用新的碘化法制造高纯度钛被引量：8

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摘要高纯度钛是作为溅射目标用于硅半导体集成电路中的电极、配电线路。使用的材料中若Al、Ni、Cu、Fe等金属元素不纯会引起配线间短路,泄漏电流增大;K、Na等碱金属元素不纯会降低可靠性;U、Th等放射元素不纯会引起软化。因此,使用材料的纯度要高。

作者高晓军

出处《钛工业进展》 CAS 1995年第4期19-20,共2页 Titanium Industry Progress

关键词钛高纯度钛碘化法制造溅射半导体

同被引文献36

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钛工业进展

1995年第4期

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