光学微细加工技术现状及发展前景

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摘要光学曝光技术在八十年代得到了飞速发展,它已成为半导体微细加工极为重要的手段。光学微细加工技术的大发展,促进了半导体集成电路制造技术的发展。回顾半导体光学微细加工技术发展现状,探讨其发展前景,对进一步发展我国的半导体集成电路工业将是十分有益的。

作者马云骧

机构地区机电部第四十五研究所

出处《电子工业专用设备》 1990年第3期2-12,27,共12页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光学曝光微细加工技术半导体

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电子工业专用设备

1990年第3期

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