摘要
本文将对等离子体的性质、等离子体对化学气相沉积的作用、ＰＣＶＤ反应器以及 新近发展起来的微波等离子体化学气相沉积法（ＭＰＣＶＤ）的特点和应用作一综述。期 望引起国内同行对这一崭新领域的关注，把我国ＰＣＶＤ特别是ＭＰＣＶＤ的研究工 作推向前进。
In this paper, we have reviewed some properties of plasma, the effect of plasma on chemical vapour deposition and PCVD reactors, especially the application of microwave plasma chemical vapour deposition methods(MPCVD).
出处
《真空》
CAS
北大核心
1989年第6期54-60,共7页
Vacuum
基金
国家自然科学基金资助项目
