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Realization of 193 nm DUV laser through direct frequency doubling with GaN-based UVA laser diode and ABF crystal
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作者 Feng Liang Fangfang Zhang +2 位作者 Jing Yang Degang Zhao Shilie Pan 《Journal of Semiconductors》 2026年第1期2-4,共3页
The 193 nm deep-ultraviolet(DUV)laser plays a critical role in advanced semiconductor chip manufacturing[1,2],micro-nano material characterization[3,4]and biomedical analysis[5,6],due to its high spatial resolution an... The 193 nm deep-ultraviolet(DUV)laser plays a critical role in advanced semiconductor chip manufacturing[1,2],micro-nano material characterization[3,4]and biomedical analysis[5,6],due to its high spatial resolution and short wavelength.Efficient and compact 193 nm DUV laser source thus becomes a hot research area.Currently,193 nm Ar F excimer gas laser is widely employed in DUV lithography systems and serves as the enabling technology for 7 and 5 nm semiconductor fabrication. 展开更多
关键词 direct frequency doubling biomedical analysis due enabling technology duv lithography systems nm duv laser ar f excimer gas laser advanced semiconductor chip nm semiconductor fabrication
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基于专利分析的DUV光刻机光源技术发展态势研究
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作者 朱海业 张彩云 《中国发明与专利》 2025年第S1期62-70,共9页
[目的/意义]光刻机技术的自主可控直接关系国家制造安全。深紫外光刻机凭借成熟稳定的工艺仍是成熟制程芯片的核心生产设备,但我国长期受技术封锁。其核心部件深紫外光源技术被美日龙头企业垄断,成为深紫外光刻机国产化短板之一,亟须突... [目的/意义]光刻机技术的自主可控直接关系国家制造安全。深紫外光刻机凭借成熟稳定的工艺仍是成熟制程芯片的核心生产设备,但我国长期受技术封锁。其核心部件深紫外光源技术被美日龙头企业垄断,成为深紫外光刻机国产化短板之一,亟须突破。[方法/过程]本文聚焦深紫外光刻机所用深紫外光源技术,通过系统性专利检索和分析,重点分析全球专利态势、主要申请人布局、技术路线演进,以揭示我国创新主体在该领域的现状以及存在的问题与不足。[结果/结论]我国在深紫外光源领域存在核心专利积累薄弱、关键技术路线掌控不足、企业竞争力弱等问题,正处于追赶阶段,建议强化研究、推动产学研协同创新、优化专利布局,为提升深紫外光刻机性能,加速国产化提供一定指导。 展开更多
关键词 duv光刻机 深紫外光源 发展态势 技术路线 专利分析
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Anomalous lattice vibration in monolayer MoS_(2) induced by DUV laser: A first-principles investigation
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作者 Weidong Wang Renhui Liu +7 位作者 Ye Zhang Huaihong Guo Jianqi Huang Zhantong Liu Heting Zhao Kai Wang Bo Zhao Teng Yang 《Chinese Physics B》 2025年第6期445-451,共7页
MoS_(2) monolayer, as a highly promising two-dimensional semiconducting material for electronic and optoelectronic applications, exhibits deep-ultraviolet(DUV) laser-induced anomalous lattice dynamics as revealed by R... MoS_(2) monolayer, as a highly promising two-dimensional semiconducting material for electronic and optoelectronic applications, exhibits deep-ultraviolet(DUV) laser-induced anomalous lattice dynamics as revealed by Raman spectroscopy. Remarkably, not only the Raman intensity of many second-order Raman peaks but also the intensity