摘要
本文提出了采用Ｚｅｒｎｉｋｅ多项式拟合干涉条纹的一种新的算法；详细讨论了采用二元光学位相板修正球面干涉仪误差的原理和方法，并根据计算出的球面干涉仪的误差制作了蚀刻二元光学位相板所需的掩模片。
In this article, a new method of using Zernike polynomial to fit fringe is demonstrated. The principle and method using binary optical phase(BOPP)to correct the error of interferometer are also fully analyzed. And the mask used to etching BOPP is produced according to the error of spherical interferometer.
出处
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第6期369-375,390,共8页
Journal of Optoelectronics·Laser
关键词
二元光学
位相板
干涉仪
误差
Fringe Analyze, Binary Optical Phase Plate
