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半绝缘GaAs单晶的热稳定性研究
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摘要
报道了对LEC法生长的SI-GaAs单晶热稳定性检测结果,在800℃以上温度条件下退火,发现GaAs单晶的热稳定性不但与处理的条件有关,还与单晶中杂质C的含量有关。
作者
谢自力
夏德谦
陈宏毅
朱志明
朱顺才
陈小兵
机构地区
南京电子器件研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第6期49-51,共3页
Semiconductor Technology
关键词
半绝缘
砷化镓
单晶
热稳定性
检测
分类号
TN304.23 [电子电信—物理电子学]
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半导体技术
1994年 第6期
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