期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

赴美、日气体过滤技术的考察

下载PDF

导出

摘要电子元件和电路制备技术的发展十分迅速，64k～256k位的超大规模集成电路已进入工业生产阶段，美国、日本1M位的在工业生产中已使用，并已在向4M位进行技术开发。

作者张凤林

机构地区北京市特种气体研究所

出处《低温与特气》 CAS 1988年第2期1-6,共6页 Low Temperature and Specialty Gases

关键词过滤技术超大规模集成电路气体制备技术电子元件生产阶段工业生产技术开发

分类号 TQ028.53 [化学工程] TN47 [电子电信—微电子学与固体电子学]

引文网络
相关文献

1潘承志.气体激光技术及其发展[J].电子软科学,1992(2):21-27.
2付娴.过滤技术发展趋势[J].国外制碱,1992(11):10-11.
3李义良.集成电路制造工艺及其使用的气体[J].低温与特气,1992,10(1):1-7.
4郭文彦,张庆徽,刘悦洪.微波气体激励机的研制[J].电子测量与仪器学报,1992,6(4):47-51.
5启文,李志惠.激光器使用的气体和染料[J].激光集锦,1991,1(5):34-36.
6马玲.罗德与施瓦茨公司推出新型高档频谱分析仪[J].邮电设计技术,2007(12):18-18.
7罗德与施瓦茨公司为宽带通信提供新型高档频谱分析仪[J].电子测量技术,2007,30(11):218-218.
8R＆S为宽带通信提供新型频谱分析仪[J].中国无线电,2007(11):69-69.
9姚公弼.过滤技术的发展趋势[J].化学世界,1992,33(7):291-296.
10中联浮法玻璃700吨生产线投产[J].建筑玻璃与工业玻璃,2010(8):43-44.

低温与特气

1988年第2期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部