ratio between the first-order modes E′and A′_1 exhibits a non-monotonic behavior that depends on laser energy. Moreover, there are significant inconsistencies in the literature regarding the assignments of these second-order Raman modes. In this work, we perform a thorough exploration of the anomalous lattice dynamics and conduct a renewed assignment of the numerous double resonant Raman modes of MoS_(2) monolayer. At three laser energies(E_L= 2.33, 3.50, and 4.66 e V) spanning from the visible to the ultraviolet and further into the DUV region, the calculated double-resonance Raman spectra correlate reasonably well with the experimental ones in terms of both peak positions and relative intensities. We confirm that the P_1 peak at ~450 cm^(-1) represents the second-order longitudinal acoustic(2LA) overtone mode. Each of the P_i(i = 1, 2,..., 7) peaks has multiple contributions from two phonons with distinct q wavevectors. Our calculations further reveal that the DUV laser-induced anomalous lattice dynamics stems from the quantum interference effect among different Raman scattering channels. 展开更多
关键词 deep-ultraviolet(duv)laser anomalous lattice dynamics double-resonance Raman modes quantum interference effect
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基于仿生平面复眼透镜提高AlGaN基DUV Micro-LED光提取效率
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作者 刘欢 杨涛 +3 位作者 王铠尧 刘宁炀 周文 谭起龙 《机电工程技术》 2025年第3期47-51,共5页
内全反射是限制AlGaN基深紫外微型发光二极管(DUV Micro-LED)光提取效率的重要因素之一,严重降低了深紫外LED的能量利用率和寿命。受到昆虫复眼结构高能量利用率的启发,提出了一种基于仿生平面复眼透镜提高AlGaN基Micro-LED光提取效率... 内全反射是限制AlGaN基深紫外微型发光二极管(DUV Micro-LED)光提取效率的重要因素之一,严重降低了深紫外LED的能量利用率和寿命。受到昆虫复眼结构高能量利用率的启发,提出了一种基于仿生平面复眼透镜提高AlGaN基Micro-LED光提取效率的方法。通过对中华大刀螳的复眼结构进行相位提取和重构,利用仿生平面复眼能够有效抑制介质表面的内全反射,从而实现深紫外LED光提取效率的显著提高。时域有限差分法(FDTD)仿真表明,通过在Micro-LED表面刻蚀仿生平面复眼透镜,其TE和TM模式的光提取效率分别提高了84.5%和242%。得益于仿生超构表面平面复眼透镜超薄的平面结构和工艺的兼容性,有望通过单次纳米压印提高深紫外发光二极管性能。此外,利用仿生特征的功能重构方法在大视场、结构照明和仿生结构等方面具有潜在的应用前景。 展开更多
关键词 深紫外微型发光二极管 光提取效率 平面复眼透镜
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DUV光致抗蚀剂的研究进展(Ⅰ)——主体成膜高分子部分 被引量:3
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作者 杨凌露 张改莲 余尚先 《信息记录材料》 2003年第1期16-19,共4页
综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展 ,特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述。并指出 ,通过改进感光高分子的结构与组成 。
关键词 duv光致抗蚀剂 矩阵树脂 产酸源 阻溶剂 化学增幅
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DUV光致抗蚀剂的研究进展Ⅱ——光产酸源、阻溶剂等添加剂部分 被引量:1
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作者 杨凌露 张改莲 余尚先 《信息记录材料》 2003年第2期23-26,共4页
关键词 duv光致抗蚀剂 研究进展 光产酸源 阻溶剂 添加剂
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用于AlGaN基DUV LED封装的高反射镀铝DPC陶瓷基板 被引量:4
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作者 杨宇铭 李燕 +5 位作者 郑怀文 于飞 杨华 伊晓燕 王军喜 李晋闽 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2020年第10期991-999,共9页
