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众核处理器中使用写掩码实现混合写回/写穿透策略 被引量:5
1
作者 林伟 叶笑春 +1 位作者 宋风龙 张浩 《计算机学报》 EI CSCD 北大核心 2008年第11期1918-1928,共11页
高速缓存采用写回策略,能极大地节省对片上网络和访存带宽的消耗,这对于片上众核(大于16核)的结构尤为重要.与通常多核系统中基于目录/总线的写无效或写更新协议不同,文中给出了片上实现域一致性存储模型和基于硬件锁的缓存一致性协... 高速缓存采用写回策略,能极大地节省对片上网络和访存带宽的消耗,这对于片上众核(大于16核)的结构尤为重要.与通常多核系统中基于目录/总线的写无效或写更新协议不同,文中给出了片上实现域一致性存储模型和基于硬件锁的缓存一致性协议的方案并提出了在L1高速缓存保存写掩码的方法,用以记录本地更新缓存块的字节位置,解决了写回策略下伪共享带来的缓存一致性问题.文中还进一步提出两种优化掩码存储空间开销的新方法:通过设定程序中较少出现的、长度为1-3字节的写指令为写穿透,在L1中每4字节设置一位写掩码,将写掩码的芯片面积开销压缩到字节粒度的27.9%;设计项数为L1缓存块总数12.5%的多路写掩码缓存,在不损失性能的情况下,将面积开销压缩到字节粒度的17.7%.搭建的众核平台Godson-T采用域一致性存储模型,使用写掩码实现混合写回/写穿透缓存策略(临界区内写穿透,临界区外写回).实验使用splash2的3个程序和2个生物计算程序进行评估.结果表明,相对于完全写穿透,混合写回策略在32和64线程的配置下普遍获得24%以上的性能提升,性能略优于完全写回,并且采用两种优化空间开销的新方法后性能无损失. 展开更多
关键词 众核 写掩码 写掩码缓存 域一致性 伪共享 写无效 写更新
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ISI-2802激光直写系统及其应用 被引量:6
2
作者 侯德胜 杜春雷 +1 位作者 邱传凯 白临波 《光电工程》 CAS CSCD 1997年第S1期27-31,共5页
介绍中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室引进的国内首台激光直写系统的工作模式、基本结构、主要性能和应用范围等,并给出用这台设备已经作出的一些掩模图形的样品。
关键词 激光直写 掩模 二元光学 激光光刻机
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用于二元光学掩模制作的激光直接写入系统研究 被引量:4
3
作者 沈亦兵 周光亚 +1 位作者 侯西云 杨国光 《科技通报》 1998年第3期170-173,179,共5页
介绍了研制的极坐标激光直接写入系统.该系统可用于二元光学掩模的制作.最大掩模直径为100m m ;最细曝光线宽为1.0μm ;套准精度及自动调焦精度分别达±0.3μm 和±0.2μm ⒚与电子束曝光机相比,该系统... 介绍了研制的极坐标激光直接写入系统.该系统可用于二元光学掩模的制作.最大掩模直径为100m m ;最细曝光线宽为1.0μm ;套准精度及自动调焦精度分别达±0.3μm 和±0.2μm ⒚与电子束曝光机相比,该系统具有制作时间短、成本低、利于圆对称掩模制作等特点. 展开更多
关键词 光刻 掩模 制作 激光直写系统 二元光学元件
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二元光学器件激光直写技术的研究进展 被引量:7
4
作者 颜树华 戴一帆 +1 位作者 吕海宝 李圣怡 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期159-162,共4页
二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺 (掩模套刻法或多次沉积薄膜法 )所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题 ,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率。分析了二元光学器件激光直写的基本... 二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺 (掩模套刻法或多次沉积薄膜法 )所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题 ,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率。分析了二元光学器件激光直写的基本原理 ,对已有的各种激光直写方法和最新研究成果进行了综述 。 展开更多
关键词 二元光学 激光直写 变灰度掩模法
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激光直写制作二元光学元件掩模研究 被引量:5
5
作者 王多书 罗崇泰 +2 位作者 马勉军 刘宏开 黄良甫 《应用激光》 CSCD 北大核心 2004年第4期213-216,共4页
