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Photolithography Process Simulation for Integrated Circuits and Microelectromechanical System Fabrication 被引量:1
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作者 周再发 黄庆安 李伟华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期705-711,共7页
Simulations of photoresist etching,aerial image,exposure,and post-bake processes are integrated to obtain a photolithography process simulation for microelectromechanical system(MEMS) and integrated circuit(IC) fa... Simulations of photoresist etching,aerial image,exposure,and post-bake processes are integrated to obtain a photolithography process simulation for microelectromechanical system(MEMS) and integrated circuit(IC) fabrication based on three-dimensional (3D) cellular automata(CA). The simulation results agree well with available experimental results. This indicates that the 3D dynamic CA model for the photoresist etching simulation and the 3D CA model for the post-bake simulation could be useful for the monolithic simulation of various lithography processes. This is determined to be useful for the device-sized fabrication process simulation of IC and MEMS. 展开更多
关键词 cellular automata process simulation photolithography simulation MODEL tcad
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Dynamic infrared scene simulation using grayscale modulation of digital micro-mirror device 被引量:7
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作者 Zhang Kai Huang Yong +1 位作者 Yan Jie Sun Li 《Chinese Journal of Aeronautics》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第2期394-400,共7页
Dynamic infrared scene simulation is for discovering and solving the problems encountered in designing, developing and manufacturing infrared imaging guidance weapons. The infrared scene simulation is explored by usin... Dynamic infrared scene simulation is for discovering and solving the problems encountered in designing, developing and manufacturing infrared imaging guidance weapons. The infrared scene simulation is explored by using the digital grayscale modulation method. The infrared image modulation model of a digital micro-mirror device (DMD) is established and then the infrared scene simulator prototype which is based on DMD grayscale modulation is developed. To evaluate its main parameters such as resolution, contrast, minimum temperature difference, gray scale, various DMD subsystems such as signal decoding, image normalization, synchronization drive, pulse width modulation (PWM) and DMD chips are designed. The infrared scene simulator is tested on a certain infrared missile seeker. The test results show preliminarily that the infrared scene simulator has high gray scale, small geometrical distortion and highly resolvable imaging resolution and contrast and yields high-fidelity images, thus being able to meet the requirements for the infrared scene simulation inside a laboratory. 展开更多
