等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响

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摘要本文研究了等离子体氢处理对Si-SiO_2结构的影响。结果表明,Si-SiO_2结构经等离子体氢处理后,其界面特性变差。

作者蔡跃明吕世骥

机构地区南京通信工程学院理化室南京大学微电子中心

出处《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1990年第4期45-46,共2页 Semiconductor Technology

关键词 SI-SIO2 等离子体氢结构

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半导体技术

1990年第4期

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