传统的直接镀铜(DPC)陶瓷基板的焊盘上镀有Ni/Au金属覆盖层,它会强烈吸收紫外(UV)光。为了提高深紫外发光二极管(DUV LED)的光提取效率(LEE),设计并制备了镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板。这种基板拥有一层完全覆盖基板焊盘的Ni/Au镀层... 传统的直接镀铜(DPC)陶瓷基板的焊盘上镀有Ni/Au金属覆盖层,它会强烈吸收紫外(UV)光。为了提高深紫外发光二极管(DUV LED)的光提取效率(LEE),设计并制备了镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板。这种基板拥有一层完全覆盖基板焊盘的Ni/Au镀层为LED提供电互连,以及一层部分覆盖Ni/Au镀层的高反射Al镀层为UV光提供优异的反射。测量了分别由镀Al的DPC陶瓷基板和仅有一层Ni/Au镀层的传统DPC陶瓷基板所封装的DUV LED的光学、电学和热学性质,并建立了LED封装体的模型并进行了分析。结果表明,通过使用镀Al的DPC陶瓷基板,DUV LED的光输出功率(LOP)提高了19.2%,功率效率(WPE)和外量子效率(EQE)则分别提高为传统封装的1.20和1.19倍。此外,经过160 h的老化测试,使用镀Al的DPC陶瓷基板封装的LED表现出了更好的可靠性。这种镀Al的双层金属镀层DPC陶瓷基板为通过封装改善DUV LED的LEE提供了可行的方法。 展开更多
关键词 duv LED封装 DPC陶瓷基板 光学特性 热阻
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DUV投影光刻制作T型栅
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作者 杨中月 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第5期311-313,318,共4页
描述了一种采用化学方法的分辨率增强技术制作深亚微米T型栅的技术。该技术采用DUV投影光刻机和化学放大正性光刻胶(CAR)以及分辨率增强技术,在完成源漏制作等工艺的严重不平坦的GaAs衬底上,采用0.25μm设计的光刻版制作出0.18μmT型栅... 描述了一种采用化学方法的分辨率增强技术制作深亚微米T型栅的技术。该技术采用DUV投影光刻机和化学放大正性光刻胶(CAR)以及分辨率增强技术,在完成源漏制作等工艺的严重不平坦的GaAs衬底上,采用0.25μm设计的光刻版制作出0.18μmT型栅,突破了采用常规光学光刻时栅长的制作限制。介绍了GaAs器件在栅光刻时遇到的困难,描述了工艺制作过程,并讨论了该工艺技术中每步工艺的思路和采用的工艺原理。通过在6~18GHz GaAsP HEMT功率放大器制作中的应用,提高了器件性能及成品率,并给出了测试结果以及0.18μmT型栅的电镜图片。 展开更多
关键词 T型栅 深紫外 化学放大胶 分辨率增强技术 砷化镓 赝配高电子迁移率晶体管 单片微波集成电路
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一种新型的I线和DUV线步进机的设计思路
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作者 Unge.,R 《LSI制造与测试》 1995年第2期27-37,共11页
本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率... 本文讨论了新生产线上一种步进机,它是由美国半导体制造技术联合体和它的几个子公司联合开发的。它应用i线(365nm)和深紫外(DUV248nm)波长,具有高数值孔径、大视场精缩镜头特点,适用的工作焦深,i线机实用分辨率可达0.5μm,而DUV机实用分辨率为0.35μm。结合这些设备的设计,特别是从对准区域、调焦、INSITU计量、自动校准和诊断效用方面,简述了步进机的曝光技术。该设备新添的特点。 展开更多
关键词 I线 duv线 步进机 微细曝光设备 设计
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Al组分三角形渐变P-EBL结构AlGaN基DUV LED数值分析
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作者 赵志斌 曲轶 +4 位作者 陈浩 乔忠良 李林 李再金 刘国军 《光学与光电技术》 2021年第3期20-24,共5页
效率陡降严重影响AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED)的输出性能,也是近年来DUV LED的一个瓶颈性问题。对常规电子阻挡层(P-EBL)和Al组分三角形渐变P-EBL两种结构DUV LED进行了数值分析。研究了能带、电子电流、空穴浓度、电场、内量子... 效率陡降严重影响AlGaN基深紫外发光二极管(DUV LED)的输出性能,也是近年来DUV LED的一个瓶颈性问题。对常规电子阻挡层(P-EBL)和Al组分三角形渐变P-EBL两种结构DUV LED进行了数值分析。研究了能带、电子电流、空穴浓度、电场、内量子效率、输出功率和自发辐射光谱的分布特性。模拟结果表明,在260 mA电流注入时,相比常规PEBL结构,Al组分三角形渐变P-EBL结构DUV LED的效率陡降减小了5.85%,改善了DUV LED输出性能。根据数值模拟和分析,器件输出性能改善的原因是Al组分三角形渐变P-EBL结构提高导带势垒高度和增强空穴在P型区域获得的动能,从而减小电子泄漏,并提高了空穴注入效率。 展开更多
关键词 紫外发光二极管 Al组分三角形渐变P-EBL 电子泄漏 效率陡降
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DUV 光子创可贴联合康复新液治疗口腔黏膜炎的效果 被引量:2
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作者 孙爱莲 陈蕾 赵春玲 《中华现代护理杂志》 2014年第22期2856-2858,共3页
