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N_(2)/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的影响
1
作者 魏永强 张华森 +5 位作者 张晓晓 顾艳阳 刘畅 吕怿东 韦春贝 钟素娟 《表面技术》 北大核心 2025年第14期92-104,共13页
目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,... 目的 通过改变N2/Ar流量比,研究TiZrN/TiN纳米多层薄膜微观结构和性能的变化规律。方法采用电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)和高功率脉冲磁控溅射(High Power Pulsed Magnetron Sputtering,Hi PIMS)复合方法,通过调节N_(2)/Ar流量比,分别在M2高速钢和单晶硅片(100)上制备TiZrN/TiN纳米多层薄膜。研究N2/Ar流量比对TiZrN/TiN纳米多层薄膜形貌结构、元素成分、相结构、纳米硬度、膜基结合力、摩擦磨损性能和耐腐蚀性能的影响。结果在N2/Ar流量比为35/65时,薄膜表面粗糙度最低达到0.298μm;在N2/Ar流量比为40/60时,薄膜总厚度最高达574 nm;TiZrN/TiN纳米多层薄膜均以(111)晶面为择优取向,硬度在22.95~27.15 GPa。在N2/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜离子轰击作用最强,Zr/(Ti+Zr)的值较大(0.088),硬度和弹性模量最高分别达到27.15 GPa和271.14 GPa。在N_(2)/Ar流量比为25/75和30/70时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的膜基结合力最好,达到HF1等级。TiZrN/TiN纳米多层薄膜稳定摩擦系数均在0.8左右,磨损率先增大后减小。N_(2)/Ar流量比为25/75时,TiZrN/TiN纳米多层薄膜的自腐蚀电位和自腐蚀电流密度分别为-0.546 V和1.167μA/cm^(2),薄膜对M2高速钢基体的保护率最高达到87.9%。结论采用电弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射复合方法,大幅改善了薄膜表面质量;N_(2)/Ar流量比可改变离子轰击强度的强弱,随着N_(2)/Ar流量比的增加,沉积离子轰击强度逐渐减弱,薄膜硬度和耐腐蚀性能逐渐下降;在N_(2)/Ar流量比为25/75时,薄膜综合性能最优。 展开更多
关键词 高功率脉冲磁控溅射 电弧离子镀 TiZrN/tin纳米多层薄膜 N_(2)/Ar流量比 纳米硬度 耐磨性
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Study on laser welding of the tin-plate can body
2
作者 Xiao Min Chen Zutao +2 位作者 Hu Lunji Hu Xiyuan Pu Wanlin Huazhong University of Science and Technology,Wuhan 《China Welding》 EI CAS 1992年第2期97-104,共8页
Laser beam welding is a new technique for the food can making.This research studied the welding technology and parameters for the tin-plate can and their influences on welding speed and quality,investigated the micros... Laser beam welding is a new technique for the food can making.This research studied the welding technology and parameters for the tin-plate can and their influences on welding speed and quality,investigated the microstructure and properties of the weld,analysed distribution of tin in the weld metal and carried out the flanging test of the can body.The results show that laser weld- ing of the can body is characterized by high welding speed,fine appearance, good quality and stable and reliable process.This technology can fulfill the re- quirements of can making. 展开更多
关键词 laser welding CAN tin plate
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IMPROVEMENT OF ADHESION BETWEEN ION PLATED TiN COATING AND BASE METAL BY ADDING Y 被引量:1
3
作者 JIN Zhujing YU Li DAI Shaoxia YU Zhiming Institute of Corrosion and Protection of Metals,Academia Sinica,Shenyang,China Institute of Corrosion and Protection of Metals,Academia Sinica,Wencui Road,Shenyang,China 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1989年第10期279-283,共5页
The adhesion between the ion plated TiN coating and the base metal is improved by adding Y.The machenism of the effect of Y has been discussed as well.
