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本征磁性拓扑绝缘体MnBi2Te4电子结构的压力应变调控 被引量:1
1
作者 郭文锑 黄璐 +3 位作者 许桂贵 钟克华 张健敏 黄志高 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第4期310-319,共10页
由于MnBi2Te4电子结构具有对晶格常数的改变相当敏感的特性,本文采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对MnBi2Te4反铁磁块体的电子结构施加等体积应变调控.研究发现体系能带结构在材料等体积拉伸和压缩作用下变化灵敏,体系出现绝缘体-... 由于MnBi2Te4电子结构具有对晶格常数的改变相当敏感的特性,本文采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对MnBi2Te4反铁磁块体的电子结构施加等体积应变调控.研究发现体系能带结构在材料等体积拉伸和压缩作用下变化灵敏,体系出现绝缘体-金属相变.特别地,当施加特定应变后导带和价带在Γ处出现交叉,体系呈零带隙状态.在此应变下仍可观察到能带反转的现象,具有非平庸的能带拓扑性质.根据不同应变下的电荷密度图,发现等体积应变会影响体系七倍层层间距,其中等体积压缩和拉伸应变可分别增大和减小Te原子层间距,表明等体积压缩有利于降低反铁磁层间耦合.通过等体积压力应变调控,掌握了MnBi2Te4的电子结构的变化规律,这对本征磁性拓扑绝缘体MnBi2Te4的物性研究和实验制备具有重要的指导意义. 展开更多
关键词 MnBi2te4 应力应变 本征磁性拓扑绝缘体 第一性原理计算
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Composition Distribution in the MnxCd(1-x)In2Te4 Ingot Grown by ACRT-B Method
2
作者 Yongqin CHANG, Wanqi JIE, Xiping GUO, Fuyi CHEN and Weijun ANState Key Laboratory of Solidification Processing, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第6期610-612,共3页
MnxCd1-xln2Te4 (x=0.1) ingot was successfully grown by the modified Bridgman technique, which applied the accelerated crucible rotation technique (ACRT) in Bridgman process, or briefly ACRT-B. The growth interface pro... MnxCd1-xln2Te4 (x=0.1) ingot was successfully grown by the modified Bridgman technique, which applied the accelerated crucible rotation technique (ACRT) in Bridgman process, or briefly ACRT-B. The growth interface profile shape and the composition distribution in the MnxCd1-xln2Te4 (x=0.1) ingot were analyzed. Even though the stoichiometric composition was synthesized in the original ingot, the composition has been redistributed during the ACRT-B growth process. Mn and Cd contents decrease while In increases along the longitudinal axis. The partition ratios of solutes Mn, Cd and In at the growth interface are evaluated by a mathematical method based on the experimental data, which are found to be 1.286, 1.926 and 0.729 in α phase growth process, and 1.120, 1.055 and 0.985 in β phase growth process, respectively. In the radial direction, Mn and Cd contents increase while In decreases with the distance from the centerline of the ingot. 展开更多
关键词 MnxCd1-xIn2te4 ACRT-B Composition distribution Partition ratio