关键词 Digital grayscale modulation Digital micro-mirror device Gray scale Image processing Infrared scene simulation MODELS Pulse width modulation
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Multi-relaxation-time lattice Boltzmann simulations of lid driven flows using graphics processing unit
3
作者 Chenggong LI J.P.Y.MAA 《Applied Mathematics and Mechanics(English Edition)》 SCIE EI CSCD 2017年第5期707-722,共16页
Large eddy simulation (LES) using the Smagorinsky eddy viscosity model is added to the two-dimensional nine velocity components (D2Q9) lattice Boltzmann equation (LBE) with multi-relaxation-time (MRT) to simul... Large eddy simulation (LES) using the Smagorinsky eddy viscosity model is added to the two-dimensional nine velocity components (D2Q9) lattice Boltzmann equation (LBE) with multi-relaxation-time (MRT) to simulate incompressible turbulent cavity flows with the Reynolds numbers up to 1 × 10^7. To improve the computation efficiency of LBM on the numerical simulations of turbulent flows, the massively parallel computing power from a graphic processing unit (GPU) with a computing unified device architecture (CUDA) is introduced into the MRT-LBE-LES model. The model performs well, compared with the results from others, with an increase of 76 times in computation efficiency. It appears that the higher the Reynolds numbers is, the smaller the Smagorinsky constant should be, if the lattice number is fixed. Also, for a selected high Reynolds number and a selected proper Smagorinsky constant, there is a minimum requirement for the lattice number so that the Smagorinsky eddy viscosity will not be excessively large. 展开更多
关键词 large eddy simulation (LES) multi-relaxation-time (MRT) lattice Boltzmann equation (LBE) two-dimensional nine velocity components (D2Q9) Smagorinskymodel graphic processing unit (GPU) computing unified device architecture (CUDA)
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Performance enhancement of IGZO thin-film transistors via ultra-thin HfO_(2) and the implementation of logic device functionality
4
作者 Xuyang Li Bin Liu +7 位作者 Xianwen Liu Shuo Zhang Congyang Wen Jin Zhang Haifeng Liang Guangcai Yuan Jianshe Xue Zhinong Yu 《Chinese Physics B》 2025年第7期449-455,共7页
The enhancement of mobility has always been a research focus in the field of thin-film transistors(TFTs).In this paper,we report a method using ultra-thin HfO2to improve the electrical performance of indium gallium zi... The enhancement of mobility has always been a research focus in the field of thin-film transistors(TFTs).In this paper,we report a method using ultra-thin HfO2to improve the electrical performance of indium gallium zinc oxide(IGZO)TFTs.HfO2not only repairs the surface morphology of the active layer,but also increases the carrier concentration.When the thickness of the HfO_(2) film was 3 nm,the mobility of the device was doubled(14.9 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)→29.6 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)),and the device exhibited excellent logic device performance.This paper provides a simple and effective method to enhance the electrical performance of IGZO TFTs,offering new ideas and experimental foundation for research into high-performance metal oxide(MO)TFTs. 展开更多