目的:探讨DUV光子创可贴联合康复新液治疗口腔黏膜炎的效果。方法选择小儿血液科恶性肿瘤疾病患儿化疗后并发口腔黏膜炎患儿120例。将120例患儿按照随机数字表发分为对照组和试验组各60例。对照组:使用康复新液、1.4%碳酸氢钠溶液... 目的:探讨DUV光子创可贴联合康复新液治疗口腔黏膜炎的效果。方法选择小儿血液科恶性肿瘤疾病患儿化疗后并发口腔黏膜炎患儿120例。将120例患儿按照随机数字表发分为对照组和试验组各60例。对照组:使用康复新液、1.4%碳酸氢钠溶液、甲硝唑溶液及复方硼砂溶液4种,每种溶液3次/d,4种溶液交替含漱,康复新液含漱后口服。试验组在使用原有的漱口液康复新液的基础上,联合DUV光子创可贴进行治疗。康复新液3次/d含漱后口服;DUV光子创可贴2次/d,1次120 s,贴近患处进行照射。结果两组患儿口腔黏膜炎在不同部位的愈合时间比较,试验组患儿面颊、腭、齿龈、舌、唇愈合时间分别为(6.87±2.12),(8.03±1.73),(6.42±1.46),(6.24±1.45),(5.00±1.19)d,均优于对照组的(8.28±2.65),(9.46±2.05),(8.13±1.45),(7.38±1.44),(6.20±1.86)d,差异有统计学意义(t值分别为2.64,2.94,3.44,2.82,2.25;P<0.05)。试验组患儿Ⅰ~Ⅱ度愈合时间为(5.00±1.24)d,Ⅲ~Ⅳ度愈合时间为(9.76±1.49)d,均优于对照组的(5.87±1.42),(11.14±2.05)d,差异有统计学意义(t值分别为2.78,2.72;P<0.05)。结论康复新液与DUV光子创可贴联合应用于口腔黏膜炎,可产生协同作用,明显缩短溃疡愈合时间。 展开更多
关键词 口炎 duv光子创可贴 康复新液
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Recent advances of inorganic phosphates with UV/DUV cutoff edge and large second harmonic response
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作者 Boxuan Zhang Zhaohui Chen 《Chinese Journal of Structural Chemistry》 SCIE CAS CSCD 2023年第3期35-46,共12页
Phosphates are important candidates for ultraviolet/deep-ultraviolet(UV/DUV)nonlinear optical(NLO)materials by good transparency ability and variability of anion species as well as different coordinated cations.Phosph... Phosphates are important candidates for ultraviolet/deep-ultraviolet(UV/DUV)nonlinear optical(NLO)materials by good transparency ability and variability of anion species as well as different coordinated cations.Phosphates have been reported as minerals or NLO materials with abundant condensed anionic framework.For phosphate-based NLO materials,how to improve the second harmonic generation(SHG)response and birefringence re-mains a great challenge.Herein,this review analyzes the structure-property relationship of the representative UV/DUV phosphates,and the microscopic mechanism to achieve a balance between the short absorption edge and large SHG response is summarized.It provides a new idea to study the UV/DUV phosphate NLO materials. 展开更多
关键词 PHOSPHATE NLO properties UV/duv STRUCTURE-PROPERTY
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Effect of Oxygen/Ar Flow Rate Ratio on Properties of Amorphous Ga_(2)O_(3)Thin Films on Flexible and Rigid Substrates
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作者 Li Yuanjie Zhao Yuqing Liang Chenyu 《稀有金属材料与工程》 北大核心 2025年第12期2993-2999,共7页
Amorphous Ga_(2)O_(3)(a-Ga_(2)O_(3))thin films were prepared on flexible polyimide,rigid quartz glass,and Si substrates via radio frequency magnetron sputtering at room temperature.The effect of oxygen/Ar flow rate ra... Amorphous Ga_(2)O_(3)(a-Ga_(2)O_(3))thin films were prepared on flexible polyimide,rigid quartz glass,and Si substrates via radio frequency magnetron sputtering at room temperature.The effect of oxygen/Ar flow rate ratio on the structure,optical property,surface morphology,and