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Study on Si-SiGe Three-Dimensional CMOS Integrated Circuits 被引量:2
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作者 胡辉勇 张鹤鸣 +2 位作者 贾新章 戴显英 宣荣喜 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期681-685,共5页
Based on the physical characteristics of SiGe material,a new three-dimensional (3D) CMOS IC structure is proposed,in which the first device layer is made of Si material for nMOS devices and the second device layer i... Based on the physical characteristics of SiGe material,a new three-dimensional (3D) CMOS IC structure is proposed,in which the first device layer is made of Si material for nMOS devices and the second device layer is made of Six Ge1- x material for pMOS. The intrinsic performance of ICs with the new structure is then limited by Si nMOS.The electrical characteristics of a Si-SiGe 3D CMOS device and inverter are all simulated and analyzed by MEDICI. The simulation results indicate that the Si-SiGe 3D CMOS ICs are faster than the Si-Si 3D CMOS ICs. The delay time of the 3D Si-SiGe CMOS inverter is 2-3ps,which is shorter than that of the 3D Si-Si CMOS inverter. 展开更多
关键词 SI-SIGE three-dimensional CMOS integrated circuits
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Through-silicon-via crosstalk model and optimization design for three-dimensional integrated circuits 被引量:3
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作者 钱利波 朱樟明 +2 位作者 夏银水 丁瑞雪 杨银堂 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期591-596,共6页
Through-silicon-via (TSV) to TSV crosstalk noise is one of the key factors affecting the signal integrity of three- dimensional integrated circuits (3D ICs). Based on the frequency dependent equivalent electrical ... Through-silicon-via (TSV) to TSV crosstalk noise is one of the key factors affecting the signal integrity of three- dimensional integrated circuits (3D ICs). Based on the frequency dependent equivalent electrical parameters for the TSV channel, an analytical crosstalk noise model is established to capture the TSV induced crosstalk noise. The impact of various design parameters including insulation dielectric, via pitch, via height, silicon conductivity, and terminal impedance on the crosstalk noise is analyzed with the proposed model. Two approaches are proposed to alleviate the TSV noise, namely, driver sizing and via shielding, and the SPICE results show 241 rnV and 379 mV reductions in the peak noise voltage, respectively. 展开更多
关键词 three-dimensional integrated circuits through-silicon-via crosstalk driver sizing via shielding
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Reduction of signal reflection along through silicon via channel in high-speed three-dimensional integration circuit 被引量:1
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作者 刘晓贤 朱樟明 +2 位作者 杨银堂 王凤娟 丁瑞雪 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第3期583-590,共8页
The through silicon via (TSV) technology has proven to be the critical enabler to realize a three-dimensional (3D) gigscale system with higher performance but shorter interconnect length. However, the received dig... The through silicon via (TSV) technology has proven to be the critical enabler to realize a three-dimensional (3D) gigscale system with higher performance but shorter interconnect length. However, the received digital signal after trans- mission through a TSV channel, composed of redistribution layers (RDLs), TSVs, and bumps, is degraded at a high data-rate due to the non-idealities of the channel. We propose the Chebyshev multisection transformers to reduce the signal reflec- tion of TSV channel when operating frequency goes up to 20 GHz, by which signal reflection coefficient ($11) and signal transmission coefficient ($21) are improved remarkably by 150% and 73.3%, respectively. Both the time delay and power dissipation are also reduced by 4% and 13.3%, respectively. The resistance-inductance-conductance-capacitance (RLGC) elements of the TSV channel are iterated from scattering (S)-parameters, and the proposed method of weakening the signal reflection is verified using high frequency simulator structure (HFSS) simulation software by Ansoft. 展开更多
关键词 three-dimensional integrated circuit through silicon via channel signal reflection S-PARAMETERS
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Some Tools to Model Ground or Supply Bounces Induced in and out of Heterogeneous Integrated Circuits
4
作者 Christian Gontrand Olivier Valorge +4 位作者 Rabah Dahmanil Fengyuan Sun Francis Calmon Jacques Verdier Paul Dautriche 《Computer Technology and Application》 2011年第10期788-800,共13页
Electrical ground looks simple on a schematic; unfortunately, the actual performance of a circuit is dictated by its layout (and by its printed-circuit-board). When the ground node moves, system performance suffers ... Electrical ground looks simple on a schematic; unfortunately, the actual performance of a circuit is dictated by its layout (and by its printed-circuit-board). When the ground node moves, system performance suffers and the system radiates electromagnetic interferences. But the understanding of the physics of ground noise can provide an intuitive sense for reducing the problem. Ground bounce can produce transients with amplitudes of volts; most often changing magnetic flux is the cause; in this work, the authors use a Finite-Difference Time-Domain to begin to understand such phenomena. Additionally, predicting substrate cross-talks in mixed-signal circuits has become a critical issue to preserve signal integrity in future integrated systems. Phenomena that involve parasitic signal propagation into the substrate are discussed. A simple methodology to predict the substrate cross-talk and some associated tools are presented. Finally, the authors indicate a stochastic method which could grasp both outer or inner RF (Radio-Frequency) radiations and substrate parasites. 展开更多
关键词 Electromagnetism 3D three-dimensional integration noise TSV (through silicon vias) ground or supply bounce mixed analog-digital integrated circuits substrate noise stochastic methodology.