关键词 thin-film transistors metal oxide indium gallium zinc oxide(IGZO) logic devices tcad simulation
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Silvaco TCAD仿真软件的应用对于学生实践能力的培养 被引量:3
5
作者 黄玮 徐振邦 《教育教学论坛》 2018年第24期246-247,共2页
高职院校学生实践能力的培养是重中之重,针对微电子专业学生,本文讨论了工艺和器件仿真软件Silvcaco在教学和创新实践培养中的应用,通过软件的使用,使学生锻炼了自己的分析能力,加强了对专业知识的认知,提高了自身的实践能力。
关键词 silvaco tcad 实践能力 仿真应用
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利用SILVACO TCAD软件改进集成电路实践教学的研究 被引量:9
6
作者 朱筠 《数字技术与应用》 2012年第7期114-116,共3页
日益成熟的集成电路工艺与器件计算机辅助设计工具有助于缩短半导体工艺和器件的开发周期、降低开发成本,因而越来越被广泛应用。通过模拟软件Silvaco TCAD对工艺进行仿真,了解实际集成电路生产涉及的氧化、扩散、淀积、光刻、刻蚀、平... 日益成熟的集成电路工艺与器件计算机辅助设计工具有助于缩短半导体工艺和器件的开发周期、降低开发成本,因而越来越被广泛应用。通过模拟软件Silvaco TCAD对工艺进行仿真,了解实际集成电路生产涉及的氧化、扩散、淀积、光刻、刻蚀、平坦化等一系列工艺过程;对器件的仿真,熟悉专业基础课程内容如器件的基本结构、材料的性能、载流子的浓度和工作电压等对器件各种性能的影响。并可以加深学生对课程理论的理解,同时提高学习兴趣,从而获得良好教学效果。 展开更多
关键词 silvaco tcad 工艺仿真 器件仿真
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Simulation of Gate-All-Around Cylindrical Transistors for Sub-10 Nanometer Scaling
7
作者 肖德元 谢志峰 +2 位作者 季明华 王曦 俞跃辉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期447-457,共11页
A gate-all-around cylindrical (GAAC) transistor for sub-10nm scaling is proposed. The GAAC transistor device physics,TCAD simulation,and proposed fabrication procedure are reported for the first time. Among all othe... A gate-all-around cylindrical (GAAC) transistor for sub-10nm scaling is proposed. The GAAC transistor device physics,TCAD simulation,and proposed fabrication procedure are reported for the first time. Among all other novel FinFET devices, the gate-all-around cylindrical device can be particularly applied for reducing the problems of the conventional multi-gate FinFET and improving the device performance and the scale down capability. According to our simulation,the gate-all-around cylindrical device shows many benefits over conventional multi-gate FinFET, including gate-all- around rectangular (GAAR) devices. With gate-all-around cylindrical architecture,the transistor is controlled by an essen- tially infinite number of gates surrounding the entire cylinder-shaped channel. The electrical integrity within the channel is improved by reducing the leakage current due to the non-symmetrical field accumulation such as the corner effect. The proposed fabrication procedures for devices having GAAC device architecture are also discussed. The method is characterized by its simplicity and full compatibility with conventional planar CMOS technology. 展开更多
