期刊文献+

808nm激光器端面镀膜技术 被引量:2

Plating Film on Facets of 808nm Semiconductor Laser
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 通过对AlGaAs/GaAs 808 nm半导体激光器谐振腔的前后端面分别蒸镀Ta2O5/SiO2膜系高反膜和Al2O3单层增透膜,使得前后端面的反射率分别达到11%和98.42%。器件在同一驱动电流下镀膜后的输出功率比镀膜前增加了一倍多,同时镀膜还有效地保护了端面,延长了器件工作寿命。 Through evaporating Ta2O5/SiO2 high reflecting film and Al2O3 anti-reflective coating on the front and back cavity surfaces of AlGaAs/GaAs 808 nm LD, the reflectivities of 11% and 98.42% are achieved respectively. The output power after plating the film could be two times more than before plating the film when it is working at the same driving current. At the same time the film makes the facets protected effectively and also the device lifetime enhanced.
出处 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期167-169,共3页 Semiconductor Optoelectronics
关键词 高反膜 增透膜 反射率 输出功率 high reflecting film anti-reflecting film reflectivity output power
  • 相关文献

参考文献10

二级参考文献12

共引文献22

同被引文献17

引证文献2

二级引证文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部