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同质缓冲层厚度对磁控溅射法制备玻璃基AZO薄膜的结构与光电性能影响 被引量:3
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作者 王鹏 赵青南 +1 位作者 周祥 赵修建 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期589-593,共5页
室温下在玻璃基片上用射频磁控溅射法制备了不同厚度的ZnO:Al(AZO)缓冲层,并在该同质缓冲层上溅射生长了AZO薄膜。用XRD测试了薄膜结构,用四探针法测量了薄膜方块电阻,用紫外-可见光谱仪测试了薄膜透过率,用双光束红外分光光度计测试了... 室温下在玻璃基片上用射频磁控溅射法制备了不同厚度的ZnO:Al(AZO)缓冲层,并在该同质缓冲层上溅射生长了AZO薄膜。用XRD测试了薄膜结构,用四探针法测量了薄膜方块电阻,用紫外-可见光谱仪测试了薄膜透过率,用双光束红外分光光度计测试了薄膜在中红外范围内的红外反射率。并比较并分析了引入同质缓冲层前后薄膜结构与性能的变化。结果表明,与没有缓冲层的样品相比较,适当厚度的同质缓冲层能降低AZO薄膜中的残余应力,使薄膜晶粒尺寸变大,降低AZO薄膜的方块电阻,使薄膜的紫外截止边发生蓝移,增加薄膜的红外反射率,并不明显影响薄膜的可见光透过率。 展开更多
关键词 同质缓冲层 ZNO:AL薄膜 射频磁控溅射法 方块电阻 玻璃基片
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退火温度对同质缓冲层ZnO薄膜微观结构和光学特性的影响 被引量:2
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作者 马书懿 赵强 +5 位作者 靳钰珉 马李刚 张小雷 刘静 杨付超 李发明 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2012年第4期27-32,共6页
采用射频磁控溅射法在300℃真空退火处理过的同质缓冲层上制备了不同退火温度下的ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)和光致发光(PL)等表征技术,研究了ZnO薄膜的微观结构和发光特性.结果表明:在6min缓冲层上制备的ZnO薄膜有较好的结晶质量,... 采用射频磁控溅射法在300℃真空退火处理过的同质缓冲层上制备了不同退火温度下的ZnO薄膜.使用X射线衍射仪(XRD)和光致发光(PL)等表征技术,研究了ZnO薄膜的微观结构和发光特性.结果表明:在6min缓冲层上制备的ZnO薄膜有较好的结晶质量,并且在适当的退火温度下薄膜的结晶质量进一步提高.薄膜在可见光范围内的平均透过率均超过90%,光学带隙值随退火温度的增加由3.221eV减小为3.184eV.在光致发光谱(PL)中观测到了5个主要的发光峰位,分别是紫外光(384nm)、紫光(420nm)、蓝光(455nm和473nm)和绿光(530nm).对发光机制进行详细讨论认为,紫外光是自由激子复合形成的,紫光与晶界缺陷的辐射跃迁有关,蓝光与氧空位和间隙锌缺陷有关,绿光发射主要是电子从氧空位深施主能级向锌空位浅受主能级上的辐射跃迁.退火温度从400℃增加到600℃时,455nm处的蓝光峰蓝移至447nm处,发光强度随退火温度增加而增加.继续升高退火温度至700℃,530nm处的绿光峰强度降低,认为和锌空位的减少有关. 展开更多
关键词 同质缓冲层 ZNO薄膜 光致发光 辐射跃迁
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同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响 被引量:3
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作者 朱慧群 丁瑞钦 +1 位作者 蔡继业 胡怡 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期48-51,共4页
利用射频磁控溅射技术,在单晶硅衬底上生长出高质量(0002)晶面取向的ZnO外延薄膜。通过XRD、AFM、吸收光谱、光致荧光发光谱的实验研究,发现加入适当厚度的、低温生长的ZnO同质缓冲层,可有效降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格... 利用射频磁控溅射技术,在单晶硅衬底上生长出高质量(0002)晶面取向的ZnO外延薄膜。通过XRD、AFM、吸收光谱、光致荧光发光谱的实验研究,发现加入适当厚度的、低温生长的ZnO同质缓冲层,可有效降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格畸变。在衬底温度200℃、沉积时间5min的ZnO缓冲层上,以450℃衬底温度溅射ZnO薄膜主层,得到的ZnO样品的晶体结构、表面形貌和光学性质均有较明显的改善。 展开更多
关键词 半导体技术 射频磁控溅射 ZNO薄膜 同质缓冲层 PL谱
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同质缓冲层对氧化铟锡薄膜特性的影响
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作者 宋淑梅 宋玉厚 +3 位作者 杨田林 贾绍辉 辛艳青 李延辉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期2520-2524,2531,共6页
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有不同厚度ITO同质缓冲层的ITO薄膜。利用X射线衍射、半导体特性测试仪、紫外-可见光分光光度计等测试了薄膜的特性。结果表明:与单层ITO薄膜相比,具有厚度16nm ITO同质缓冲层的ITO薄膜的电阻... 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了具有不同厚度ITO同质缓冲层的ITO薄膜。利用X射线衍射、半导体特性测试仪、紫外-可见光分光光度计等测试了薄膜的特性。结果表明:与单层ITO薄膜相比,具有厚度16nm ITO同质缓冲层的ITO薄膜的电阻率下降了30%,薄膜的电阻率达到2.65×10-4Ω·cm,可见光范围内的平均透过率为91.5%。 展开更多
关键词 ITO 同质缓冲层 电阻率 透过率