关键词 gate-all-around cylindrical transistor device physics tcad simulation fabrication procedure
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Real-time 3D Microtubule Gliding Simulation Accelerated by GPU Computing
8
作者 Gregory Gutmann Daisuke Inoue +1 位作者 Akira Kakugo Akihiko Konagaya 《International Journal of Automation and computing》 EI CSCD 2016年第2期108-116,共9页
A microtubule gliding assay is a biological experiment observing the dynamics of microtubules driven by motor proteins fixed on a glass surface. When appropriate microtubule interactions are set up on gliding assay ex... A microtubule gliding assay is a biological experiment observing the dynamics of microtubules driven by motor proteins fixed on a glass surface. When appropriate microtubule interactions are set up on gliding assay experiments, microtubules often organize and create higher-level dynamics such as ring and bundle structures. In order to reproduce such higher-level dynamics on computers, we have been focusing on making a real-time 3D microtubule simulation. This real-time 3D microtubule simulation enables us to gain more knowledge on microtubule dynamics and their swarm movements by means of adjusting simulation paranleters in a real-time fashion. One of the technical challenges when creating a real-time 3D simulation is balancing the 3D rendering and the computing performance. Graphics processor unit (GPU) programming plays an essential role in balancing the millions of tasks, and makes this real-time 3D simulation possible. By the use of general-purpose computing on graphics processing units (GPGPU) programming we are able to run the simulation in a massively parallel fashion, even when dealing with more complex interactions between microtubules such as overriding and snuggling. Due to performance being an important factor, a performance n, odel has also been constructed from the analysis of the microtubule simulation and it is consistent with the performance measurements on different GPGPU architectures with regards to the number of cores and clock cycles. 展开更多
关键词 Microtubule gliding assay 3D computer graphics and simulation parallel computing performance analysis general- purpose computing on graphics processing units (GPGPU) compute unified device arshitecture (CUDA) DirectX.
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1200 V SiC器件单粒子烧毁效应研究
9
作者 徐海铭 王登灿 吴素贞 《电子与封装》 2025年第8期87-91,共5页
随着宇航工程的发展,以第三代半导体SiC为代表的新型元器件将极大提高宇航器性能,将成为未来空间应用的主力军。新型元器件的空间应用要应对空间辐射效应带来的风险,需要开展实验分析和相关保障研究。对1200 V SiC器件进行了单粒子仿真... 随着宇航工程的发展,以第三代半导体SiC为代表的新型元器件将极大提高宇航器性能,将成为未来空间应用的主力军。新型元器件的空间应用要应对空间辐射效应带来的风险,需要开展实验分析和相关保障研究。对1200 V SiC器件进行了单粒子仿真和重离子环境实验,创新性地提出了SiC器件在单粒子环境下的失效机理,分析了导致SiC器件失效的原因,给出了仿真条件下SiC器件不同区域的单粒子敏感度。 展开更多
关键词 第三代半导体 SiC功率器件 MOSFET 单粒子烧毁 tcad仿真
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车载液氢气瓶防过充装置性能研究
10