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Three-dimensional global interconnect based on a design window
5
作者 钱利波 朱樟明 杨银堂 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第10期463-468,共6页
Based on a stochastic wire length distributed model, the interconnect distribution of a three-dimensional integrated circuit (3D IC) is predicted exactly. Using the results of this model, a global interconnect desig... Based on a stochastic wire length distributed model, the interconnect distribution of a three-dimensional integrated circuit (3D IC) is predicted exactly. Using the results of this model, a global interconnect design window for a giga-scale system-on-chip (SOC) is established by evaluating the constraints of 1) wiring resource, 2) wiring bandwidth, and 3) wiring noise. In comparison to a two-dimensional integrated circuit (2D IC) in a 130-nm and 45-nm technology node, the design window expands for a 3D IC to improve the design reliability and system performance, further supporting 3D IC application in future integrated circuit design. 展开更多
关键词 three-dimensional integrated circuit design window wiring resource bandwidth
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Speeding up carbon nanotube integrated circuits through three-dimensional architecture 被引量:5
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作者 Yunong Xie Zhiyong Zhang +1 位作者 Donglai Zhong Lianmao Peng 《Nano Research》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第8期1810-1816,共7页
Semiconducting carbon nanotube (CNT) field effect transistor (FET) is attractive for constructing three-dimensional (3D) integrated circuits (ICs) because of its low-temperature processes and low power dissipation. Ho... Semiconducting carbon nanotube (CNT) field effect transistor (FET) is attractive for constructing three-dimensional (3D) integrated circuits (ICs) because of its low-temperature processes and low power dissipation. However, CNT based 3D ICs reported usually suffered from lower performance than that of monolayer CNT ICs. In this work, we develop a 3D IC technology through integrating multi-layer high performance CNT film FETs into one chip, and show that it promotes the operation speed of CNT based 3D ICs considerably. We also explore the advantage on ICs of 3D architecture, which brings 38% improvement on speed over two-dimensional (2D) one. Specially, we demonstrate the fabrication of 3D five-stage ring-oscillator circuits with an oscillation frequency of up to 680 MHz and stage delay of 0.15 ns, which represents the highest speed of 3D CNT-based ICs. 展开更多
