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Y_(1-x)Dy_xBa_2Cu_3O_(7-δ)(X=0.03,0.05)
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摘要
叙述了用双靶直流磁控溅射仪制备Y1-xDyxBa_2Cu_3O_(7-6)(x=0.03,0.05)超导薄膜的工艺。按其工艺制备的薄膜Te均大于88K,随着x值增加,J_c有上升趋势。XRD、SEM的结果表明镝掺杂膜有很好的c轴取向。讨论了高温超导体钉扎机制。
作者
彭正顺
杨秉川
王小平
石东奇
赵忠贤
机构地区
北京有色金属研究总院
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第3期165-167,共3页
Chinese Journal of Rare Metals
关键词
薄膜
磁控溅射
超导体
YDBCD
分类号
TM262 [一般工业技术—材料科学与工程]
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稀有金属
1995年 第3期
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