介绍了激光直写技术制作二元光学元件铬版掩模的原理,分析了影响铬版上铬膜氧化程度的因素,研究了铬版上 刻写掩模图案时激光能量与刻写半径之间的关系,总结了利用激光直写方法刻写二元光学元件铬版掩模过程中激光能量的 形成方法。
关键词 掩模 激光直写 激光能量 二元光学元件 形成方法 原理 制作 过程 图案 半径
原文传递
极坐标激光直写技术制作微结构 被引量:1
6
作者 王多书 罗崇泰 +3 位作者 陈焘 刘宏开 马勉军 黄良甫 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期525-528,共4页
简述了极坐标激光直写技术原理,并利用该技术研究了在铬板、光刻胶版表面制作微结构的工艺,制作了光栅、非涅耳透镜、曲面衍射透镜、平面连续微结构衍射透镜掩模以及基于MEMS技术的微型太阳敏感器光学掩模。
关键词 激光直写技术 掩模 微结构 微光学
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灰度掩模技术 被引量:13
7
作者 李红军 李凤有 +4 位作者 于利民 曹颖静 卢振武 廖江红 翁志成 《微细加工技术》 EI 2000年第1期10-15,共6页
二元光学被誉为“1 990年代的光学技术” ,在国防、科研、生产等领域都显示出广阔的应用前景。衍射光学元件有很多制作方法 ,比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法。二元光学元件加工方法存在周期长、成本... 二元光学被誉为“1 990年代的光学技术” ,在国防、科研、生产等领域都显示出广阔的应用前景。衍射光学元件有很多制作方法 ,比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法。二元光学元件加工方法存在周期长、成本高且对准较困难的缺点。激光或电子束直写技术所需设备比较昂贵 ,只适合高精度单件生产。介绍了近来发展起来的另一种比较有前途的加工方法一灰度掩模法 ,并展望了其发展前景。 展开更多
关键词 二元光学 衍射光学元件 二元光学元件加工 激光直写 灰度掩模
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激光直写系统制作掩模和器件的工艺 被引量:4
8
作者 侯德胜 冯伯儒 +2 位作者 张锦 杜春雷 邱传凯 《微细加工技术》 EI 1999年第1期55-61,共7页
激光直写系统是国际上90年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统,通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光,将设计图形直接转移到掩模或硅... 激光直写系统是国际上90年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统,通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光,将设计图形直接转移到掩模或硅片上。激光直写系统的应用,可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。介绍使用激光直写系统制作光刻掩模和套刻器件的具体工艺。 展开更多
关键词 激光直写 光刻掩模 半导体器件 微电子工艺
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用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质 被引量:2
9
作者 马锋 王多书 +3 位作者 罗崇泰 叶自煜 刘宏开 王济州 《真空与低温》 2009年第1期1-4,共4页
利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。
关键词 二元金属薄膜 磁控溅射 激光直写 灰度掩模
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连续型平面衍射聚光透镜掩模的制作 被引量:3
10
作者 王多书 罗崇泰 +2 位作者 刘宏开 马勉军 黄良甫 《应用光学》 CAS CSCD 2005年第6期77-80,共4页
针对目前二元光学元件掩模制作工艺过程的诸多不足,对连续型平面衍射聚光透镜掩模的激光直写制作工艺进行了研究。基于基尔霍夫标量衍射理论,采用光线追迹法设计了连续型平面衍射聚光透镜掩模。采用激光直写技术,利用CLW S-300M/C极坐... 针对目前二元光学元件掩模制作工艺过程的诸多不足,对连续型平面衍射聚光透镜掩模的激光直写制作工艺进行了研究。基于基尔霍夫标量衍射理论,采用光线追迹法设计了连续型平面衍射聚光透镜掩模。采用激光直写技术,利用CLW S-300M/C极坐标激光直写设备、S1830光刻胶和M ICROPO S IT-351显影液,进行了刻写实验。实验表明,激光能量、预烘烤温度、显影液浓度以及预曝光对掩模微结构的制作均有影响。最后制作了掩模。与二元光学元件掩模的制作工艺相比,该技术具有工艺简单、制作周期短且易于操作的优点。 展开更多
