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摘要清洗工艺对成功制作高KI金属栅结构的作用；晶圆清洁之挑战和展望。

出处《集成电路应用》 2007年第8期5-5,共1页 Application of IC

关键词技术清洗工艺栅结构晶圆

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集成电路应用

2007年第8期

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