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First-principles study of the optical properties of defect electronic structure and chalcopyrite CdGa2Te4
3
作者 焦照勇 郭永亮 +1 位作者 张现周 马淑红 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第12期168-172,共5页
The electronic and optical properties of the defect chalcopyrite CdGa2Te4 compound are studied based on the first- principles calculations. The band structure and density of states are calculated to discuss the electr... The electronic and optical properties of the defect chalcopyrite CdGa2Te4 compound are studied based on the first- principles calculations. The band structure and density of states are calculated to discuss the electronic properties and orbital hybridized properties of the compound. The optical properties, including complex dielectric function, absorption coefficient, refractive index, reflectivity, and loss function, and the origin of spectral peaks are analysed based on the electronic structures. The presented results exhibit isotropic behaviours in a low and a high energy range and an anisotropic behaviour in an intermediate energy range. 展开更多
关键词 defect chalcopyrite CdGa2te4 electronic structure optical properties first-principles calculation
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Characteristics of Sb6Te4/VO2 Multilayer Thin Films for Good Stability and Ultrafast Speed Applied in Phase Change Memory
4
作者 Yi-Feng Hu Xuan Guo +1 位作者 Qing-Qian Qin Tian-Shu Lai 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第9期53-56,共4页
The Sb6 Te4/VO2 multilayer thin films are prepared by magnetron sputtering and the potential application in phase change memory is investigated in detail. Compared with Sb6 Te4, Sb6 Te4/VO2 multilayer composite thin f... The Sb6 Te4/VO2 multilayer thin films are prepared by magnetron sputtering and the potential application in phase change memory is investigated in detail. Compared with Sb6 Te4, Sb6 Te4/VO2 multilayer composite thin films have higher phase change temperature and crystallization resistance, indicating better thermal stability and less power consumption. Also, Sb6 Te4/VO2 has a broader energy band of 1.58 eV and better data retention (125℃ for 103/). The crystallization is suppressed by the multilayer interfaces in Sbf Te4/VO2 thin film with a smaller rms surface roughness for Sbf Te4/VO2 than monolayer Sb4Te6. The picosecond laser technology is applied to study the phase change speed. A short crystallization time of 5.21 ns is realized for the Sb6Te4 (2nm)/VO2 (8nm) thin film. The Sb6 Te4/VO2 multilayer thin film is a potential and competitive phase change material for its good thermal stability and fast phase change speed. 展开更多