关键词 ion plated tin coating ADHESION Y
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晶面取向对TiN涂层导电性能的影响研究
4
作者 赵蒙 周晖 +4 位作者 何延春 张凯锋 贵宾华 汪科良 蒋钊 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第24期197-205,共9页
目的TiN涂层的晶面择优生长取向对其性能有显著影响,当前TiN涂层晶面取向对其导电性能的影响机理尚未明确。因此,将模拟计算与实验研究相结合,开展晶面取向对涂层导电性能影响的研究。方法采用第一性原理计算研究了晶面取向对TiN表面能... 目的TiN涂层的晶面择优生长取向对其性能有显著影响,当前TiN涂层晶面取向对其导电性能的影响机理尚未明确。因此,将模拟计算与实验研究相结合,开展晶面取向对涂层导电性能影响的研究。方法采用第一性原理计算研究了晶面取向对TiN表面能、能带结构、态密度、电荷布居及自由电子相对浓度的影响。同时,利用HiPIMS技术实现了不同晶面取向TiN涂层的制备。结果经过理论计算,TiN(200)晶面模型具有更高的自由电子相对浓度,主要是因为(200)晶面模型中,Ti—N键对电子的“束缚”更小。接触电阻测试证明,涂层中的(200)晶面生长取向越明显,涂层的ICR值越低。结论经过理论计算与实验验证表明,TiN涂层中的(200)晶面生长取向有利于提升TiN涂层的导电性能,该取向越明显,涂层的ICR值越低。 展开更多
关键词 质子交换膜燃料电池 双极板 tin涂层 HIPIMS 晶面取向 导电性能
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磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入性能研究
5
作者 付天佐 赵红 +2 位作者 田振刚 李晓其 谢宛鋆 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期139-145,共7页
目的研究磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入对金属基体的保护效果。方法采用磁过滤电弧离子镀和离子注入在不锈钢表面分别制备了TiN薄膜与N注入改性层,以及二者的复合膜层。对薄膜的相结构、微观形貌进行了表征,对薄膜进行了极化曲线测试... 目的研究磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入对金属基体的保护效果。方法采用磁过滤电弧离子镀和离子注入在不锈钢表面分别制备了TiN薄膜与N注入改性层,以及二者的复合膜层。对薄膜的相结构、微观形貌进行了表征,对薄膜进行了极化曲线测试,同时在半球样品表面制备涂层并进行盐雾测试。结果所制备的TiN涂层为(111)晶面择优取向,离子注N预处理后沉积的TiN薄膜,仍保持(111)面的择优取向;电化学测试结果显示,TiN和N离子注入能够使不锈钢基体自腐蚀电位分别提高0.64、0.25 V,TiN薄膜具有最低的维钝电流密度4.9×10^(-6) A/cm^(2),N离子注入+TiN复合薄膜的维钝电流密度与N离子注入样品接近;盐雾试验结果表明,TiN以及N离子注入+TiN复合薄膜样品能够保证铜半球在12h的中性盐雾试验中无明显腐蚀痕迹。结论N离子注入预处理对MFAIPTiN涂层耐蚀性能的提升效果有限,单一的MFAIP TiN涂层便可应用于复杂形状的工程材料表面镀膜,可以增强其抗腐蚀能力,延长使用寿命。 展开更多
关键词 tin 磁过滤电弧离子镀 N离子注入 腐蚀防护
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乙二醇苯醚对氢氧化钠碱性体系退膜工艺的影响研究
6
作者 李立清 章礼旭 +5 位作者 杨丽钦 吴新宇 黄邵卿 黄旻潇 王佳城 喻荣祥 《表面技术》 北大核心 2025年第8期145-155,共11页
