and adjusting mask moving distance that is equal to one repeated period of mask geometric figures
出处 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期55-60,共6页 Opto-Electronic Engineering
基金 国家自然科学基金资助项目(60606012) 中科院仪器改造项目
关键词 掩模移动曝光技术 曲线移动 “竹节”形误差 面形精度 mask moving exposure technique curve movement 'bamboo' shape variation error surface shape accuracy
  • 相关文献

参考文献7

  • 1董小春,杜春雷,潘丽,王永茹,刘强.微透镜列阵浮雕深度控制的新方法[J].光电工程,2003,30(4):1-3. 被引量:7
  • 2曾红军,陈波,郭履容,邱传凯,杜春雷.掩模移动技术中的边框效应及其应用[J].光电工程,2000,27(5):19-22. 被引量:6
  • 3曾红军,陈波,郭履容,杜春雷,邱传凯,王永茹,潘丽.深浮雕连续微光学元件制作方法(英文)[J].光电工程,2000,27(4):1-6. 被引量:6
  • 4Popovic Zoran D, Sprague Robert A, Neville Connell G A. Technique for monolithic fabrication of microlens array[J]. Appl. Opt, 1988, 27(7): 1281-1284.
  • 5董小春.大浮雕深度、非球面微列阵微光学元件面型控制技术研究[D].成都:中国科学院光电技术研究所,2003.
  • 6Ehbets P, Herzig H P, Prongue D. High-efficiency continuous surface-relief gratings for two-dimensional array generation[J]. Opt. Lett, 1992, 13(4): 908-910.
  • 7费业泰.误差理论与数据处理[M].北京:机械工业出版社,2003.45-52.

二级参考文献20

  • 1赫尔齐克HP 周海宪 王永年 程云芳.微光学元件系统和应用[M].北京:国防工业出版社,2002.102-103.
  • 2赫尔齐克HP 周海宪 王永年 程云芳.微光学元件系统和应用[M].北京:国防工业出版社,2002.102-103.
  • 3CHEN Bo, GUO Lurong. Refractive microlens array with parabolic section profile and no dead area[J]. SPIE, 1996, 2866:420- 423.
  • 4Chen Bo,Chin J Lasers B,1997年,B6卷,1期,57页
  • 5Chen Bo,SPIE.2687,1996年,2687期,142页
  • 6Chen Bo,SPIE.2866,1996年,2866期,420页
  • 7Eisner M,Opt Eng,1996年,35卷,10期,2979页
  • 8O'Shea D C,Appl Opt,1995年,34卷,32期,7518页
  • 9Sulski T J,Appl Opt,1995年,34卷,32期,7507页
  • 10Kuittinen M,Opt Commun,1995年,120卷,5/6期,230页

共引文献51

同被引文献56

引证文献3

二级引证文献33

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部