关键词 VO Te Characteristics of Sb6te4/VO2 Multilayer Thin Films for Good Stability and Ultrafast Speed Applied in Phase Change Memory Sb
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GeSb_2 Te_4相变薄膜表面形貌的分形特征 被引量:6
5
作者 付永忠 丁建宁 +1 位作者 杨继昌 解国新 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2006年第5期430-433,共4页
在Si(111)基底上用磁控溅射法以不同射频功率制备GeSb2Te4薄膜.利用高度相关函数法对薄膜的原子力显微镜图像进行分形计算,得到表面形貌的分形维.结果表明,分形维的大小与薄膜表面质量成正比,而表面粗糙度不能全面描述薄膜表面形貌;溅... 在Si(111)基底上用磁控溅射法以不同射频功率制备GeSb2Te4薄膜.利用高度相关函数法对薄膜的原子力显微镜图像进行分形计算,得到表面形貌的分形维.结果表明,分形维的大小与薄膜表面质量成正比,而表面粗糙度不能全面描述薄膜表面形貌;溅射功率对薄膜表面微观结构有直接影响,在一定范围内,增大溅射功率可以提高薄膜表面质量,但超过一定值后,又会降低薄膜表面质量.并指出利用分形维可以优化溅射工艺参数. 展开更多
关键词 GeSb2te4薄膜 分形 高度相关函数 溅射功率
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溅射功率对GeSb_2Te_4膜形貌及力学性能的影响 被引量:4
6
作者 丁建宁 解国新 +3 位作者 范真 付永忠 杨继昌 葛世荣 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2005年第5期372-375,共4页
利用电子回旋共振CVD设备的射频磁控溅射方法制备了GeSb2Te4膜,采用原子力显微镜、纳米硬度计以及侧向力显微镜考察了不同溅射功率对GeSb2Te4膜表面微观结构以及力学性能的影响.结果表明:在一定的溅射功率范围内,由于薄膜生长方式从三... 利用电子回旋共振CVD设备的射频磁控溅射方法制备了GeSb2Te4膜,采用原子力显微镜、纳米硬度计以及侧向力显微镜考察了不同溅射功率对GeSb2Te4膜表面微观结构以及力学性能的影响.结果表明:在一定的溅射功率范围内,由于薄膜生长方式从三维向二维的转化,薄膜的表面粗糙度随功率的增大而降低,而且薄膜致密度也随之提高,从而使得非晶态GeSb2Te4膜硬度和弹性模量增大.利用能量密度理论对这一现象进行了分析.另外,由于表面能等因素的影响,功率为63W制备的GeSb2Te4膜粘附力较高,摩擦系数却较小. 展开更多
关键词 GeSb2te4 射频磁控溅射 表面形貌 纳米压痕 摩擦性能
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纳米GeSb_2Te_4薄膜在大气环境中的摩擦性能研究 被引量:4
7
作者 朱守星 丁建宁 +3 位作者 范真 李长生 蔡兰 杨继昌 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期411-414,共4页
采用摩擦力显微镜考察了磁控溅射纳米GeSb2Te4薄膜在大气环境中的微观摩擦性能,利用JKRS理论分析了针尖同GeSb2Te4薄膜接触时的粘附力和表面能之间的关系.结果表明:当湿度较大时,粘附力较大;而当湿度较小时,粘附力较小;当针尖表面能一定... 采用摩擦力显微镜考察了磁控溅射纳米GeSb2Te4薄膜在大气环境中的微观摩擦性能,利用JKRS理论分析了针尖同GeSb2Te4薄膜接触时的粘附力和表面能之间的关系.结果表明:当湿度较大时,粘附力较大;而当湿度较小时,粘附力较小;当针尖表面能一定时,粘附力的微小变化可以导致GeSb2Te4薄膜的表面能产生较明显变化;随着扫描范围逐渐减小,摩擦力变化趋于稳定;不同扫描速度下法向力和摩擦力保持较好线性关系,但不同扫描速度下的平均摩擦力随扫描速率变化而呈现非线性变化;为了更好地分析探针和样品表面的微观摩擦机制,宜选择扫描范围为0.1~0.5μm或更小. 展开更多
关键词 GeSb2te4薄膜 摩擦力显微镜 摩擦性能 粘附力
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热处理对GeSb_2Te_4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响 被引量:2
8
作者 解国新 丁建宁 +3 位作者 范真 付永忠 朱守星 万春磊 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期108-112,共5页
