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Fabrication of an electro-absorption modulated distributed feedback laser by quantum well intermixing with etching ion-implantation buffer layer
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作者 韩良顺 梁松 +1 位作者 朱洪亮 王圩 《Chinese Optics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第8期50-53,共4页
We report the fabrication details of a monolithically integrated electro-absorption modulated distributed feedback laser (EML) based on the ion-implantation induced quantum well intermixing (QWI) technique. To wel... We report the fabrication details of a monolithically integrated electro-absorption modulated distributed feedback laser (EML) based on the ion-implantation induced quantum well intermixing (QWI) technique. To well-preserve material quality in the laser region, thermal-oxide SiO2 is deposited before implantation and the ion-implantation buffer layer is etched before annealing. Thirteen pairs quantum well and barrier are employed to compensate deterioration of the modulator's extinction ratio (ER) caused by the QWI process. The fabricated EML exhibits an 18 dB static ER at 5 V reverse bias. The 3 dB small signal modulation band- width of modulator is over 13.5 GHz indicating that this EML is a suitable light source for over 16 Gb/s optical transmission links. 展开更多
关键词 buffer layers Distributed feedback lasers FABRICATION Ion implantation IONS Light modulators Light sources Light transmission modulators Monolithic integrated circuits Semiconductor quantum wells
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面向10 kV以上碳化硅器件耐压区厚外延技术研究
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作者 房玉龙 李帅 +3 位作者 芦伟立 王健 李建涛 王波 《微纳电子技术》 2025年第6期20-26,共7页
随着10 kV及以上超高压碳化硅(SiC)功率器件在柔性输电等领域的需求增长,开发低位错、低缺陷密度、长少子寿命的厚外延材料成为关键挑战,是当前SiC材料研究的核心问题。基于单片水平式SiC外延设备,通过引入双界面调制缓冲层外延生长技术... 随着10 kV及以上超高压碳化硅(SiC)功率器件在柔性输电等领域的需求增长,开发低位错、低缺陷密度、长少子寿命的厚外延材料成为关键挑战,是当前SiC材料研究的核心问题。基于单片水平式SiC外延设备,通过引入双界面调制缓冲层外延生长技术,成功实现了对缓冲层与衬底及漂移层之间界面应力的调控,显著降低了外延片基平面位错密度,结合漂移层生长速率、缓冲层工艺以及C/Si比的协同优化,显著提升了4H-SiC厚外延材料的性能。实验结果表明:优化后的缓冲层工艺通过渐变掺杂设计有效调控界面应力,将基平面位错密度从1.5 cm^(-2)降至0.07 cm^(-2);同时,通过将生长速率提升至70μm/h并优化C/Si比至0.85,成功制备了厚度100μm、掺杂浓度2.5×10^(14)cm^(-3)的高质量外延层,原生少子寿命均值达1.76μs,材料均匀性及表面缺陷密度均满足10 kV以上超高压器件耐压区需求。 展开更多
关键词 超高压 基平面位错 C/Si比 双界面调制缓冲层 少子寿命
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采用黄金分割法的自适应调制无线网络跨层设计 被引量:6
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作者 赵军辉 田静秀 李秀萍 《应用科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第6期566-570,共5页
提出一种通过最优化网络的目标误包率来降低丢包率的方法.物理层采用自适应调制编码方式,数据链路层采用有限长数据缓冲区,并改变了原有网络中固定的目标误包率值.在不同的网络参数,如网络的信噪比、功率、带宽、包到达率等条件下,考察... 提出一种通过最优化网络的目标误包率来降低丢包率的方法.物理层采用自适应调制编码方式,数据链路层采用有限长数据缓冲区,并改变了原有网络中固定的目标误包率值.在不同的网络参数,如网络的信噪比、功率、带宽、包到达率等条件下,考察网络的丢包率随目标误包率的变化,总结其变化规律,并根据黄金分割法寻找最佳的目标误包率,使得丢包率达到最小,即网络吞吐量达到最大. 展开更多
关键词 自适应调制 跨层设计 黄金分割法 有限长缓冲区
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一种新型仪器用液晶显示控制器芯片的设计 被引量:2
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作者 胡斌强 苏绍景 王跃科 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1528-1531,共4页
针对液晶显示控制器SED1335的局限提出一种新的仪器用液晶控制器芯片的设计。该显示控制器内置双显示缓冲设计,显示缓冲采用双层映射,显著提高了显示数据的更新率,增加了显示数据的更新量。新型液晶控制器芯片逻辑用VHDL语言设计,编译形... 针对液晶显示控制器SED1335的局限提出一种新的仪器用液晶控制器芯片的设计。该显示控制器内置双显示缓冲设计,显示缓冲采用双层映射,显著提高了显示数据的更新率,增加了显示数据的更新量。新型液晶控制器芯片逻辑用VHDL语言设计,编译形成IP核后,配置下载到低功耗FPGA芯片XC3S400中。这种液晶控制器芯片应用在手持数字存储示波器的显示模块中解决了液晶显示内容闪烁和波形更新率低的问题。 展开更多
关键词 液晶控制器 分层映射 双显示缓冲 手持数字宽带存储示波器
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梯度组分缓冲层诱导的单一立方相Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜外延生长 被引量:1
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作者 郑剑 张振中 +11 位作者 王立昆 韩舜 张吉英 刘益春 王双鹏 姜明明 李炳辉 赵东旭 刘雷 刘可为 单崇新 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期1040-1045,共6页
为了实现MgZnO合金带隙全跨度调制,利用低压MOCVD设备,在c面蓝宝石衬底上采用MgO籽晶层和组分渐变缓冲层控制立方相MgxZn1-xO薄膜的生长,获得了Zn组分达到0.7的单一立方相MgxZn1-xO薄膜,把MgZnO合金带隙调制范围从MgO一侧扩展到了4.45 ... 为了实现MgZnO合金带隙全跨度调制,利用低压MOCVD设备,在c面蓝宝石衬底上采用MgO籽晶层和组分渐变缓冲层控制立方相MgxZn1-xO薄膜的生长,获得了Zn组分达到0.7的单一立方相MgxZn1-xO薄膜,把MgZnO合金带隙调制范围从MgO一侧扩展到了4.45 eV,覆盖了整个日盲紫外波段。对比实验分析表明,这种高Zn组分立方相MgZnO薄膜的生长得益于缓冲层晶格模板的结构诱导作用和适宜的生长温度(350~400℃)。Mg0.3Zn0.7O基MSM结构紫外探测器响应峰位于270 nm,截止波长295 nm。 展开更多
关键词 立方MgZnO 缓冲层 带隙调制
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