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等离子体处理对WS_(2)/C复合结构的形貌调控研究
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作者 张泽霞 沈丽娜 +1 位作者 秦晨 魏蔚 《中国新技术新产品》 2026年第2期1-4,共4页
等离子体处理作为一种高效的表面改性技术,在二维纳米材料/碳基复合结构的形貌调控中具有独特优势。本文通过调控等离子体处理参数(例如气体氛围),研究其对二硫化钨/碳(WS2/C)复合结构表面形貌和缺陷分布的影响。结合扫描电子显微镜(Sca... 等离子体处理作为一种高效的表面改性技术,在二维纳米材料/碳基复合结构的形貌调控中具有独特优势。本文通过调控等离子体处理参数(例如气体氛围),研究其对二硫化钨/碳(WS2/C)复合结构表面形貌和缺陷分布的影响。结合扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)和基于拉曼光谱的表征,揭示了等离子体处理诱导的WS2边缘选择性和碳纳米纤维骨架的协同效应,提高了复合材料的比表面积和边缘活性位点暴露程度。试验结果表明,参数优化后,等离子体处理可以有效调控WS2纳米晶片在碳纤维骨架中的分散性,并抑制晶片层间堆叠和层片团聚,从而增加边缘位置的暴露程度。该研究为高性能WS2/C复合材料的可控制备提供了新思路,推动其在能源存储与转换领域的实际应用。 展开更多
关键词 等离子体处理 ws2/c 碳纳米纤维 形貌调控 界面工程
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反应溅射WS_2/MoS_2/C复合薄膜的摩擦磨损性能 被引量:9
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作者 周磊 尹桂林 +2 位作者 王玉东 余震 何丹农 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期483-487,共5页
为了扩展在潮湿条件下WS2/MoS2复合薄膜的应用,使用WS2/MoS2作靶材,在Ar/C2H2气氛中通过反应溅射法制备WS2/MoS2/C复合薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDX)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、MFT-4000材料表面性能试验仪表征薄... 为了扩展在潮湿条件下WS2/MoS2复合薄膜的应用,使用WS2/MoS2作靶材,在Ar/C2H2气氛中通过反应溅射法制备WS2/MoS2/C复合薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、X射线能谱仪(EDX)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、MFT-4000材料表面性能试验仪表征薄膜的性能以便评价薄膜的微结构与摩擦性能的关系。结果表明:与纯MoS2薄膜相比,WS2/MoS2/C复合薄膜结构致密,硬度提高一个数量级;在潮湿的大气中复合薄膜的摩擦因数更低,抗磨损能力更强。 展开更多
关键词 ws2 MOS2 c 摩擦性能 磨损性能
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WS_2/MoS_2/C复合薄膜的磨损性能研究 被引量:2
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作者 周磊 尹桂林 +2 位作者 王玉东 余震 何丹农 《上海金属》 CAS 2009年第6期28-31,共4页
采用磁控溅射法,使用WS2/MoS2复合靶材,通过与乙炔气体反应溅射,制备WS2/MoS2/C复合薄膜,利用X射线衍射对薄膜的成分结构进行分析,采用MFT-4000材料表面性能试验仪在室温大气环境(相对湿度60%)下评价薄膜的摩擦磨损性能,使用AxioCSM700... 采用磁控溅射法,使用WS2/MoS2复合靶材,通过与乙炔气体反应溅射,制备WS2/MoS2/C复合薄膜,利用X射线衍射对薄膜的成分结构进行分析,采用MFT-4000材料表面性能试验仪在室温大气环境(相对湿度60%)下评价薄膜的摩擦磨损性能,使用AxioCSM700共聚焦显微镜观察WS2/MoS2/C复合薄膜磨损表面磨痕形貌,结果表明,WS2/MoS2/C复合薄膜结构致密,在潮湿大气中抗磨损性能比MoS2磁控溅射薄膜有显著提高,在30min往复摩擦后复合薄膜未发生磨屑脱落。 展开更多
关键词 ws2/MoS2/c复合薄膜 磁控溅射 磨损性能
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WS_2-C固体润滑薄膜的制备及其摩擦磨损性能 被引量:6
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作者 宋玉波 代明江 +3 位作者 余志明 韦春贝 侯惠君 林松盛 《材料研究与应用》 CAS 2010年第4期530-533,共4页
为改善纯WS2薄膜在潮湿大气中的摩擦磨损性能,采用磁控溅射结合离子源的方法在TC4合金基体上沉积了WS2-C复合薄膜,利用扫描电镜、能谱仪对复合薄膜的微观结构及成分组成进行了分析,并利用显微硬度仪和摩擦磨损试验机对复合薄膜的硬度及... 为改善纯WS2薄膜在潮湿大气中的摩擦磨损性能,采用磁控溅射结合离子源的方法在TC4合金基体上沉积了WS2-C复合薄膜,利用扫描电镜、能谱仪对复合薄膜的微观结构及成分组成进行了分析,并利用显微硬度仪和摩擦磨损试验机对复合薄膜的硬度及摩擦磨损性能进行了评估.结果表明:WS2-C复合薄膜的膜面较为平整,断面呈柱状晶方式生长、结构致密,C的原子比约为41%;WS2-C复合薄膜的显微硬度较纯WS2薄膜有所提高,随着法向载荷的加大,其摩擦系数有所降低,C的加入可以提高WS2薄膜在大气环境中的耐磨寿命. 展开更多