利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,... 利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,热处理前后GeSb2Te4薄膜的粘附力和摩擦性能.结果表明:经过退火的沉积态GeSb2Te4薄膜发生从非晶相到fcc亚稳相再到hex稳定相转变;粘附力与表面粗糙度之间没有明显的对应关系,但与样品表面自由能和表面电势有一定关系;在低载荷下GeSb2Te4薄膜的摩擦力很大程度上受粘附力支配,而在高载荷下的摩擦力受犁沟影响显著;经过340℃退火GeSb2Te4薄膜由于具有层状结构,呈现出一定的润滑作用. 展开更多
关键词 GeSb2te4薄膜 热处理 表面电势 粘附力 摩擦性能
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新型稀磁半导体Cd_(1-x)Mn_xIn_2Te_4的光学和磁学性能 被引量:2
9
作者 安卫军 常永勤 +1 位作者 郭喜平 介万奇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第10期1057-1061,共5页
采用垂直Bridgman法制备出了x =0 1、0 2 2和 0 4的Cd1-xMnxIn2 Te4 晶体 .采用红外透射光谱法研究了晶体的红外光学特性 .用超导量子磁强计测量了样品在温度范围 5~ 30 0K和磁场强度范围 0~ 5T内的磁化强度 .在中红外波段透过率... 采用垂直Bridgman法制备出了x =0 1、0 2 2和 0 4的Cd1-xMnxIn2 Te4 晶体 .采用红外透射光谱法研究了晶体的红外光学特性 .用超导量子磁强计测量了样品在温度范围 5~ 30 0K和磁场强度范围 0~ 5T内的磁化强度 .在中红外波段透过率曲线变化很小 .随着x的增加Cd1-xMnxIn2 Te4 的光学带隙移向高能端 .磁化率倒数 χ-1与温度T的关系曲线在高温区服从居里 万斯定律 ,在低温下x≥ 0 2 2时向下偏离该定律 .与具有相同Mn2 + 浓度的Cd1-xMnxTe晶体相比Cd1-xMnxIn2 Te4 晶体的交换积分常数较小 . 展开更多
关键词 稀磁半导体 Cd1-xMnxIn2te4 红外透过度 磁化率 反铁磁交换作用 DMS
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ACRT-B法生长的Mn_xCd_(1-x)In_2Te_4晶体的溶质分凝特性
10
作者 常永勤 介万奇 +2 位作者 郭喜平 陈福义 安卫军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期638-639,642,共3页
研究了ACRT B法生长的Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4晶体中界面的形状和各组元沿轴向的分布规律及其分凝因数。发现结晶界面为椭球形 ;采用理想配比生长MnxCd1-xIn2 Te4晶体 ,其4种组元并不按 (Mn ,Cd)∶In∶Te =1∶2∶4比例结晶 ,而是要重新分... 研究了ACRT B法生长的Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4晶体中界面的形状和各组元沿轴向的分布规律及其分凝因数。发现结晶界面为椭球形 ;采用理想配比生长MnxCd1-xIn2 Te4晶体 ,其4种组元并不按 (Mn ,Cd)∶In∶Te =1∶2∶4比例结晶 ,而是要重新分布 ;通过数学方法处理实验数据得到Mn ,Cd和In的分凝因数在α相区分别为 1.2 86、1.92 5 7和 0 .72 94,在 β相区则分别为1.12、1.0 5 5和 0 .985。 展开更多
关键词 MnxCd1-xIn2te4晶体 ACRT-B法 界面 分凝因数 磁性半导体
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Bridgman法生长的Mn_xCd_(1-x)In_2Te_4晶体相形成规律和物理性能研究
11
作者 常永勤 安卫军 +1 位作者 郭喜平 介万奇 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期275-282,共8页
采用Bridgman法生长了x为0.1,0.22和0.4的四元稀磁半导体化合物MnxCd1-xIn2Te4晶体.研究了三根晶体中相的形貌、结构、成分和Mn0.1Cd0.9In2Te4晶体中各组元沿轴向和径向的成分分布.晶体生长初始端的组织为α+β+β1,随着生长的进行,形... 采用Bridgman法生长了x为0.1,0.22和0.4的四元稀磁半导体化合物MnxCd1-xIn2Te4晶体.研究了三根晶体中相的形貌、结构、成分和Mn0.1Cd0.9In2Te4晶体中各组元沿轴向和径向的成分分布.晶体生长初始端的组织为α+β+β1,随着生长的进行,形成β相的单相区.在晶锭末端,形成In2Te3类面心立方结构化合物.组分x增大后,MnxCd1-xIn2Te4晶体的吸收边向短波方向移动,禁带宽度则线性增大.磁化率测量结果表明:晶体在高温区的x-1-T曲线服从居里-外斯定律,在低温区(<50K)则表现出顺磁增强现象. 展开更多
关键词 MnxCd1-xIn2te4 成分偏析 红外诱射光谱 磁化率