关键词 掩模 聚光透镜 平面衍射 激光直写技术
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X射线掩模电子束制备图形过程中的数值研究 被引量:1
11
作者 王永坤 余建祖 《微细加工技术》 EI 2005年第2期20-23,50,共5页
得到移动光源照射下平板温度分布的理论解,验证了有限元方法的正确性。建立了X射线掩模电子束制备图形过程中传热的三维有限元模型,给出了掩模瞬态温度变化规律。结果表明,辐射是X射线掩模在图形制备中必须考虑的重要因素之一,当不考虑... 得到移动光源照射下平板温度分布的理论解,验证了有限元方法的正确性。建立了X射线掩模电子束制备图形过程中传热的三维有限元模型,给出了掩模瞬态温度变化规律。结果表明,辐射是X射线掩模在图形制备中必须考虑的重要因素之一,当不考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间振荡升高,最高温度为35.20℃;当考虑辐射时,掩模瞬时最高温度随时间周期变化,最高温度为26.95℃。 展开更多
关键词 掩模 电子束书写 温度分布 图形制备 有限元分析
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对称相位函数掩模化的研究
12
作者 白临波 杜春雷 李展 《光子学报》 EI CAS CSCD 2000年第3期255-259,共5页
本文对各种连续对称相位函数及其特性进行了分析 ,讨论了相位函数的 2 π调制、2 N 和 N - 1法量化等问题及数据处理过程 ,提出二元衍射元件 CIF( Caltech IntermediateForm)格式掩模数据的生成方法 ,并建立了实用软件 。
关键词 相位函数 掩模化 激光直写 衍射光学元件
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基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展 被引量:1
13
作者 章城 文东辉 杨兴 《传感器与微系统》 CSCD 2019年第7期1-4,9,共5页
微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电子芯片、半导体器件等领域的科研和... 微纳掩模制作是进行刻蚀、沉积和改性等微纳加工工艺之前的主要工艺,是微纳米加工过程中的关键步骤和基础。高质量、柔性、低成本、高效的掩模制作对微/纳机电系统(MEMS/NEMS)、微米纳米技术、微/纳电子芯片、半导体器件等领域的科研和生产都具有非常重要的意义。目前,直写技术是一种可以不依赖掩模板和印模的掩模图案制造技术,其制作工艺较为简单,具有较高的掩模制作精度和柔性度,已成为微纳掩模制作的重要发展方向。综述了国内外各种主要的基于直写技术的微纳掩模制作技术,并归纳了其技术特点,展望了其发展趋势。 展开更多
关键词 直写技术 掩模制作 微纳米技术 图形化
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折射型微透镜列阵制作的一种新途径 被引量:1
14
作者 李学民 卢国纬 周礼书 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期294-296,共3页
介绍了一种制作折射型微透镜列阵的新方法,其主要思想参考了灰阶掩模法。所用掩模板用激光直写制作,通过一次曝光即可在光刻胶上形成折射型微透镜的轮廓,并给出了微透镜轮廓的测试图样。
关键词 微透镜列阵 灰阶掩模 激光直写 微光学
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基于Landsat影像的黄丰桥林场森林变化检测研究 被引量:5
15
作者 罗號 孙华 +3 位作者 胡满 罗孝云 罗喜华 杨政宇 《中南林业科技大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2017年第12期65-71,共7页
以攸县黄丰桥林场为研究区,选择2001,2009和2013年3期Landsat影像,应用影像代数变化检测、掩膜处理变化检测、写功能存储插入法变化检测和分类后比较变化检测4种算法开展森林变化检测对比研究。结果表明:分类后比较变化检测方法在总体... 以攸县黄丰桥林场为研究区,选择2001,2009和2013年3期Landsat影像,应用影像代数变化检测、掩膜处理变化检测、写功能存储插入法变化检测和分类后比较变化检测4种算法开展森林变化检测对比研究。结果表明:分类后比较变化检测方法在总体精度上有较明显的优越性,其2013年与2009年、2009年与2001年总体精度均为96.67%;其次是写功能存储插入法变化检测,其2013年与2009年、及2009年与2001年总体精度分别为94%和95.67%;掩膜处理变化检测精度排名第三,其2013年与2009年、2009年与2001年总体精度分别为93.67%和95.67%;效果最差的是影像代数变化检测方法,其2013年与2009年、2009年与2001年总体精度分别为93.33%和94.33%。通过对上述4种方法优缺点及精度的综合分析,得出分类后比较变化检测算法是最适合黄丰桥林场的变化检测方法。 展开更多
