摘要
在印制电路板(即PCB)加工过程中,最为重要的工序就是化学镀铜,要想在绝缘的孔内壁和铜箔表面上均匀沉积铜层,就必须认真地进行镀前处理(包括去毛刺、清洁处理、凹蚀、粗化处理)。随着电子工业的迅速发展,印制电路镀前处理技术日臻完善,由目前尚在流行的过硫钠铵法、过硫酸钠法、三氯化铁法、氯化铜法、硫酸法、铬酸法及等离子体法,发展为硫酸/过氧化氢法、碱性高锰酸钾后去腻污法、革新的高锰酸盐内蚀/去污法。作者考察PCB镀前处理技术的最新发展,分析流行的镀前处理方法的弊病,提出一些结论性意见,供国内外同行参考。
出处
《电镀与精饰》
CAS
1989年第5期20-24,共5页
Plating & Finishing
