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半导体用特种气体的处理方法——干法处理装置 被引量:2

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摘要 在硅半导体生产中,作为单晶硅、氮化膜、氧化膜气相成长用气;作为硅铝膜蚀刻用气,需消耗多种氢化物(如甲硅烷、砷烷、磷烷)和卤化物(如三氯化硼、三氟化硼、氯化氢)。作为光电管和高速管用而大有希望的Ⅲ-V族半导体的生产过程中,同样消耗这类气体。
出处 《低温与特气》 CAS 1988年第1期22-26,共5页 Low Temperature and Specialty Gases
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