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RFCVD法沉积类金刚石膜的研究
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作者 王益军 严诚 《咸阳师范学院学报》 1999年第6期19-21,36,共4页
研究了利用RFCVD技术,在铝片等基体表面沉积类金刚石膜。对膜的硬度、电阻率、附着力进行分析发现,在合适的气体流量比和射频功率密度下,这些性能可显著提高。
关键词 类金刚石膜 rfcvd 功率密度
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掺氮类金刚石薄膜(α-C:H:N)显微结构的研究 被引量:2
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作者 张伟丽 居建华 +2 位作者 夏义本 王林军 方志军 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2000年第5期391-394,共4页
用射频等离子体化学气相沉积法(RF-CVD)和CH4、N2与Ar组成的混合气体制备掺氮类金刚石薄膜(a-C: H: N).用原子力显微镜(AFM)、俄歇电子能谱(AES)、红外光谱(IR)以及显微拉曼谱(Micro-R... 用射频等离子体化学气相沉积法(RF-CVD)和CH4、N2与Ar组成的混合气体制备掺氮类金刚石薄膜(a-C: H: N).用原子力显微镜(AFM)、俄歇电子能谱(AES)、红外光谱(IR)以及显微拉曼谱(Micro-Raman)对 a-C: H:N薄膜的表面形貌、组分和微观结构进行表征.实验结果表明,薄膜中有纳米量级的颗粒存在,而且随反应气体 中N2与CH4比值的增大,薄膜中的氮元素含量也随之增大,并主要以C—N键和N—H键形式存在,少量以C=N 键形式存在.N2的掺入使类金刚石薄膜中C—H键含量降低,SP3成份增加, 展开更多
关键词 显微结构 类金刚石薄膜 掺氮
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Field Emission of SiCN Thin Films Bombarded by Ar^+ Ions 被引量:1
3
作者 Ma You\|peng, Li Jin\|chai , Guo Huai\|xi, Lu Xian\|feng, Chen Ming\|an, Ye Ming\|sheng School of Physics and Technology, Wuhan University, Wuhan 430072, Hubei, China 《Wuhan University Journal of Natural Sciences》 CAS 2003年第03A期829-832,共4页
SiCN thin films were synthesized by a radio frequency chemical vapor deposition (RFCVD) system on P\|type Si (1 0 0) wafers using C 2 H 4 , SiH 4 and N 2 as raw materials. In order to get rid of the ... SiCN thin films were synthesized by a radio frequency chemical vapor deposition (RFCVD) system on P\|type Si (1 0 0) wafers using C 2 H 4 , SiH 4 and N 2 as raw materials. In order to get rid of the oxygen absorbed on the surface and improve the characteristics of electron field emission, Ar + ions of low energy were used to bombard the samples. The field emission characteristics of SiCN thin films before and after Ar + bombardment were studied in the super vacuum environment of 10 -6 Pa. It was showed that the turn\|on field (defined as the point where the current\|voltage curve shows a sharp increase in the current density) decreased from 38 V/μm before bombardment to 25 V/μm after bombardment. And the maximum emission current density increased from 159.2 to 267.4 μA/cm 2 . The composition before and after Ar + bombardment was compared using X\|ray photoelectron spectroscopy (XPS). Our results illustrated that the field emission characteristics were improved after the bombardment of Ar + . 展开更多
关键词 SiCN thin films rfcvd electron field emission X\|ray photoelectron spectroscopy (XPS)
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采用End-Hall源沉积类金刚石膜 被引量:3
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作者 洪伟 赵友博 张铁群 《光学仪器》 2006年第5期75-80,共6页
介绍了两种普遍采用的类金刚石(DLC)膜沉积方法。在此基础上叙述了采用End-H all源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-H all源沉积方式能够消除RFCVD... 介绍了两种普遍采用的类金刚石(DLC)膜沉积方法。在此基础上叙述了采用End-H all源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-H all源沉积方式能够消除RFCVD沉积方式所带来的边缘效应。 展开更多
关键词 类金刚石膜 射频等离子放电沉积 End-Hall源 边缘效应
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End—Hall源沉积类金刚石膜的实验
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作者 洪伟 赵友博 张铁群 《南开大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期1-4,9,共5页
介绍了采用 End-Hall 源沉积 DLC 膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和 DLC 膜样品的分析,可看出用 End-Hall 源沉积方式能够消除 RFCVD 沉积方式所带来的边缘效应.
关键词 类金刚石膜 End—Hall源 射频等离子放电沉积 边缘效应
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