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Preparation of ZnO Thin Films on Free-Standing Diamond Substrates
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作者 唐可 王林军 +6 位作者 黄健 徐闰 赖建明 王俊 闵嘉华 史伟民 夏义本 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期587-591,共5页
Highly c-axis-oriented ZnO films were deposited successfully on the nucleation sides of free-standing diamond (FD) films by the direct current (DC) magnetron sputtering method. The effect of the sputtering paramet... Highly c-axis-oriented ZnO films were deposited successfully on the nucleation sides of free-standing diamond (FD) films by the direct current (DC) magnetron sputtering method. The effect of the sputtering parameters, such as power, gas pressure and sputtering plasma composition of Ar-to-O2, on the properties of ZnO thin films was investigated in detail. X-ray diffraction (XRD) measurements showed that, at a sputtering power of 200 W, gas pressure of 0.5 Pa and an Ar-to- O2 composition of 1:1, a higher intensity of the (002) diffraction peak and a narrower full width at half maximum (FWHM) were detected which meant high c-axis orientation and high quality of the ZnO films. To improve the quality of the ZnO film, a thin ZnO layer was pre-grown as a homo-buffer layer. XRD measurements showed that this buffer layer had a beneficial effect on the structural and morphological properties of the post-grown ZnO film. 展开更多
关键词 ZnO free-standing diamond films homo-buffer layer direct current (DC)magnetron sputtering
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同质缓冲层厚度对掺铝氧化锌薄膜性能的影响 被引量:1
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作者 杨斌 王连杰 +2 位作者 张平 宋淑梅 杨田林 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期25-27,共3页
室温下,采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备具有同质缓冲层的ZnO∶Al(AZO)薄膜。用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针探测仪等对薄膜的结构和光电性能进行了研究。结果表明:当薄膜总厚度为400 nm时,制备具有66 nm同质缓冲层的... 室温下,采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备具有同质缓冲层的ZnO∶Al(AZO)薄膜。用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针探测仪等对薄膜的结构和光电性能进行了研究。结果表明:当薄膜总厚度为400 nm时,制备具有66 nm同质缓冲层的AZO薄膜的方块电阻为26Ω.□–1,与单层AZO(400 nm)薄膜的方块电阻(63Ω.□–1)相比,下降了59%,其在可见光范围内的平均透过率为91%。 展开更多
关键词 AZO 同质缓冲层 厚度 方块电阻 透过率
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同质缓冲层温度对ZnO薄膜质量的影响
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作者 徐锋 蒋大勇 +3 位作者 曹雪 孙云刚 陈濛 刘芯宇 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2012年第1期128-130,共3页
ZnO是一种宽禁带半导体,由于其优良的物理和化学性能得到越来越多的青睐,并成为了光电器件的首选材料。本文采用射频磁控溅射技术在石英衬底上溅射ZnO同质缓冲层,之后再生长ZnO薄膜。缓冲层温度分别为373、473、573和673 K,生长温度为77... ZnO是一种宽禁带半导体,由于其优良的物理和化学性能得到越来越多的青睐,并成为了光电器件的首选材料。本文采用射频磁控溅射技术在石英衬底上溅射ZnO同质缓冲层,之后再生长ZnO薄膜。缓冲层温度分别为373、473、573和673 K,生长温度为773 K。X射线衍射结果表明ZnO薄膜为六方结构,并且是(002)择优取向。综合吸收光谱和和光致发光谱,缓冲层温度为673 K时制备的薄膜的结晶质量最好。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 射频磁控溅射 同质缓冲层温度 吸收谱
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