第5届国际半导体界面形成会议概况

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摘要第5届国际半导体界面形成会议(ICFSI-5)于1995年6月26日至30日在美国普林斯顿大学举行。与会代表200多人,会上交流论文近200篇。从国内(大陆)赴会的学者有谢希德教授和笔者。半导体界面形成会议是一个专门讨论与半导体表面和界面研究有关的学术问题的国际系列会议。本届会议是该系列会议第一次在美国举行,因而几乎所有本领域内的美国权威学者都带着各自最新的研究成果参加了会议。

作者丁训民

机构地区复旦大学应用表面物理国家重点实验室

出处《国际学术动态》 1996年第2期49-50,共2页 International Academic Developments

关键词半导体国际会议界面形成会议

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]

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