作者 许家琛 邵建琴 +1 位作者 金树峰 李江龙 《低温工程》 北大核心 2025年第2期67-77,共11页
为了使车载液氢气瓶在服役周期内安全运行,在其内部设置气包结构的防过充装置,并基于CFD多物理场耦合仿真探究了气包孔径、加注速率、气包容积和初始压力等因素对防过充装置的性能影响规律。结果表明:气包孔径是影响防过充装置性能的主... 为了使车载液氢气瓶在服役周期内安全运行,在其内部设置气包结构的防过充装置,并基于CFD多物理场耦合仿真探究了气包孔径、加注速率、气包容积和初始压力等因素对防过充装置的性能影响规律。结果表明:气包孔径是影响防过充装置性能的主要因素,气瓶最终充装率与气包孔径呈正相关:孔径从2 mm增大到6 mm时,气瓶最终充装率由89.4%升高至91.7%,但当孔径超过3 mm时,最终充装率突破安全阈值,极易引发过充风险;气相安全空间与气包孔径呈负相关,当孔径为2 mm时,气瓶的气相空间体积仅为气瓶容积的8.5%,不满足气相安全空间要求;增大初始压力虽能提升瓶体内腔与气包间的压力梯度,有效缩短气瓶加注时间,但随着初始压力增大,气瓶最终充装率减小,初始压力为0.8 MPa时,最终充装率为82.8%,相比初始压力0.1 MPa时下降了5%。 展开更多
关键词 防过充装置 加注过程 静置过程 数值模拟
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基于围栅的高集成单器件反相器的研究
11
作者 张毅 刘溪 《微处理机》 2025年第6期12-16,共5页
针对传统场效应晶体管反相器因摩尔定律的局限性,提出了一种基于围栅的高集成单器件反相器。该器件采用非对称偏置架构(源极接VSS为低电压,漏极接VDD为高电压),在源极-中央硅区导带界面构建高肖特基势垒,通过直接隧穿机制(隧穿概率>8... 针对传统场效应晶体管反相器因摩尔定律的局限性,提出了一种基于围栅的高集成单器件反相器。该器件采用非对称偏置架构(源极接VSS为低电压,漏极接VDD为高电压),在源极-中央硅区导带界面构建高肖特基势垒,通过直接隧穿机制(隧穿概率>85%)实现载流子输运;同时在漏极-价带异质结处优化形成低肖特基势垒,该能带可有效消除寄生空穴注入现象。该器件采用围栅结构,仅需要一个晶体管即可实现反相器的基本功能。通过使用Silvaco TCAD对器件进行仿真,结果表明该设计能够实现反相器功能,与传统的CMOS反相器相比,具有更高的集成度和更低的功耗。 展开更多
关键词 反相器 肖特基势垒 围栅 silvaco tcad仿真
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高低高肖特基势垒隧道晶体管的优化研究
12
作者 梁家乐 刘溪 《微处理机》 2025年第6期25-28,共4页
为缩小隧道晶体管体积以提高集成度,基于高低高肖特基势垒导通机理,提出了一种新型高低高肖特基势垒双向隧道晶体管(HLHSB-BTFET)的优化结构,并使用Silvaco TCAD仿真软件进行了验证。该器件摒弃了传统的U型栅结构,采用围栅全包裹结构,... 为缩小隧道晶体管体积以提高集成度,基于高低高肖特基势垒导通机理,提出了一种新型高低高肖特基势垒双向隧道晶体管(HLHSB-BTFET)的优化结构,并使用Silvaco TCAD仿真软件进行了验证。该器件摒弃了传统的U型栅结构,采用围栅全包裹结构,并将中间级合金嵌入器件内部,直接对沟道位置进行调整。其有效沟道长度不再由源/漏极与中间金属的距离直接决定,而是取决于源/漏极之间的绝缘层高度。这种新型结构的高低高肖特基势垒双向隧道晶体管拥有更小的器件体积。仿真结果表明,优化后的晶体管在开态电流方面几乎没有损失,同时显著缩小了体积。 展开更多
关键词 隧穿场效应晶体管 肖特基势垒 带间隧穿 silvaco tcad仿真
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TCAD在半导体工艺课程虚拟实验中的应用 被引量:2
13
作者 周郁明 《安徽工业大学学报(社会科学版)》 2015年第3期109-110,共2页
"半导体工艺"是一门理论与实验结合紧密的课程,通过TCAD虚拟平台开展实验教学,可节约成本、减少实验时间,可增强教学的直观性、提高教学效果,还可激发学生学习兴趣,增强实践、创新能力。
关键词 tcad 半导体工艺 虚拟实验教学
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单粒子效应TCAD数值仿真的三维建模方法
14
作者 陈睿 纪冬梅 +2 位作者 封国强 沈忱 韩建伟 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期289-295,共7页
文中探讨了单粒子效应数值仿真建模的问题。首先,基于对单阱N+-P结构的二极管在重离子辐照下的TCAD仿真,研究电流脉冲和电荷收集特性对器件模型几何尺寸与比例的依赖关系,进一步给出了精确仿真单粒子效应所需的模型尺寸的实用标准。其次... 文中探讨了单粒子效应数值仿真建模的问题。首先,基于对单阱N+-P结构的二极管在重离子辐照下的TCAD仿真,研究电流脉冲和电荷收集特性对器件模型几何尺寸与比例的依赖关系,进一步给出了精确仿真单粒子效应所需的模型尺寸的实用标准。其次,讨论阱接触电极的位置对电流脉冲和电荷收集的影响,指出对阱接触的正确建模的必要性。 展开更多
关键词 单粒子效应 数值仿真 tcad 器件模型 几何效应 阱接触
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微电子工艺虚实融合式教学研究与实践
15
作者 刘森 宋兵 +2 位作者 孙毅 陈雷 李楠 《高教学刊》 2025年第5期120-123,共4页
该文深入探讨微电子工艺教学中的虚实融合教学模式,旨在通过构建虚拟仿真平台与微纳电子技术支撑平台,打破传统教学中对高端实验设备的依赖,实现理论教学与实践操作的深度融合。通过引入沉浸式VR技术,为学生创造一个近乎真实的微电子工... 该文深入探讨微电子工艺教学中的虚实融合教学模式,旨在通过构建虚拟仿真平台与微纳电子技术支撑平台,打破传统教学中对高端实验设备的依赖,实现理论教学与实践操作的深度融合。通过引入沉浸式VR技术,为学生创造一个近乎真实的微电子工艺学习环境,不仅提高教学效果,还降低教学成本。该教学模式注重学生创新思维与实践能力的培养,使学生在虚拟环境中反复练习,深入理解复杂工艺流程,掌握前沿技术动态。这一创新教学模式不仅提升学生解决复杂工艺问题的能力,还为国家微电子工艺高素质科技人才培养提供有效途径。 展开更多
关键词 微电子工艺 虚实融合 虚拟仿真平台 沉浸式教学 器件制备