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GeSb_2Te_4薄膜表面分形维数计算及表征
12
作者 朱守星 朱世根 +1 位作者 范真 丁建宁 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期149-153,共5页
采用低功率直流磁控溅射法制备了GeSb2Te4薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的微观结构和相组成,研究了薄膜表面的分形特征.结果表明:沉积态GeSb2Te4薄膜为无规则、无择优取向的非晶材料;薄膜表面形貌... 采用低功率直流磁控溅射法制备了GeSb2Te4薄膜,利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和原子力显微镜(AFM)分析了薄膜的微观结构和相组成,研究了薄膜表面的分形特征.结果表明:沉积态GeSb2Te4薄膜为无规则、无择优取向的非晶材料;薄膜表面形貌AFM图像具有分形特征,基于自行编制的采用盒计数法求解随机分形维数的C语言程序,计算得到沉积态GeSb2Te4薄膜的分形维数为1.93;针对一维和二维随机分形多重分形谱的计算表明,沉积态GeSb2Te4薄膜满足分形的标度不变性;通过对沉积态和退火态薄膜进行多维分形谱计算,发现经过230℃退火处理的薄膜样品的多维分形谱较窄且晶化分布均匀. 展开更多
关键词 GeSb2te4 薄膜 分形维数 多维分形谱
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Mn_xCd_(1-x)In_2Te_4晶体生长及其性能研究
13
作者 常永勤 安卫军 +1 位作者 郭喜平 介万奇 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2002年第4期360-363,共4页
采用ACRT B法生长了四元稀磁半导体化合物Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4 晶体。采用扫描电镜、X射线衍射仪、ISIS能谱仪、Leica定量金相分析仪以及傅里叶变换红外光谱仪研究了晶体中相的结构、形貌、成分及晶片的红外透射光谱。发现晶体生长初始... 采用ACRT B法生长了四元稀磁半导体化合物Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4 晶体。采用扫描电镜、X射线衍射仪、ISIS能谱仪、Leica定量金相分析仪以及傅里叶变换红外光谱仪研究了晶体中相的结构、形貌、成分及晶片的红外透射光谱。发现晶体生长初始端由于溶质再分配而引起成分偏离配料比 ,结果出现三种相 :α相、β相和 β1相 ,其中α相和 β相是在晶体生长过程中形成的 ,随温度降低 ,从α相中又析出β1相。当晶体生长到稳定段 ,完全形成 β相。Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4 晶体从生长初始端到接近稳态区 ,β1相由规则排列的片状向不规则排列的近似圆片状发展。禁带宽度为 1.2eV的Mn0 .1Cd0 .9In2 Te4 在 10 0 0 0~ 4 0 0 0cm- 1的近红外波数范围内 ,其透过率最高达 83% ,在 4 0 0 0~5 0 0cm- 1的中红外波数范围内透过率为 5 9%~ 6 5 %。 展开更多
关键词 MnxCd1-xIn2te4 Β相 β1相 红外透射光谱 Α相 稀释磁性半导体
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GeSb_2Te_4薄膜表面形貌及力学性能的分形表征
14
作者 付永忠 丁建宁 +1 位作者 杨继昌 解国新 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期282-285,共4页
以不同溅射功率在Si(111)基底上制备了GeSb2Te4薄膜。用原子力显微镜和X射线衍射仪以及高度相关函数法分析了薄膜生长表面形貌的分形维,并用纳米硬度计研究了薄膜表面的力学性能。结果表明,随着溅射功率增大,薄膜表面质量提高,分形维增... 以不同溅射功率在Si(111)基底上制备了GeSb2Te4薄膜。用原子力显微镜和X射线衍射仪以及高度相关函数法分析了薄膜生长表面形貌的分形维,并用纳米硬度计研究了薄膜表面的力学性能。结果表明,随着溅射功率增大,薄膜表面质量提高,分形维增大,且硬度和弹性上升;但超过一定值后,薄膜表面质量又会降低,分形维也随之减小,硬度和弹性下降。并指出借助分形维数可以优化溅射工艺参数,并能够较好地表征薄膜表面力学性能。 展开更多
关键词 GeSb2te4薄膜 分形 表面形貌 力学性能
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EBD法制备ZnIn_2Te_4薄膜的性质与XPS研究
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作者 张瑞峰 李兴林 +1 位作者 李文范 于英 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第5期341-344,共4页
