低回损蚀刻衍射光栅波分复用器
出处
《科技开发动态》
2004年第5期58-58,共1页
R&D Information
-
1石晶,苏宗田.SDH设备电接口回损标准及其测试方法[J].电信科学,2005,21(2):84-86.
-
2mentalman.PCB是如何制造出来的?(二)[J].微型计算机,2002(11):95-101.
-
3第五讲 电话机的摘机阻抗和回损[J].电信快报,1994(5):23-25.
-
4高回损接收方案改善10G LTE光模块的传输性能[J].网络电信,2013,15(5):50-51.
-
5蚀刻用等离子体的参数控制[J].等离子体应用技术快报,1996(6):11-14.
-
6吴秀丽.蚀刻技术[J].光机电信息,1995,12(8):8-11.
-
7杨基南.蚀刻技术[J].微细加工技术,1994(1):45-50.
-
8友清.蚀刻多孔硅可制作全息图[J].国外激光,1993(5):31-32.
-
9张育川,张默君.新一代的蚀刻技术[J].影像科学与实践,1993(3):38-42.
-
10师庆华.宽带隙半导体GaN的快速反应原子束蚀刻[J].发光快报,1992,13(3):44-46.
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