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国产化叠层电容工艺的失效机理与可靠性研究
16
作者 王烁 王静 +2 位作者 琚安安 赵容 孔泽斌 《集成电路与嵌入式系统》 2025年第1期29-33,共5页
通过对国产运算放大器的一项失效分析研究,揭示了由于工艺变更引起的叠层MIS电容短路是导致器件失效的主要原因。在低电场条件下,电容表现正常,但在高电场条件下,由于Fowler Nordheim隧穿效应,热电子碰撞引发的缺陷积累最终导致了电容... 通过对国产运算放大器的一项失效分析研究,揭示了由于工艺变更引起的叠层MIS电容短路是导致器件失效的主要原因。在低电场条件下,电容表现正常,但在高电场条件下,由于Fowler Nordheim隧穿效应,热电子碰撞引发的缺陷积累最终导致了电容的短路失效。通过Sentaurus TCAD仿真分析,验证了界面掺杂原子浓度差异对氧化层生长速率的影响,并提出了相应的工艺改进建议,进而提升国产芯片的可靠性。 展开更多
关键词 失效分析 多晶硅氧化 国产化工艺 掺杂扩散 电容击穿 Sentauru tcad仿真
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基于少数载流子寿命控制技术的增强型β-Ga_(2)O_(3)VDMOS器件的单粒子烧毁效应研究
17
作者 王韬 陈加伟 +4 位作者 段鑫沛 张黎莉 董磊 殷亚楠 周昕杰 《固体电子学研究与进展》 2025年第3期1-6,共6页
探究了具有电流阻挡层(Current blocking layer,CBL)的增强型β-Ga_(2)O_(3)VDMOS器件的单粒子烧毁(Single-event burnout,SEB)机制及其抗辐射加固方法。通过TCAD仿真分析,揭示了SEB关键物理机制:重离子轰击导致沟道?源极连接区域产生... 探究了具有电流阻挡层(Current blocking layer,CBL)的增强型β-Ga_(2)O_(3)VDMOS器件的单粒子烧毁(Single-event burnout,SEB)机制及其抗辐射加固方法。通过TCAD仿真分析,揭示了SEB关键物理机制:重离子轰击导致沟道?源极连接区域产生空穴累积,并通过碰撞电离过程不断生成额外空穴,最终引发局部热失效和器件烧毁。针对这一机制,本文提出少数载流子寿命控制(Low carrier lifetime control,LCLC)技术,通过引入深能级缺陷降低载流子寿命,有效优化空穴浓度与峰值电场分布。实验表明,在Vds=400 V、Vgs=0 V的偏置条件下,当重离子线性能量转移值为49 Me V·cm^2/mg时,LCLC技术将器件峰值温度从2556 K降至1066 K,显著低于材料熔点(2000 K)。该技术通过优化空穴分布和电场分布,有效抑制了碰撞电离效应和热功率集中现象,为增强型β-Ga_(2)O_(3)VDMOS器件的抗SEB加固设计提供了新的技术路径。 展开更多
关键词 氧化镓 tcad仿真 VDMOS器件 单粒子烧毁
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某重型机械结构装载特性数值仿真分析
18
作者 赵子峰 雷威 +1 位作者 潘永军 张斐然 《科学技术创新》 2025年第7期205-208,共4页
本文以某重型机械结构的转运装置为研究对象,对货物进行转运过程的受力进行了分析,建立数值仿真计算模型,研究转运装置转运货物过程中其主梁应力和形变的变化,并与理论计算结果进行了对比分析。研究结果表明,货物初始放置到转运装置上... 本文以某重型机械结构的转运装置为研究对象,对货物进行转运过程的受力进行了分析,建立数值仿真计算模型,研究转运装置转运货物过程中其主梁应力和形变的变化,并与理论计算结果进行了对比分析。研究结果表明,货物初始放置到转运装置上时为极限工况,随着转运过程的进行,主梁的应力和形变均不断缩小。 展开更多
关键词 转运装置 转运过程 应力形变 数值仿真
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多支路组合标准表法气体流量标准装置工艺优化研究
19
作者 侯阳 付顺康 +3 位作者 魏娜 王柯栩 刘博韬 杨阔 《石油工业技术监督》 2025年第10期31-34,45,共5页
天然气贸易计量流量计一般使用标准表法气体流量标准装置检定校准,流量标准装置往往通过采用多条相同口径的标准涡轮流量计支路并联组合的设计方式,由于检定台位工艺和位置的不同,存在每条标准表支路流量不均衡的问题,导致部分标准涡轮... 天然气贸易计量流量计一般使用标准表法气体流量标准装置检定校准,流量标准装置往往通过采用多条相同口径的标准涡轮流量计支路并联组合的设计方式,由于检定台位工艺和位置的不同,存在每条标准表支路流量不均衡的问题,导致部分标准涡轮流量计超过流量上限的情况,因此利用连续性方程、动量方程、能量方程和湍流方程对流场仿真模拟。通过流体力学理论针对典型管道进行计算,建立工艺流程数据模型,结合三维仿真技术进行模拟,结合11条标准支路工作级标准装置开展实际测试验证,给出最优的标准表支路设计方案,合理设计标准表法气体流量标准装置的工艺,给出了标准装置支路组合方法,保证了标准装置运行工艺达到较高的技术水平。 展开更多
关键词 计量标准 工艺条件 流场模拟 标准装置
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基于TCAD软件的单层多晶EEPROM器件模拟分析 被引量:2
20
作者 邓勇 宣晓峰 +1 位作者 许高斌 杨明武 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期15-18,共4页
利用TCAD软件对单层多晶EEPROM器件特性进行了模拟分析,介绍了单层多晶EEPROM存储单元结构与原理的基础,针对TCAD软件中模拟分析单层多晶EEPROM器件特性时存在的困难,提出了一种两个MOS管外加电阻的等效模型来替代单层多晶EEPROM存储单... 利用TCAD软件对单层多晶EEPROM器件特性进行了模拟分析,介绍了单层多晶EEPROM存储单元结构与原理的基础,针对TCAD软件中模拟分析单层多晶EEPROM器件特性时存在的困难,提出了一种两个MOS管外加电阻的等效模型来替代单层多晶EEPROM存储单元结构进行等效模拟。通过编程模拟了单层多晶EEPROM器件性能,模拟分析得到的特性曲线与理论曲线能较好吻合,验证了等效模型方案的可行性。 展开更多
关键词 单层多晶EEPROM tcad软件 等效模型 器件模拟
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