关键词 carbon NANOTUBE nanoelectronics FIELD-EFFECT TRANSISTORS three-dimensional (3D) integrated circuits ring OSCILLATOR
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集成电路三维封装力学仿真方法综述
7
作者 王凤娟 马丁 +5 位作者 孙传鸿 尹湘坤 杨媛 余宁梅 余明斌 李言 《电子与封装》 2026年第3期88-95,共8页
随着芯片集成度的不断提升与封装尺寸的持续缩小,摩尔定律逐渐逼近物理极限。为延续摩尔定律的发展,传统的二维平面封装已逐步向三维立体封装演进。然而,由于三维(3D)封装的复杂性和异构性,且封装结构内部不同材料的热膨胀系数(CTE)存... 随着芯片集成度的不断提升与封装尺寸的持续缩小,摩尔定律逐渐逼近物理极限。为延续摩尔定律的发展,传统的二维平面封装已逐步向三维立体封装演进。然而,由于三维(3D)封装的复杂性和异构性,且封装结构内部不同材料的热膨胀系数(CTE)存在差异,在温度循环、工作高温及环境应力的共同作用下,界面处易产生热应力集中,进而引发焊点疲劳断裂、硅通孔(TSV)侧壁开裂及层间剥离等力学失效问题。在此背景下,3D封装力学仿真技术已成为解决此类问题的重要手段,开展相关研究的必要性与紧迫性日益突出。系统梳理集成电路3D封装力学仿真技术的现有研究方法与最新进展,明确3D封装典型力学失效问题及对应的力学本构与失效准则,分类阐述有限元法(FEM)、边界元法(BEM) 2类核心仿真方法的基本原理、适用场景及技术局限,进而分析基于FEM和BEM的多物理场耦合仿真方法的技术演进逻辑及其在复杂失效场景中的应用价值,总结当前技术体系的核心瓶颈,并展望其未来发展前景。 展开更多
关键词 三维集成电路封装 有限元法 边界元法 多物理场耦合仿真
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Design and implementation of GM- APD array readout circuit for infrared imaging
8
作者 吴金 袁德军 +3 位作者 王灿 陈浩 郑丽霞 孙伟锋 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 2016年第1期11-15,共5页
Based on an avalanche photodiode( APD) detecting array working in Geiger mode( GM-APD), a high-performance infrared sensor readout integrated circuit( ROIC) used for infrared 3D( three-dimensional) imaging is ... Based on an avalanche photodiode( APD) detecting array working in Geiger mode( GM-APD), a high-performance infrared sensor readout integrated circuit( ROIC) used for infrared 3D( three-dimensional) imaging is proposed. The system mainly consists of three functional modules, including active quenching circuit( AQC), time-to-digital converter( TDC) circuit and other timing controller circuit. Each AQC and TDC circuit together constitutes the pixel circuit. Under the cooperation with other modules, the current signal generated by the GM-APD sensor is detected by the AQC, and the photon time-of-flight( TOF) is measured and converted to a digital signal output to achieve a better noise suppression and a higher detection sensitivity by the TDC. The ROIC circuit is fabricated by the CSMC 0. 5 μm standard CMOS technology. The array size is 8 × 8, and the center distance of two adjacent cells is 100μm. The measurement results of the chip showthat the performance of the circuit is good, and the chip can achieve 1 ns time resolution with a 250 MHz reference clock, and the circuit can be used in the array structure of the infrared detection system or focal plane array( FPA). 展开更多