用电子束加热沉积法(EBD)制备了厚度420um的ZnIn2ZTe4薄膜。研究了最佳成膜工艺条件和性能,用电子能谱(XPS)分析了ZuIn2Te4薄膜的组成、结构和状态;典型ZnIn2Te4膜最佳参数为:电阻率ρ为3.2×10-1Ω·cm,Hall迁移率是... 用电子束加热沉积法(EBD)制备了厚度420um的ZnIn2ZTe4薄膜。研究了最佳成膜工艺条件和性能,用电子能谱(XPS)分析了ZuIn2Te4薄膜的组成、结构和状态;典型ZnIn2Te4膜最佳参数为:电阻率ρ为3.2×10-1Ω·cm,Hall迁移率是79cm2V-1s-1,载流子浓度是1.58×1017cm-3,禁带宽度(Eg)是2.33eV;探讨了ZuIn2Te4膜导电机理,制作了ZuIn2Te4-Si太阳能电池。 展开更多
关键词 ZnIn2te4 薄膜 EBD法 电子束 电子能谱
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碲化铜纳米材料的液相可控合成及其电导率 被引量:3
16
作者 史晓睿 王群 +3 位作者 吕羚源 李洋 俞潇 陈刚 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期433-438,共6页
采用溶剂热法在不同溶剂中(二正丙胺、丙酮和环己酮)分别制备了不同形貌的Cu7Te4纳米结构,包括厚度为200 nm,长度达几十微米的纳米带、粒径为10~25 nm的纳米粒子和由约10 nm的纳米粒子聚集构成的微米片,并使用XRD、SEM、TEM和HRTEM等... 采用溶剂热法在不同溶剂中(二正丙胺、丙酮和环己酮)分别制备了不同形貌的Cu7Te4纳米结构,包括厚度为200 nm,长度达几十微米的纳米带、粒径为10~25 nm的纳米粒子和由约10 nm的纳米粒子聚集构成的微米片,并使用XRD、SEM、TEM和HRTEM等测试手段对其进行了表征.此外,在室温到400℃范围内测试了三种形貌样品的电导率随温度的变化曲线,研究表明,在相同的测试条件下,由Cu7Te4纳米带制备的块体材料的电导率显著高于另外两种形貌样品.最后,对反应机理和三种溶剂环境对产物形貌的影响进行了探讨. 展开更多
关键词 Cu7te4 纳米结构 电导率 反应机理
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GeSb_2Te_4纳米薄膜的原位透射电子显微学研究 被引量:2
17
作者 宋建祥 朱海音 刘显强 《电子显微学报》 CAS CSCD 2017年第3期202-206,共5页
相变材料GeSbTe亚稳相中的局域结构长期以来一直是研究的热点,特别是亚稳相中Ge原子的分布对相变过程的进行具有重要作用。本文主要利用透射电子显微学,电子衍射技术和基于电子衍射技术的径向分布函数对不同时效温度时效过程中GeSb_2Te_... 相变材料GeSbTe亚稳相中的局域结构长期以来一直是研究的热点,特别是亚稳相中Ge原子的分布对相变过程的进行具有重要作用。本文主要利用透射电子显微学,电子衍射技术和基于电子衍射技术的径向分布函数对不同时效温度时效过程中GeSb_2Te_4亚稳相的原子结构进行了深入研究。通过对径向分布函数的研究表明:250℃时效60min时GeSb_2Te_4亚稳相中几乎所有的Ge原子都位于四面体位置,局域形成类尖晶石结构;而时效温度为150℃、200℃下分别时效60min时发现没有或者几乎没有Ge原子位于四面体位置,时效后的结构以岩盐矿结构为主,部分晶化为六方结构。 展开更多
关键词 GeSb2te4 时效温度 电子显微学 径向分布函数
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GeSb_2Te_4亚稳相原子结构的透射电子显微学研究 被引量:1
18
作者 朱海音 宋建祥 刘显强 《电子显微学报》 CAS CSCD 2015年第5期377-381,共5页
由于Ge原子在相变过程中的重要作用,使其在Ge Sb Te合金亚稳相中的局域结构长期以来为人们所关注。本文利用电子衍射技术和基于电子衍射的径向分布函数,以及高分辨电子显微学,对Ge Sb2Te4亚稳相的原子结构进行了深入研究。径向分布函数G... 由于Ge原子在相变过程中的重要作用,使其在Ge Sb Te合金亚稳相中的局域结构长期以来为人们所关注。本文利用电子衍射技术和基于电子衍射的径向分布函数,以及高分辨电子显微学,对Ge Sb2Te4亚稳相的原子结构进行了深入研究。径向分布函数G(r)显示,在Ge Sb2Te4亚稳相中几乎所有的Ge原子都为四面体构型;实验及模拟高分辨像结果表明,由于几乎所有的Ge占据Te四面体的中心,Ge Sb2Te4亚稳相形成了一种类尖晶石结构而非人们广泛接受的岩盐矿结构。 展开更多
关键词 GeSb2 te4 亚稳相 电子显微学 径向分布函数
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Microstructure and Mechanical Properties of Heat-treated GeSb_2Te_4 Thin Films 被引量:2
19
作者 丁建宁 解国新 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2007年第2期196-200,共5页