目的 解决采用传统氢氧化钠碱性体系退膜时存在的膜渣过大、退膜不净等问题。方法 通过退膜实验研究了乙二醇苯醚对氢氧化钠退膜效果的影响,通过浸泡测试和电化学测试表征退膜液对板材表面锡镀层的腐蚀程度,并在退膜前后通过扫描电子显... 目的 解决采用传统氢氧化钠碱性体系退膜时存在的膜渣过大、退膜不净等问题。方法 通过退膜实验研究了乙二醇苯醚对氢氧化钠退膜效果的影响,通过浸泡测试和电化学测试表征退膜液对板材表面锡镀层的腐蚀程度,并在退膜前后通过扫描电子显微镜对锡镀层表面的微观形貌进行分析,通过傅里叶变换红外光谱对退膜液的作用机理进行分析。结果 仅使用氢氧化钠进行退膜时,对线路镀层中干膜的去除效果较差,添加乙二醇苯醚可以通过减小膜渣尺寸来解决退膜不净的问题,且膜渣大小受乙二醇苯醚浓度、退膜时间等因素影响;随着退膜液中乙二醇苯醚浓度的增加,锡镀层厚度损失量减少、表面电荷转移电阻增大、腐蚀电流密度降低;锡镀层表面主要由胞状物组成,退膜液中添加乙二醇苯醚后,镀层在退膜前后的形貌结构无明显变化;退膜后的干膜相比于退膜前,其红外光谱在1 567 cm^(-1)附近出现了羧酸盐的特征吸收峰。结论 乙二醇苯醚可以解决氢氧化钠退膜时存在的膜渣过大、退膜不净等问题,且能减轻锡镀层在退膜液中的腐蚀程度;退膜液主要通过降解干膜分子中的碱溶性基团,使干膜发生溶胀,从而实现退膜的过程。 展开更多
关键词 印刷线路板 退膜液 感光干膜 乙二醇苯醚 电镀夹膜 锡腐蚀
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高硅含钛奥氏体不锈钢冷轧板表面线鳞缺陷分析和改进
7
作者 马骏 《甘肃冶金》 2025年第3期93-95,共3页
采用扫描电镜能谱检测方法分析了高硅含钛奥氏体不锈钢冷轧板表面线鳞缺陷的特征及成因,并对冷轧板断面的夹杂物进行了检测分析。结果表明:有缺陷的冷轧板中夹杂物数量多,部分夹杂物尺寸超过了10μm。TiN夹杂物是导致线鳞缺陷产生的主... 采用扫描电镜能谱检测方法分析了高硅含钛奥氏体不锈钢冷轧板表面线鳞缺陷的特征及成因,并对冷轧板断面的夹杂物进行了检测分析。结果表明:有缺陷的冷轧板中夹杂物数量多,部分夹杂物尺寸超过了10μm。TiN夹杂物是导致线鳞缺陷产生的主要原因。结合计算结果提出了线鳞缺陷的改进措施。降低Ti、N含量,提高中包温度,可避免浇铸过程大量TiN夹杂物的形成。 展开更多
关键词 高硅含钛奥氏体不锈钢 冷轧板 线鳞 tin 中包温度
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工艺参数对磁控溅射TiN膜成分影响的研究 被引量:20
8
作者 刘雄飞 涂国辉 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1999年第3期225-227,共3页
在不同的工艺参数条件下 ,采用磁控溅射技术制备了大量的TiN膜样品。通过对实验结果的仔细分析 ,得出了膜层颜色与氩气分压无关 ,而与溅射功率和氮气分压的比值有关的结论 ,并得到了微观结构分析的证实。
关键词 磁控溅射 镀膜 氮化钛 薄膜 工艺参数
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离子镀TiN涂层的高温氧化特性 被引量:23
9
作者 胡树兵 梅志 +1 位作者 李志章 曾跃武 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第A01期204-208,共5页
研究了离子镀TiN 涂层在500 ~700 ℃间的高温氧化特性, 并利用SEM 观察和XRD 相分析研究了氧化产物的类型及膜失效机制。结果表明, TiN 膜的氧化遵循抛物线扩散规律, 其氧化产物为金红石型TiO2 。与M2 和... 研究了离子镀TiN 涂层在500 ~700 ℃间的高温氧化特性, 并利用SEM 观察和XRD 相分析研究了氧化产物的类型及膜失效机制。结果表明, TiN 膜的氧化遵循抛物线扩散规律, 其氧化产物为金红石型TiO2 。与M2 和3Cr2 W8V 相比, TiN 膜具有优良的抗氧化性能。以M2 为基体的TiN 涂层抗氧化性能略高于以3Cr2 W8V 为基体的TiN 展开更多
关键词 氧化 离子镀 氮化钛涂层 高温氧化特性
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基材温度对离子镀TiN膜性能的影响 被引量:8
10
作者 于力 刘技文 +3 位作者 赵杰 戴少侠 金柱京 王慧君 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期1270-1274,共5页
利用空心阴极离子镀膜设备制备了不同基材加热温度(150,250,350和450℃)的TiN膜.对其硬度和耐磨性的检测结果表明,随着基材温度的升高,HV呈缓慢上升趋势;耐磨性基本一致.同时,通过X射线衍射及扫描电子显微... 利用空心阴极离子镀膜设备制备了不同基材加热温度(150,250,350和450℃)的TiN膜.对其硬度和耐磨性的检测结果表明,随着基材温度的升高,HV呈缓慢上升趋势;耐磨性基本一致.同时,通过X射线衍射及扫描电子显微镜的观察,探讨了基材温度对其性能及组织形貌的影响. 展开更多
