摘要
BTL-1光亮、高效、无低电流腐蚀工艺是一种新型通用镀铬工艺.它可在较低的CrO_3浓度(120～150g/1)、无氟催化剂的条件下使用.该工艺电流效率高,沉积速度快,镀层光亮、硬度高且有微裂纹.该工艺无低电流密度腐蚀,有优良的覆盖能力和分散能力,既可用于装饰性镀铬,也可用于镀硬铬.本文主要报告镀液主要成份及主要工艺条件对电流效率、光亮电流密度范围的影响,还分别用扫描电镜、显微硬度计测定了镀层的微裂纹密度和显微硬度等性能.
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
1990年第2期14-23,共10页
Electroplating & Finishing
