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影响PCVDTiN涂层中Cl含量的因素

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摘要叙述了ＴｉＮ沉积过程中影响Ｃｌ含量的主要参数（如：Ｈ＿２、温度等），得出了一些具有实用价值的结论。

作者李松辉陈大凯

机构地区武汉市科学技术委员会

出处《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 1994年第8期30-32,共3页 Materials Protection

关键词化学气相沉积氮化钛氯含量涂层

分类号 TG174.45 [金属学及工艺—金属表面处理]

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参考文献2

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材料保护

1994年第8期

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