关键词 离子镀膜 基材温度 氮化钛薄膜 镀膜
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多弧离子镀TiN与不同金属基材间的接触界面与表面特性 被引量:8
11
作者 徐富春 王水菊 +3 位作者 林秀华 汤丁亮 张棋河 薛茹 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第1期69-74,共6页
用多弧离子镀技术在不同金属基材上进行TiN镀膜实验 ,制备了TiN/Fe、TiN/Cu和TiN/Cr/Cu复合膜 .借助扫描电子显微镜 (SEM)、X射线衍射仪 (XRD)和光电子能谱 (XPS) ,研究了TiN与Fe、Cu和Cr/Cu三种不同衬底接触界面的形貌、结构及其表面特... 用多弧离子镀技术在不同金属基材上进行TiN镀膜实验 ,制备了TiN/Fe、TiN/Cu和TiN/Cr/Cu复合膜 .借助扫描电子显微镜 (SEM)、X射线衍射仪 (XRD)和光电子能谱 (XPS) ,研究了TiN与Fe、Cu和Cr/Cu三种不同衬底接触界面的形貌、结构及其表面特性 .SEM观察发现 ,在一定离子镀膜条件下 ,TiN涂层可与Fe、Cu和Cr/Cu金属基材形成均匀平整的接触界面 ,在铜基上TiN界面清晰 ,在Fe与Cr/Cu界面有明显的层状晶界微结晶分布 .XRD分析显示 ,Fe、Cu和Cr/Cu表面生成的薄膜都包含TiN、Ti2 N等多晶相 ,在Cr/Cu界面还包含Ti-Cr的金属间化合物 .XPS结果表明 ,表面除了TiN膜外 ,还生成TiO2 和TiOxNy 等氧化膜 .Ar+ 刻蚀 5min后 ,TiO2 消失 ,TiOxNy 减少 ,TiN则呈增加趋势 .TiN与Cr/Cu界面形成明显的Ti-Cr和Cr-Ni互扩散层 ,这有助于增强薄膜附着力 ,形成较牢固的TiN涂层 . 展开更多
关键词 多弧离子镀 氮化钛 接触界面 表面特性 金属基材 表面处理 薄膜
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铜集流体在负极体系中的电化学行为
12
作者 牛朝泽 谷书华 +2 位作者 余谷峰 张奇尧 王力臻 《电池》 北大核心 2025年第3期522-528,共7页
碱锰电池负极体系的稳定性与集流体的性质相关。以片状锌铟合金为负极、集流体为正极构成原电池,在短路情况下,模拟插入铜集流体后的电化学行为,评价铜钉集流体对负极析气的影响。反应电流在集流体与负极接通瞬间较大,随着时间的延长快... 碱锰电池负极体系的稳定性与集流体的性质相关。以片状锌铟合金为负极、集流体为正极构成原电池,在短路情况下,模拟插入铜集流体后的电化学行为,评价铜钉集流体对负极析气的影响。反应电流在集流体与负极接通瞬间较大,随着时间的延长快速下降。各集流体的反应速度由快到慢依次为:铜钉、镀锡铜钉、镀铟铜钉。利用XRD、SEM分析集流体在负极中60℃、72 h储存后的表面变化。铜钉表面有铜锌合金CuZn_(5)生成,表面状态发生改变,呈网状分布并向外生长;镀锡铜钉的表面存在Zn单质,表面变得光滑;镀铟铜钉有铜锌合金CuZn_(5)生成,但表面没有Zn单质,镀铟层针孔消失,均一性增加。锌的形成减小了集流体与负极之间的电势差,短路电流减小、析气量降低。利用线性扫描法测定集流体在碱性介质中的阴极极化曲线,发现在阴极极化过程中首先发生锌的沉积,沉积起始电位为-1.480 V(vs.HgO),之后发生析氢反应。 展开更多
关键词 碱锰电池 负极 集流体 镀层 镀锡 镀铟 铜钉
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电弧离子镀TiN及其复合膜的腐蚀机理探讨 被引量:14
13
作者 史新伟 李杏瑞 +1 位作者 邱万起 刘正义 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期330-334,共5页