chemical bonding properties of the a-Ga_(2)O_(3) films was investigated.Results show that the average optical transmittance of the a-Ga_(2)O_(3) films is over 80%within the wavelength range of 300-2000 nm.The extracted optical band gap of the a-Ga_(2)O_(3) films is increased from 4.97 eV to 5.13 eV with the increase in O_(2)/Ar flow rate ratio from 0 to 0.25,due to the decrease in concentration of oxygen vacancy defects in the film.Furthermore,the optical refractive index and surface roughness of the a-Ga_(2)O_(3) films are optimized when the O_(2)/Ar flow rate ratio reaches 0.25.X-ray photoelectron spectroscopy analysis also shows that the proportion of oxygen vacancies(VO)and Ga-O chemical bonds in the O 1s peak is gradually decreased with the increase in O_(2)/Ar flow rate ratio from 0 to 0.25,proving that increasing the O_(2)/Ar flow rate ratio during film growth can reduce the concentration of oxygen vacancy defects in a-Ga_(2)O_(3) films.In this case,a-Ga_(2)O_(3) with optimal properties can be obtained.This work provides a research basis for high-performance flexible and rigid deep ultraviolet solar-blind detection devices based on a-Ga_(2)O_(3) films. 展开更多
关键词 solar-blind duv photodetector amorphous Ga_(2)O_(3)thin film flexible electronics oxygen vacancy defect RF magnetron sputtering
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2023年奥迪Q7 OBD报警灯亮
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作者 曹守军 《汽车维修技师》 2025年第9期121-123,共3页
车型:2023年奥迪Q7,配置EA888 DUV 2.0发动机,搭载8AT自动变速器。行驶里程:18000km。故障现象:客户反映车辆OBD报警灯亮。故障诊断:启动发动机发现组合仪表上的OBD报警灯亮起,故障与客户描述一致。使用诊断仪VAS6150E检查发动机控制单... 车型:2023年奥迪Q7,配置EA888 DUV 2.0发动机,搭载8AT自动变速器。行驶里程:18000km。故障现象:客户反映车辆OBD报警灯亮。故障诊断:启动发动机发现组合仪表上的OBD报警灯亮起,故障与客户描述一致。使用诊断仪VAS6150E检查发动机控制单元,存在故障码P006800进气管压力/空气质量,节气门角度偏差(主动/静态),如图1所示。 展开更多
关键词 EA888 duv 2.0发动机 OBD报警灯 2023年奥迪Q7
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真空紫外光谱仪的研制及性能测试
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作者 耿继宝 李长松 +2 位作者 张志杰 马丽敏 李朝阳 《仪器仪表标准化与计量》 2025年第4期20-22,共3页
本文研制了一台高光谱分辨、高系统接收角,同时具有一定空间分辨的真空紫外波段光谱仪。该光谱仪采用典型的Czerny-Turner结构,系统准直镜和聚焦镜均采用离轴抛物面镜,入射臂272.24mm,采用平面闪耀光栅,线密度300L/mm,闪耀波长230nm,光... 本文研制了一台高光谱分辨、高系统接收角,同时具有一定空间分辨的真空紫外波段光谱仪。该光谱仪采用典型的Czerny-Turner结构,系统准直镜和聚焦镜均采用离轴抛物面镜,入射臂272.24mm,采用平面闪耀光栅,线密度300L/mm,闪耀波长230nm,光栅入射角30°,利用一台可深度制冷、背照式面阵CCD作为光谱探测器进行信号探测。谱仪研制完成后,利用Penning灯放电光源测试谱仪性能,并利用光源的标准谱线进行了波长标定,结果显示该谱仪波长覆盖范围112.5~406nm,全波段光谱分辨率优于0.5nm,波长精度优于0.05nm,达到设计指标。 展开更多
关键词 真空紫外 光谱仪 离轴抛物面镜 光谱分辨率 Penning放电光源
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基于248 nm光刻机工艺的高性能0.15μm GaAs LN pHEMT 被引量:1
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作者 章军云 王溯源 +1 位作者 林罡 黄念宁 《电子与封装》 2018年第11期36-39,47,共5页