关键词 ws2-c复合薄膜 Tc4合金 摩擦系数 耐磨寿命
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调制比对WS_x/a-C多层膜微观组织及摩擦学性能的影响 被引量:6
5
作者 杨芳儿 鲁叶 +2 位作者 李昂 沈靖枫 郑晓华 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期387-394,共8页
采用磁控溅射交替溅射WS2和石墨靶,在200℃的Si基体上制备了不同调制比的WS_x/a-C多层膜(调制周期约为20 nm).利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子谱(XPS)等手段表征了多层膜的微观结构;采用纳米压痕仪、薄... 采用磁控溅射交替溅射WS2和石墨靶,在200℃的Si基体上制备了不同调制比的WS_x/a-C多层膜(调制周期约为20 nm).利用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子谱(XPS)等手段表征了多层膜的微观结构;采用纳米压痕仪、薄膜应力测试仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试多层膜的机械性能及大气中的的摩擦磨损性能.结果表明:WS_x/a-C多层膜表面平整、结构致密,S/W比在0.92~0.97范围内波动,WS_x子层以微晶的形式存在,WS_x/a-C相界面处形成了WC相.随着调制比的增加,多层膜的硬度由7.8 GPa升高至9.0GPa,膜内压应力先减小后增大,结合力单调减小,摩擦系数由0.18增至0.29,磨损率迅速升高.调制比为1∶39的多层膜的摩擦学性能最佳,其磨损率约为6.1×10^(–15) m^3/(N·m). 展开更多
关键词 二硫化钨 A-c 多层膜 调制比 摩擦磨损性能 磁控溅射
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不同层厚比WS_x/a-C多层膜的组织结构与摩擦学特性 被引量:4
6
作者 郑晓华 章荣 +3 位作者 史玉龙 沈靖枫 李昂 杨芳儿 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期659-665,共7页
利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WS_x/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm)。用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征。采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了... 利用磁控溅射法在单晶硅上制备了不同层厚比的WS_x/a-C纳米多层膜(调制周期约50 nm)。用扫描电镜、X射线衍射、能谱、X射线光电子谱和Raman光谱对薄膜的形貌、成分和组织结构等进行了表征。采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦仪测试了薄膜的硬度、结合力和在大气环境下(相对湿度约70%)的摩擦学性能。结果表明:随着层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)的增加,多层膜的n_s/n_w比由1.38增大至1.62,并伴随着WS_2尺寸的减小以及薄膜致密度和平整度的提高,a-C层和WS_x层的结构无明显变化;多层膜的磨损率仅为纯WS_x膜的1/3~1/4,摩擦因数由0.26降至0.2,硬度和磨损率均出现峰值,而结合力呈相反变化趋势。层厚比L_(a-C)/L_(WS_x)为1:39的多层膜的摩擦因数为0.26,磨损率为9.8×10^(-14)m^3/Nm,耐磨性最佳。 展开更多
关键词 ws_2 A-c 多层膜 摩擦与磨损 磁控溅射
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a-C基底WS_x薄膜的制备及其摩擦学性能 被引量:1
7
作者 杨芳儿 李昂 +1 位作者 沈靖枫 郑晓华 《浙江工业大学学报》 CAS 北大核心 2017年第4期381-386,共6页
采用磁控溅射技术在200℃单晶硅片上沉积a-C薄膜,随后在不同溅射气压下沉积WSx薄膜.通过扫描电镜、能谱仪、XRD和XPS等分析了薄膜的形貌、成分与微观结构;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试了薄膜的力学与摩... 采用磁控溅射技术在200℃单晶硅片上沉积a-C薄膜,随后在不同溅射气压下沉积WSx薄膜.通过扫描电镜、能谱仪、XRD和XPS等分析了薄膜的形貌、成分与微观结构;采用纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机测试了薄膜的力学与摩擦磨损性能.结果表明:a-C基底上沉积的WSx薄膜表面平整、结构致密且随着气压升高而变得疏松,膜中WS2呈微晶或非晶结构;随着溅射气压升高,薄膜的S与W原子数比先增大后减小并趋于稳定;薄膜硬度逐渐降低,大气中的摩擦因数与磨损率均先减小后略微增大.0.8~1.0Pa条件下制备的WSx薄膜摩擦系数最低(约0.11),磨损率最低为4.34×10-15 m^3/(N·m),性能显著优于Si基底和钢基底上的WSx薄膜. 展开更多
关键词 二硫化钨 A-c 摩擦与磨损 磁控溅射
