平面磁控溅射成膜生长速率及厚度均匀性计算被引量：4

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作者孟宪权范湘军

出处《薄膜科学与技术》 1994年第4期318-323,共6页

关键词薄膜生长平面磁控溅射生长速率厚度均匀性

同被引文献35

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薄膜科学与技术

1994年第4期

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