报道了一种0.15μm GaAs pHEMT的制作工艺,该工艺使用248 nm DUV光刻机和烘胶工艺方案。利用成熟的Ka波段宽带低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在26.5~40 GHz频段内,电路增益大于17.5 dB,在29.5 GHz处增益达19... 报道了一种0.15μm GaAs pHEMT的制作工艺,该工艺使用248 nm DUV光刻机和烘胶工艺方案。利用成熟的Ka波段宽带低噪声放大电路对该工艺进行了流片验证。微波测试结果显示,在26.5~40 GHz频段内,电路增益大于17.5 dB,在29.5 GHz处增益达19.9 dB;噪声系数小于2.4 dB,在33.1 GHz处,最小噪声1.96 dB;输入输出驻波比小于1.36,1 dB压缩点输出功率大于6.4 dBm,直流功耗为142.5mW。和基于同样电路的电子束直写裸栅工艺相比,关键指标及生产效率都有明显提升。 展开更多
关键词 248 ninduv光刻机 烘胶工艺 GaAspHEMT KA波段 低噪声放大器
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高数值孔径投影光刻物镜的光学设计 被引量:10
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作者 徐明飞 庞武斌 +2 位作者 徐象如 王新华 黄玮 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期740-746,共7页
针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的... 针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的优劣进行对比分析,选择了同轴式结构作为最终的设计方案。分析了系统在不同NA情况下可变光阑与其远心度之间的关系,提出了用双可变曲面光阑的设计方案来优化系统的远心度。实验表明,应用本文设计方案,光刻物镜的波像差小于1nm,畸变小于1nm;新型的可变光阑使系统NA在0.85~1.35变化时的最大远心度由5.83~17.57mrad降低至0.26~3.21mrad。本文提出的设计方案为45nm节点高数值孔径投影光刻物镜的研制提供了有益的理论依据和指导。 展开更多
关键词 光学设计 高数值孔径(NA)投影光刻物镜 深紫外投影光刻物镜 远心度 曲面光阑
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长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展 被引量:17
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作者 张立超 高劲松 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期2395-2401,共7页
综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸... 综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸发与离子束溅射沉积工艺,实现了φ410mm光学元件的镀膜;通过优化薄膜沉积工艺,双面镀膜样品在193nm处典型透过率为98.5%~99%;对影响光学元件面形精度的因素进行了考察,可实现的膜厚均匀性为0.1%(rms),能够满足高质量深紫外光学系统的容差要求;采用X射线衍射方法对薄膜应力进行了测量,并采用有限元方法分析了应力对元件面形的影响;针对影响薄膜实用性能的因素,提出了针对性的解决方法,采用紫外辐照方法恢复了环境污染引起的透过率下降,发展了基于晶振监控法的膜厚精确控制方法。基于这些研究的阶段性成果,明确了下一步的研究方向。 展开更多
关键词 深紫外光学 光学薄膜 薄膜沉积 薄膜测量 透过率 面形精度
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深紫外光刻光学薄膜 被引量:5
19
作者 张立超 才玺坤 时光 《中国光学》 EI CAS CSCD 2015年第2期169-181,共13页
深紫外波段是目前常规光学技术的短波极限,随着波长的缩短,深紫外光学薄膜开发面临一系列特殊的问题;而对于深紫外光刻系统这样的典型超精密光学系统来说,对薄膜光学元件提出的要求则更加苛刻。本文主要介绍了适用于深紫外光刻系统的薄... 深紫外波段是目前常规光学技术的短波极限,随着波长的缩短,深紫外光学薄膜开发面临一系列特殊的问题;而对于深紫外光刻系统这样的典型超精密光学系统来说,对薄膜光学元件提出的要求则更加苛刻。本文主要介绍了适用于深紫外光刻系统的薄膜材料及膜系设计;对薄膜沉积工艺、元件面形保障、大口径曲面均匀性等超精密光学元件的指标保障关键问题进行了讨论;对环境污染与激光辐照特性等光刻系统中薄膜元件环境适应性的重要因素进行了深入分析。以上分析为突破高性能深紫外光刻光学薄膜开发瓶颈,更好地满足深紫外光刻等极高精度光学系统的应用需求指明了方向。 展开更多
关键词 深紫外光刻 超精密光学 膜系设计 光学性能保障 环境适应性
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用于光刻机物镜像差补偿的透射式变形镜设计 被引量:1
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作者 邹有云 布一帆 +2 位作者 杜文杰 邓杰 马剑强 《压电与声光》 北大核心 2024年第6期995-1000,共6页
针对深紫外光刻机物镜工作一段时间后存在的低阶像差问题,提出了一种大口径、小变形量、高精度的透射式变形镜结构。通过有限元对变形镜的校正性能进行仿真,确定了致动器数目、玻璃厚度、内外环的宽度。仿真结果表明,重构Z3-Z9项Zernik... 针对深紫外光刻机物镜工作一段时间后存在的低阶像差问题,提出了一种大口径、小变形量、高精度的透射式变形镜结构。通过有限元对变形镜的校正性能进行仿真,确定了致动器数目、玻璃厚度、内外环的宽度。仿真结果表明,重构Z3-Z9项Zernike像差,归一化残余误差小于0.2%,整体满足193 nm DUV光刻机物镜像差的校正。研究了重力场及热吸收对透镜像差的影响,两者均为离焦像差最大但数值较小,可被变形镜校正。 展开更多
关键词 duv光刻机物镜 变形镜 像差校正
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