The effect of annealing on microstructure, adhesive and frictional properties of GeSb2Te4 films were experimentally studied. The GeSb2Te4 films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering, and anneale... The effect of annealing on microstructure, adhesive and frictional properties of GeSb2Te4 films were experimentally studied. The GeSb2Te4 films were prepared by radio frequency (RF) magnetron sputtering, and annealed at 200℃ and 340℃ under vacuum circumstance, respectively. The adhesion and friction experiments were mainly conducted with a lateral force microscope (LFM) for the GeSb2Te4 thin films before and after annealing. Their morphology and phase structure were analyzed by using atomic force microscopy (AFM) and X-ray Diffraction (XRD) techniques, and the nanoindention was employed to evaluate their hardness values. Moreover, an electric force microscope (EFM) was used to measure the surface potential. It is found that the deposited GeSb2Te4 thin film undergoes an amorphous-to-fcc and fcc-to-hex structure transition; the adhesion has a weaker dependence on the surface roughness, but a certain correlation with the surface potential of GeSb2Te4 thin films. And the friction behavior of GeSb2Te4 thin films follows their adhesion behavior under a lower applied load. However, such a relation is replaced by the mechanical behavior when the load is relatively higher. Moreover, the GeSb2Te4 thin film annealed at 340℃ presents a lubricative property. 展开更多
关键词 GeSb2te4 films ANNEALING MICROSTRUCTURE mechanical properties FRICTION
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[Mn(en)_3]_2·Sn_2Se_4Te_2的结构和光吸收性能
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作者 韩克飞 夏芸 +1 位作者 王平 郭洪猷 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期401-407,共7页
按照K_2Se:K_2Te_2:MnCl_2·4H_2O:SnCl_2·2H_2O:Se:乙二胺(en)=3.8:1:2:2:6:270的摩尔比配料,采用溶剂热法使原料混合物在180℃反应7d,得到黑色块状晶体[Mn(en)_3]_2·Sn_2Se_4Te_2。属于三斜晶系。空间群为P1,晶胞参数a=... 按照K_2Se:K_2Te_2:MnCl_2·4H_2O:SnCl_2·2H_2O:Se:乙二胺(en)=3.8:1:2:2:6:270的摩尔比配料,采用溶剂热法使原料混合物在180℃反应7d,得到黑色块状晶体[Mn(en)_3]_2·Sn_2Se_4Te_2。属于三斜晶系。空间群为P1,晶胞参数a=0.91428(7)nm,b=1.02781(7)nm,c=1.15745(8)nm,α=94.632(2)°,β=100.944(2)°,γ=115.918(1)°,V=0.94382(12)nm^3,Z=1。晶体由[Mn(en)_3]^(2+)和(Sn_2Se_4Te_2)^(4-)堆积而成。具有Zintl结构的特征。半导体[Mn(en)_3]_2·Sn_2Se_4Te_2的光学能隙(E_g)为2.2eV。当温度低于190℃时,[Mn(en)_3]_2·Sn_2Se_4Te_2晶体是稳定的。详细讨论了这类化合物的组成对晶体结构和光吸收性能的影响。 展开更多
关键词 无机非金属材料 [Mn(en)3]2·Sn2Se4Te2 溶剂热法合成 晶体结构 反射光谱
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