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电磁线圈绝缘氧化铝膜的研究
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摘要
在硫酸介质中,对铝箔表面进行氧化,最佳条件为:H_2SO_4(15%)、H_2C_2O(15 g/L)、NiSO_4(8g/L)、N_P-10(0.1g/L)、电流密度(2A/dm^2)、氧化时间(10min)、温度25±1℃、获得了耐蚀、耐击穿电压高和韧性好的绝缘氧化铝箔,可用于电磁线圈的绕制、得到了满意的结果。
作者
吴永敏
梅建廷
机构地区
大连铁道学院应用化学系
大连舰艇学院防化系
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1997年第1期18-19,共2页
Surface Technology
关键词
氧化铝膜
绝缘铝箔
电磁线圈
氧化
分类号
TM245.051 [一般工业技术—材料科学与工程]
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