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快速制备硅基半导体材料电镜横截面样品新方法——小角度解理技术
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摘要
小角度解理技术是制备硅基半导体材料电横截面样品和新方法。该方法最显著的特点是采用简单工具,简便快速地沿硅片一一的解理面劈出样品,对材料本身基本无甚影响。
作者
苏力
Donn.,SE
出处
《材料导报》
CSCD
1996年第A00期169-170,共2页
Materials Reports
关键词
小角度解理
硅基
半导体
电镜横截面样品
分类号
TN304.07 [电子电信—物理电子学]
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