关键词 infrared 3D(three-dimensional imaging readout integrated circuit(ROIC) Geiger mode avalanche photodiode active quenching circuit(AQC) time-to-digital converter(TDC)
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一款高可靠陶瓷封装微电源模块研究
9
作者 李平 姚平平 刘俊 《中国集成电路》 2026年第3期87-91,共5页
为满足现代装备控制系统对高可靠、高功率密度微电源模块的迫切需求,本文提出一种基于混合集成电路工艺与CBGA封装技术的陶瓷封装微电源模块方案。该产品采用氧化铝陶瓷管基一体化设计,采用CBGA封装,结合混合集成电路工艺完成产品设计,... 为满足现代装备控制系统对高可靠、高功率密度微电源模块的迫切需求,本文提出一种基于混合集成电路工艺与CBGA封装技术的陶瓷封装微电源模块方案。该产品采用氧化铝陶瓷管基一体化设计,采用CBGA封装,结合混合集成电路工艺完成产品设计,最终尺寸为16 mm×10.5 mm×5.0 mm。仿真与实验结果表明,该微电源模块在-55℃~125℃全温区范围内效率保持90%以上,可稳定实现四路独立4 A输出,完全满足现代装备对器件的高可靠性要求,为商业航天、小型卫星等领域的高可靠电源场景提供了小型化、高集成度的优质解决方案。 展开更多
关键词 微电源模块 高功率密度 混合集成电路 CBGA封装
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分布式对象存储在集成电路封测工厂的应用
10
作者 王兴刚 魏峰 周军德 《中国集成电路》 2025年第12期70-73,共4页
随着集成电路封装测试工艺日益复杂,封测过程中产生的数据呈指数级增长。封测数据具有海量性、多样性与复杂性的特点,传统的存储方案已难以满足要求。本文通过研究分布式对象存储,设计实施了一种全新的存储方案。实践结果表明,该方案显... 随着集成电路封装测试工艺日益复杂,封测过程中产生的数据呈指数级增长。封测数据具有海量性、多样性与复杂性的特点,传统的存储方案已难以满足要求。本文通过研究分布式对象存储,设计实施了一种全新的存储方案。实践结果表明,该方案显著提升了系统存储数据的性能、访问效率以及数据安全性。 展开更多
关键词 集成电路封测 分布式 对象存储
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高密度集成电路封装基板微缺陷检测方法研究
11
作者 王建荣 马万里 +3 位作者 黄渊 葛飞虎 廖忠智 宣慧 《中国集成电路》 2025年第5期64-69,共6页
由于易受遮蔽、噪声及光照变化等外部因素的干扰,封装基板表面纹理复杂,微缺陷往往与背景噪声难以区分,且受制于成像设备的精度限制,缺陷边缘信息易被模糊化,导致传统检测方法在特征提取与分类阶段难以准确区分前景与背景,降低了检测结... 由于易受遮蔽、噪声及光照变化等外部因素的干扰,封装基板表面纹理复杂,微缺陷往往与背景噪声难以区分,且受制于成像设备的精度限制,缺陷边缘信息易被模糊化,导致传统检测方法在特征提取与分类阶段难以准确区分前景与背景,降低了检测结果的准确性。因此,提出高密度集成电路封装基板微缺陷检测方法。通过均值滤波平滑处理、形态学膨胀操作以及设计纹理算子等方法,对高密度集成电路封装基板图像数据进行系统化处理,抑制噪声并凸显微缺陷。采用图像二值化处理、能量区划分与特征熵计算、离散余弦变换等技术,从处理后的图像中提取清晰的前景与背景界定、缺陷的形状特征以及细节特征。在缺陷检测阶段,采用基于形状的模板匹配方法,应对遮蔽、噪声以及光照变化等外部因素的干扰,针对微小且难以准确检测的缺陷样本,在损失函数中融入Focal Loss策略,实现对高密度集成电路封装基板微缺陷的精准检测。实验结果表明,研究方法能够在高密度集成电路封装基板微缺陷检测中显著提高缺陷定位精度和缺陷检测灵敏度,从而提高了缺陷检测的准确性。 展开更多
关键词 高密度集成电路 封装基板 特征提取 微缺陷 缺陷检测
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集成电路用电子化学品国产化进展与挑战 被引量:1
12
作者 李静静 《山东化工》 2025年第16期67-69,共3页
集成电路作为现代信息技术的基石,其制造过程高度依赖光刻胶、封装材料、湿电子化学品和电子气体等关键电子化学品。近年来,在政策支持和产业需求双重推动下,我国电子化学品国产化进程取得显著成效,但在高端产品领域的仍存在技术壁垒和... 集成电路作为现代信息技术的基石,其制造过程高度依赖光刻胶、封装材料、湿电子化学品和电子气体等关键电子化学品。近年来,在政策支持和产业需求双重推动下,我国电子化学品国产化进程取得显著成效,但在高端产品领域的仍存在技术壁垒和供应链安全风险。本文系统梳理了光刻胶、封装材料、湿电子化学品和电子气体的国产化进展,深度分析了当前面临的技术瓶颈与产业链协同挑战,并提出加强产学研合作、突破关键原料设备与配套等建议,以期为我国电子化学品发展提供参考。 展开更多