利用电弧离子镀在高速钢基体上制备了TiN及其复合膜(Ti,Cr)N,通过盐水全浸泡试验测量了薄膜的腐蚀速率,利用SEM观察了薄膜腐蚀后的表面形貌及断口形貌,并用其自带的能谱分析仪测量复合膜中Cr的含量,讨论了带有宏观熔滴颗粒的TiN及其复合... 利用电弧离子镀在高速钢基体上制备了TiN及其复合膜(Ti,Cr)N,通过盐水全浸泡试验测量了薄膜的腐蚀速率,利用SEM观察了薄膜腐蚀后的表面形貌及断口形貌,并用其自带的能谱分析仪测量复合膜中Cr的含量,讨论了带有宏观熔滴颗粒的TiN及其复合膜(Ti,Cr)N的腐蚀机理。结果表明:高速钢表面电弧离子镀TiN和(Ti,Cr)N复合膜均可提高其耐腐蚀性能,薄膜的腐蚀主要有小孔腐蚀、缝隙腐蚀及电偶腐蚀。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin 复合薄膜 腐蚀机理
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稀土元素钇改善离子镀TiN膜与基材结合力的研究 被引量:9
14
作者 金柱京 于力 +1 位作者 戴少侠 于志明 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1989年第1期B055-B060,共6页
本文叙述了添加稀土元素Y改善了离子镀TiN膜与基材的结合力,并且通过电子探针(EPMA)、透射电镜(TEM)和X射线衍射相分析等手段,对稀土元素Y在离子镀TiN(IP-TiN)膜中的行为和存在形态进行了分析,进一步探讨了稀土元素Y改善IP-TiN膜与基材... 本文叙述了添加稀土元素Y改善了离子镀TiN膜与基材的结合力,并且通过电子探针(EPMA)、透射电镜(TEM)和X射线衍射相分析等手段,对稀土元素Y在离子镀TiN(IP-TiN)膜中的行为和存在形态进行了分析,进一步探讨了稀土元素Y改善IP-TiN膜与基材结合力的机制,从而肯定了稀土元素Y提高IP-TiN膜与基材结合力的作用。 展开更多
关键词 Y tin 基材 结合力 离子镀膜
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镀锡层对铜导线超声波焊接接头性能的影响
15
作者 吕玮怡 杨可 +2 位作者 成先明 赵健华 冯博 《焊接学报》 北大核心 2025年第2期95-101,共7页
对镀锡铜导线、铜导线进行超声波焊接试验,观测镀锡铜导线、铜导线焊接接头温度,分析了不同焊接能量下镀锡铜导线、铜导线焊接接头的性能,研究了镀锡层对铜导线超声波焊接接头性能的影响.结果表明,超声波焊接可以实现镀锡铜导线有效连接... 对镀锡铜导线、铜导线进行超声波焊接试验,观测镀锡铜导线、铜导线焊接接头温度,分析了不同焊接能量下镀锡铜导线、铜导线焊接接头的性能,研究了镀锡层对铜导线超声波焊接接头性能的影响.结果表明,超声波焊接可以实现镀锡铜导线有效连接,随着焊接能量的增加,镀锡铜导线、铜导线两种导线的焊接接头抗拉力逐渐增加;由于镀锡层的熔点较低,在超声软化作用下填充铜导线界面,进而隔离铜线之间原子扩散渗透,使得不同焊接能量下的镀锡铜导线的强度明显低于铜导线;随着焊接能量增加,焊接界面温度升高,镀锡铜导线表面镀锡层熔化,镀锡铜铜丝直接连接产生冶金结合,强度增加明显,其焊接接头断口出现韧窝,显示出明显的韧性断裂模式,接头性能较好. 展开更多
关键词 超声波焊接 镀锡铜线 铜线 力学性能
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电弧离子镀TiN薄膜中的缺陷及其形成原因 被引量:23
16
作者 史新伟 邱万奇 刘正义 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第1期43-46,共4页
分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显... 分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显著减少上述缺陷,从而提高薄膜的各种性能。认为使用磁过滤器镀制TiN及其各种复合或多层薄膜是一种切实有效的方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向,另外,缩短脉冲电弧在高值时的时间,用人工来减少薄膜缺陷也是一种行之有效的方法。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin薄膜 缺陷 磁过滤器
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基体材料对TiN薄膜表面液滴及薄膜结合力的影响 被引量:16
17
作者 龚才 代明江 +2 位作者 陈明安 韦春贝 侯惠君 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期27-33,共7页
