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反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用
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作者 王琼 张观明 《半导体杂志》 1998年第2期43-48,共6页
反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速，成膜的机制，及其在薄膜制备中的应用。
关键词 r-icbd 离化团束沉积 薄膜 制备
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