关键词 集成电路 电子化学品 国产化 光刻胶 封装材料 湿电子化学品 电子气体
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液体环氧塑封料的应用进展
13
作者 肖思成 李端怡 +2 位作者 任茜 王振中 刘金刚 《电子与封装》 2025年第10期30-36,共7页
系统梳理并总结了液体环氧塑封料(LEMC)的应用领域及实际应用情况。从集成电路先进封装技术的发展对LEMC的性能需求、LEMC的组成与结构设计、LEMC的研究与开发等角度阐述了LEMC在扇出型晶圆级封装(FOWLP)以及高带宽存储器(HBM)中的应用... 系统梳理并总结了液体环氧塑封料(LEMC)的应用领域及实际应用情况。从集成电路先进封装技术的发展对LEMC的性能需求、LEMC的组成与结构设计、LEMC的研究与开发等角度阐述了LEMC在扇出型晶圆级封装(FOWLP)以及高带宽存储器(HBM)中的应用进展。 展开更多
关键词 液体环氧塑封料 集成电路封装 高带宽存储器 回流成型底部填充(MR-MUF)
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一种高精度微型石英挠性加速度计信号检测电路
14
作者 沈时俊 何一蕾 +1 位作者 刘嘉 王晨阳 《电子产品可靠性与环境试验》 2025年第4期98-103,共6页
针对高精度捷联惯导核心器件石英挠性加速度计的输出电流信号检测需求,基于Δ-Σ型模数转换器与高精度差分信号调理技术设计检测电路;依托高密度布线双腔氮化铝陶瓷封装外壳及裸芯片混合集成微组装工艺实现系统级高密度封装;并通过热-... 针对高精度捷联惯导核心器件石英挠性加速度计的输出电流信号检测需求,基于Δ-Σ型模数转换器与高精度差分信号调理技术设计检测电路;依托高密度布线双腔氮化铝陶瓷封装外壳及裸芯片混合集成微组装工艺实现系统级高密度封装;并通过热-应力联合仿真验证方案可靠性。该方案在保持与传统电流频率转换电路同等精度的前提下,大幅缩减电路规模,其最终产品尺寸仅31 mm×25 mm×5.1 mm且可靠性达H级,这一特性显著提升了在航空航天等极端环境下的工程适用性。 展开更多
关键词 石英挠性加速度计 Δ-Σ型模数转换器 差分信号调理 氮化铝陶瓷外壳 混合集成 电流信号检测电路
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金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料的介电特性和热学性能研究 被引量:10
15
作者 王林军 方志军 +2 位作者 张明龙 沈沪江 夏义本 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期902-906,共5页
研究了金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料作为超高速、大功率集成电路封装基板材料的可行性。采用电容法测量了复合材料的介电性质,结果表明在氧化铝上沉积金刚石膜,能有效降低基片材料的介电系数。碳离子预注入处理使介电损耗降低(从5×... 研究了金刚石膜/氧化铝陶瓷复合材料作为超高速、大功率集成电路封装基板材料的可行性。采用电容法测量了复合材料的介电性质,结果表明在氧化铝上沉积金刚石膜,能有效降低基片材料的介电系数。碳离子预注入处理使介电损耗降低(从5×10-3降低到2×10-3),且频率稳定性更好。金刚石膜的沉积可明显提高基片的热导率,随着薄膜厚度的增加,复合材料的热导率单调递增。当薄膜厚度超过100μm时复合材料的介电系数下降到6.5、热导率上升至3.98W/cm·K,热导率接近氧化铝的20倍。 展开更多
关键词 金刚石膜 氧化铝陶瓷 集成电路 封装基板
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电子封装件受热载荷作用有限元数值模拟分析 被引量:14
16
作者 葛增杰 顾元宪 +1 位作者 王宏伟 靳永欣 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期320-325,共6页
针对典型塑料方形扁平封装体PQFP在工作过程中的受热分析问题,基于热弹性力学理论建立了二维和三维有限元数值模拟分析模型.研究了封装体在功率耗散情况下受均匀和非均匀热载作用时其材料的热膨胀和导热性质.有限元数值模拟取得了与实... 针对典型塑料方形扁平封装体PQFP在工作过程中的受热分析问题,基于热弹性力学理论建立了二维和三维有限元数值模拟分析模型.研究了封装体在功率耗散情况下受均匀和非均匀热载作用时其材料的热膨胀和导热性质.有限元数值模拟取得了与实验一致的结果.数值结果表明,采用较小弹性模量和热膨胀率的材料可以有效地减小热应力,基板和芯片的厚度是影响封装体变形的主要参数.数值分析结果为提高封装件的可靠性和优化设计提供了理论依据. 展开更多
关键词 数值模拟分析 载荷作用 电子封装 受热 三维有限元数值模拟 热弹性力学 分析问题 工作过程 数值结果 导热性质 功率耗散 分析模型 理论建立 热膨胀率 弹性模量 优化设计 分析结果 封装体 非均匀 热应力 可靠性 体变形 材料