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2-苯基环己硫醇在γ-Al2O3和SiO2负载的WS2催化剂上的脱硫反应 被引量:1
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作者 刘盛男 周学荣 +2 位作者 李翔 王安杰 王琳 《石油学报(石油加工)》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第1期10-23,共14页
合成了2-苯基环己硫醇(2-PCHT);通过等体积浸渍法制备了分别以γ-Al2O3和SiO2作载体的WS2催化剂,采用X射线衍射(XRD)、N2物理吸附和透射电镜(TEM)技术对催化剂进行表征。在临氢和非临氢(Ar)条件下研究了2-PCHT在WS2/Al2O3和WS2/SiO2催... 合成了2-苯基环己硫醇(2-PCHT);通过等体积浸渍法制备了分别以γ-Al2O3和SiO2作载体的WS2催化剂,采用X射线衍射(XRD)、N2物理吸附和透射电镜(TEM)技术对催化剂进行表征。在临氢和非临氢(Ar)条件下研究了2-PCHT在WS2/Al2O3和WS2/SiO2催化剂上的脱硫反应。结果表明:在240℃和5.0 MPa H2条件下,2-PCHT在WS2催化剂上主要通过β消除、氢解和脱氢3条平行路径脱硫,其中β消除和氢解并重,β消除反应速率快于氢解;非临氢条件下,主要通过β消除、C-S键均裂(或氢解)及脱氢3条平行路径脱硫,并以β消除为主;哌啶对β消除路径的抑制作用最大、对脱氢路径作用次之,但对氢解几乎没有影响,并促进了C-S键均裂;WS2/Al2O3的反应活性优于WS2/SiO2,可能与其活性组分的分散度较高有关;临氢条件下,2-PCHT的反应动力学可以用假一级模型描述;但其在非临氢条件下则不能用简单的幂函数拟合,可能归因于环烷基C-S键断裂机制的复杂性。 展开更多
关键词 2-苯基环己硫醇 ws2 脱硫 环烷基c-S键 哌啶 SIO2 Γ-AL2O3
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溅射沉积WS_x/Ni/a-C/Ni多层膜的微结构及大气环境摩擦学性能 被引量:3
9
作者 杨芳儿 王贡启 +2 位作者 龚润泽 刘涛 郑晓华 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期82-89,共8页
采用磁控溅射技术在硅基体上交替沉积WS2、Ni及非晶碳(a-C)层制备出不同Ni层厚度的WSx/Ni/a-C/Ni多层膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪等研究了多层膜的成分及微观结构;通过纳米压痕仪、划痕仪和球... 采用磁控溅射技术在硅基体上交替沉积WS2、Ni及非晶碳(a-C)层制备出不同Ni层厚度的WSx/Ni/a-C/Ni多层膜.利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、X射线光电子能谱仪等研究了多层膜的成分及微观结构;通过纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机等评价了薄膜的力学及大气环境中的摩擦学性能.结果表明:随着Ni层厚度的增加,WSx/Ni/a-C/Ni多层膜的致密度下降,ns/nw值(S与W原子百分数之比)由0.84降至0.73,WSx层以微晶或非晶的形式存在.多层膜的硬度和磨损率均随Ni层厚度的增加先降低后升高,但摩擦系数由0.22升至0.38,结合力先增大后减小. Ni层厚度为6 nm的多层膜的硬度可达13.4 GPa,抗氧化性能和耐磨性最优,磨损率仅为9.47×10–14 m3/(Nm). 展开更多
关键词 二硫化钨 Ni 非晶态碳(a-c) 多层膜 摩擦学性能 磁控溅射
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a-C基底对WS_x薄膜组织结构及摩擦学性能的影响 被引量:1
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作者 郑晓华 沈靖枫 +1 位作者 李昂 杨芳儿 《浙江工业大学学报》 CAS 北大核心 2017年第5期520-525,共6页
采用磁控溅射法在不同气压下溅射石墨靶制备多种a-C基体并在其上沉积WS_x薄膜.采用扫描电镜、能谱仪、原子力显微镜、X射线衍射仪、Raman光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜的形貌、成分、组织结构和元素价态等进行了表征.采用纳米压痕仪、... 采用磁控溅射法在不同气压下溅射石墨靶制备多种a-C基体并在其上沉积WS_x薄膜.采用扫描电镜、能谱仪、原子力显微镜、X射线衍射仪、Raman光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜的形貌、成分、组织结构和元素价态等进行了表征.采用纳米压痕仪、划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的硬度、结合力和摩擦学性能进行了测试.结果表明:a-C基底上WS_x薄膜呈微晶或非晶结构,a-C沉积气压1.0Pa时WS_2薄膜出现(101)晶面衍射峰.随着a-C基底沉积气压的升高,WS_x薄膜表面先逐渐致密,后略有下降,n_s/n_w比呈下降趋势,显著低于硅基底WS_x薄膜,WS_x薄膜的硬度在6~8.5GPa之间.在大气环境下,基底沉积气压为0.6Pa的WS_x的摩擦系数最低,耐磨性最差. 展开更多
关键词 ws2 A-c 微观结构 磁控溅射 摩擦与磨损
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