采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。... 采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。结果表明:基体材料不同,TiN薄膜上液滴的密度、尺寸存在明显的区别。其中,镀膜后H13钢和304不锈钢表面的液滴数量最多,YG6硬质合金次之,TC4钛合金最少;薄膜的膜/基结合强度依次为YG6硬质合金>H13钢>304不锈钢>TC4钛合金。 展开更多
关键词 真空阴极电弧离子镀 tin薄膜 液滴 基结合力
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不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究 被引量:11
18
作者 刘天伟 鲜晓斌 +1 位作者 武胜 董闯 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1437-1440,共4页
不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌。结果表明:所得薄膜为单一TiN结构,薄膜表面平整、致密,但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄... 不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜。利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,用扫描电镜(SEM)观察其表面形貌。结果表明:所得薄膜为单一TiN结构,薄膜表面平整、致密,但局部仍存在大颗粒。摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能。随偏压的上升,摩擦系数由0.421变为0.401。同时利用X射线光电子能谱分析仪(XPS)对湿热腐蚀20d后的样品进行了分析,并利用电化学极化实验在0.5μg/gCl-溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能。结果表明:TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tin 偏压
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正交试验优化脉冲磁场-电沉积Ni-TiN复合镀层工艺研究 被引量:9
19
作者 马春阳 刘滨瑜 +2 位作者 朱永永 夏法锋 李洋 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第19期19115-19117,共3页
为改善钻井泥浆泵活塞的耐磨性能,采用脉冲磁场-电沉积方法在40Cr试件表面制备Ni-TiN复合镀层。利用磨损试验机、电子分析天平、扫描电镜、正交试验法研究并优化Ni-TiN复合镀层的制备工艺参数。结果表明,当磁场强度为0.5T时,Ni-TiN复合... 为改善钻井泥浆泵活塞的耐磨性能,采用脉冲磁场-电沉积方法在40Cr试件表面制备Ni-TiN复合镀层。利用磨损试验机、电子分析天平、扫描电镜、正交试验法研究并优化Ni-TiN复合镀层的制备工艺参数。结果表明,当磁场强度为0.5T时,Ni-TiN复合镀层的磨损量到达最小值0.72 mg,当阴极电流密度和占空比分别为2.2A/dm2和50%时,Ni-TiN复合镀层的磨损量达到最小值6.4 mg。脉冲磁场-电沉积Ni-TiN复合镀层的最佳工艺参数为磁场强度0.5T,电流密度2.2A/dm2,占空比40%。 展开更多
关键词 正交试验 Ni-tin复合镀层 工艺参数
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多弧离子镀TiN涂层在冲孔冲模上的应用 被引量:22
20
作者 胡树兵 张明 +1 位作者 葛顺兰 陈湘一 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期16-17,20,共3页
采用多弧离子镀法在螺帽冲孔冲模上进行了TiN涂层处理,并对涂层的显微硬度、耐磨性能、失效形式进行了分析和讨论。结果表明,TiN涂层冲头使用寿命比未涂层冲头可提高5倍。
关键词 离子膜 氮化钛 涂层 耐磨性 冲模 模具
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