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小型化硅微谐振式加速度计的实现与性能测试 被引量:12
17
作者 赵健 施芹 +3 位作者 夏国明 裘安萍 吴志强 苏岩 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第8期1927-1933,共7页
设计了一款由微机电系统和专用集成电路构成的小型化硅微谐振式加速度计。该加速度计采用80μm厚SOI工艺加工微机电系统(MEMS)结构,采取真空封装技术降低结构噪声。首先,采用振荡信号作为自动增益控制电路中斩波器的控制信号,降低了闪... 设计了一款由微机电系统和专用集成电路构成的小型化硅微谐振式加速度计。该加速度计采用80μm厚SOI工艺加工微机电系统(MEMS)结构,采取真空封装技术降低结构噪声。首先,采用振荡信号作为自动增益控制电路中斩波器的控制信号,降低了闪变噪声且不会引入额外的功耗。其次,使用线性区工作的乘法器取代传统的吉尔伯特单元,通过大幅降低系统总体供电电压来降低功耗。最后,采用复位计数器进行频率数字转换,在所关心的带宽内抑制量化噪声。实验显示:该加速度计在达到±30 g线性量程的前提下,实现了2.5μg/√Hz的分辨率和1μg的零偏不稳定度。此外,为了减小电路自身发热引起的温度漂移,该样机的功耗被控制在3.5mW以内,系统集成后的尺寸约为45mm×30mm×20mm。基于所述技术,系统在体积、功耗和性能方面均有较大的提升。 展开更多
关键词 硅微谐振式加速度计 专用集成电路 SOI工艺 真空封装 小型化 低功耗
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大规模集成电路封装用环氧树脂复合材料流动性影响分析 被引量:3
18
作者 杨明山 刘阳 +2 位作者 何杰 李林楷 王哲 《高分子材料科学与工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期81-83,共3页
对不同环氧树脂的熔融黏度(150℃)进行了分析,结果表明,联苯型环氧树脂(TMBP)熔融黏度极低(0.02 Pa.s),用TMBP与邻甲酚醛环氧树脂(ECN)共混,可大大降低ECN的黏度。硅微粉含量和粒径对环氧树脂复合材料流动行为有较大的影响。随着硅微粉... 对不同环氧树脂的熔融黏度(150℃)进行了分析,结果表明,联苯型环氧树脂(TMBP)熔融黏度极低(0.02 Pa.s),用TMBP与邻甲酚醛环氧树脂(ECN)共混,可大大降低ECN的黏度。硅微粉含量和粒径对环氧树脂复合材料流动行为有较大的影响。随着硅微粉含量的增加,体系的熔融黏度大大增加。高硅微粉含量的体系,其熔融黏度在低剪切速率下,呈现"剪切变稀",在较高剪切速率下呈现"剪切变稠",而在高剪切速率下又表现为"剪切变稀";小粒径硅微粉填充体系在低剪切速率下黏度小,而在高剪切速率下黏度大,大粒径硅微粉填充体系正好与此相反。 展开更多
关键词 环氧树脂复合材料 集成电路封装 硅微粉 流动性
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影响高精细丝网印刷质量的因素 被引量:8
19
作者 唐利锋 曹坤 +1 位作者 程凯 庞学满 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期188-191,共4页
丝网印刷已成为微电子封装厚膜电路生产中的关键工艺技术。为满足微电子封装高精度、高密度的要求,从网版和印刷工艺参数两方面分析了影响高精细丝网印刷质量的因素。通过选用一定规格的不锈钢丝网,涂覆适当厚度的感光膜,开发出适合印... 丝网印刷已成为微电子封装厚膜电路生产中的关键工艺技术。为满足微电子封装高精度、高密度的要求,从网版和印刷工艺参数两方面分析了影响高精细丝网印刷质量的因素。通过选用一定规格的不锈钢丝网,涂覆适当厚度的感光膜,开发出适合印刷50μm线宽和线间距的精密印刷网版;优化印刷工艺参数,将其中的刮刀压力、刮刀速度、离网间距分别控制在一定范围内,使印刷图形的变形量减少到200mm±30μm,实现线宽和间距为50μm、边缘清晰的精细印刷。 展开更多
关键词 精细印刷 丝网 微电子封装 厚膜电路
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圆片级芯片尺寸封装技术及其应用综述 被引量:7
20
作者 成立 王振宇 +3 位作者 祝俊 赵倩 侍寿永 朱漪云 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期38-43,共6页
综述了圆片级芯片尺寸封装(WL-CSP)的新技术及其应用概要,包括WL-CSP的关键工艺技术、封装与测试描述、观测方法和WL-CSP技术的可靠性及其相关分析等。并对比研究了几种圆片级再分布芯片尺寸封装方式的工艺特征和技术要点,从而说明了WL-... 综述了圆片级芯片尺寸封装(WL-CSP)的新技术及其应用概要,包括WL-CSP的关键工艺技术、封装与测试描述、观测方法和WL-CSP技术的可靠性及其相关分析等。并对比研究了几种圆片级再分布芯片尺寸封装方式的工艺特征和技术要点,从而说明了WL-CSP的技术优势及其应用前景。 展开更多
关键词 集成电路 圆片级芯片尺寸封装 技术优势 应用前景
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