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化学汽相淀积(CVD)技术述评

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摘要 CVD技术是当前最重要,最基本的半导体器件和集成电路制造技术之一。本文以介质膜的CVD为重点进行了概要的分析,其中包括对CVD介质膜的要求,CVD的反应机理及各种反应室的演变,CVD介质膜的杂质、应力及其覆盖能力。最后对导体材料的CVD作了简单的描述。

作者李松法

出处《半导体情报》 1989年第2期1-8,共8页 Semiconductor Information

关键词 CVD 半导体工艺化学汽相淀积

分类号 TN304.055 [电子电信—物理电子学]

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半导体情报

1989年第2期

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