关键词 遥感变化检测 影像代数 掩膜处理 写功能存储插入法 分类后处理
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微细直写掩膜电解加工非晶合金平面微线圈工艺研究
16
作者 毕经新 彭子龙 +3 位作者 王萌杰 周帅 刘中皓 李一楠 《制造技术与机床》 北大核心 2024年第8期55-61,共7页
针对掩膜电解加工工艺固化、流程复杂等问题,提出一种基于微细直写聚合物材料的图案化掩膜电解加工方法。对直写掩膜工艺应用于微细电解加工平面线圈工艺进行研究。采用单因素法获得了直写加工参数对掩膜的影响规律。采用正交实验获得... 针对掩膜电解加工工艺固化、流程复杂等问题,提出一种基于微细直写聚合物材料的图案化掩膜电解加工方法。对直写掩膜工艺应用于微细电解加工平面线圈工艺进行研究。采用单因素法获得了直写加工参数对掩膜的影响规律。采用正交实验获得了加工电压、阴极振动频率和占空比等工艺参数对成形精度的规律。建立了加工微结构尺寸的预测模型,利用优化的工艺参数在厚度30μm合金薄片上加工出宽度为300μm平面微线圈结构,通过网络分析仪对电流传感效应进行检测,获得了阻抗变化率为3.46%的响应。证明了直写掩膜应用于微细掩膜电解加工的可行性。 展开更多
关键词 直写掩膜 微细电解加工 非晶合金 工艺规律 参数优化
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长周期光纤光栅的几种制作方法
17
作者 李彬 裴丽 +1 位作者 董小伟 简水生 《光通信技术》 CSCD 北大核心 2003年第6期36-38,共3页
长周期光纤光栅是近几年出现的新型光纤器件,在光纤通信和光纤传感中有许多重要的应用。长周期光纤光栅低成本高效率的制作是其广泛应用的先决条件。简要叙述了长周期光纤光栅的几种制作方法。
关键词 逐点写入 振幅掩模 微透镜阵列 物理变形
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基于中央缓存的 ATM 多址传输仿真模型
18
作者 陈靖 杨传厚 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第8期93-96,共4页
提出一种称为具有输出缓冲和屏蔽优先级的单写单读方案,实现多址传输并解决多址传输与单址传输的冲突,降低信元丢失率和信元延时.
关键词 异步传输模式 多址传输 计算机网络 缓冲排队
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从古文字形看面具的作用
19
作者 蒲乐洋 《国学(汉斯)》 2018年第4期38-41,共4页
面具作为一种富有神秘色彩的器物,在古文字义字形中,带有“面具” 这一象形符号的字具有“扮演鬼神”、“戴面具行刑”以及“表演、娱乐”的含义。由此可见面具地位经历了祭祀中与鬼神交流的媒介、刑罚中威严权力的象征以及娱乐表演中... 面具作为一种富有神秘色彩的器物,在古文字义字形中,带有“面具” 这一象形符号的字具有“扮演鬼神”、“戴面具行刑”以及“表演、娱乐”的含义。由此可见面具地位经历了祭祀中与鬼神交流的媒介、刑罚中威严权力的象征以及娱乐表演中的道具三个阶段。这与人们的认知能力、文化的发展程度是息息相关的。 展开更多
关键词 面具 古文字 祭祀 权力 娱乐
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Writing Fiber Grating of Different Wavelength Using the Same Phase Mask
20
作者 Zhongwei Tan , Tigang Ning, Yongjun Fu, Yan Liu,Wei Jian, Shuisheng Jian Institude of Lightwave Technology in Northern Jiaotong University, Beijing 100044, P.R.China. 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第S1期281-282,共2页
Chirped fiber grating was used in dispersion compensator. We tried to use the same phase mask to write fiber grating of different wavelength with two methods to reduce the price of the fiber grating.
关键词 of be in it that Writing Fiber Grating of Different Wavelength Using the Same Phase mask HAVE
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